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  • 一种二极管引线一体成型机。涉及二极管加工领域。包括工作台,还包括浇注装置,所述工作台的中间设有凹槽,所述凹槽内设有治具;所述工作台上位于凹槽的两端分别设有X向轨道,所述X向轨道内滑动设有立柱,一对立柱之间设有横杆,所述横杆上设有Y向移动的出...
  • 本申请提供了一种形成电子器件的方法。所述方法包括:提供封装基板,所述封装基板具有形成于其上的第一组导电衬垫;在所述封装基板上形成多个支撑元件,所述多个支撑元件不覆盖所述第一组导电衬垫;将焊料材料沉积到所述第一组导电衬垫上;将具有第二组导电衬...
  • 本公开实施例提供一种半导体结构及其形成方法,该半导体结构的形成方法包括:提供基底结构;所述基底结构包括第一区域;在第一区域上形成图案化的复合铝垫层;复合铝垫层包括复合铝垫结构,复合铝垫结构包括沿第一方向依次层叠的第一阻挡层、第一铝垫层、第二...
  • 本公开实施例提供一种半导体结构的形成方法,包括:提供基底结构;基底结构包括沿第一方向并列排布的第一区域和第二区域;第一方向垂直于基底结构的厚度方向;在第一区域上形成第一铝垫结构,并在第二区域上形成第二铝垫结构;第一铝垫结构包括第一阻挡层、第...
  • 本发明公开了电子装置和制造电子装置的方法。在一个示例中,一种电子装置包括下基板、上基板、内部互连件、桥接部件、下包封体和电子部件。内部互连件将下基板的上侧耦接到上基板的下侧。桥接部件包括耦接到上基板的桥接第一互连件、耦接到下基板的第二互连件...
  • 本申请公开了一种芯片封装结构的制作方法及芯片封装结构,涉及芯片封装技术领域。该方法包括提供一基板和一载板,载板具有贯穿载板的多个第一通孔和多个第二通孔;在基板的一侧形成多个第一导电柱和多个芯片组件,芯片组件包括芯片、位于芯片远离基板一侧的引...
  • 本发明公开了一种嵌埋封装结构及其制作方法,涉及封装基板技术领域。该方法包括:准备框架;在空腔内放置至少一个第一器件,并从框架的第一面对空腔内的第一器件进行塑封;在框架的第二面设置第一线路层,通过第一线路层将第一器件的第一信号端子扇出至第一器...
  • 本申请提供一种玻璃芯板的制备方法、玻璃芯板及芯片封装结构。首先,提供一待制作玻璃芯板,待制作玻璃芯板包括第一导电走线、玻璃基板以及贯穿玻璃基板的基板通孔,第一导电走线填充在基板通孔内,填充于基板通孔内的第一导电走线的长度小于基板通孔深度。接...
  • 本发明涉及半导体封装技术领域,具体为一种引线框制作方法和引线框结构,包括:在框架基材放置加工台的表面,利用引线框冲压设备对框架基材进行冲压成引线框,基岛表面冲压出放置槽,基岛利用支撑板支撑固定,引线框冲压设备对内引脚表面冲压凹槽和放料槽;有...
  • 本公开提供了一种半导体器件及其形成方法,半导体器件的形成方法包括:提供基底;基底包括第一半导体结构、多个与第一半导体结构沿第一方向堆叠排布的第二半导体结构、位于在第二方向上相邻的两个第二半导体结构之间的第一沟槽;第二半导体结构包括衬底和器件...
  • 本公开提供了一种半导体器件的金属元素扩散方法及其制造方法,该方法包括:在半导体层的正面形成金属层;令所述金属层与硅反应形成金属硅化层;去除未反应的残余所述金属层,保留所述金属硅化层作为扩散源;以及采用微波退火或激光退火对所述金属硅化层进行加...
  • 根据本发明的实施方式提供了一种制造III族氮化物功率器件用工程化生长衬底的方法,在该工程化生长衬底中形成有成核区域,该方法包括:籽晶衬底制备步骤(S100),制备具有设定厚度的由单晶SiC制成的籽晶衬底;成核区域形成步骤(S200),在籽晶...
  • 本申请涉及一种聚酰亚胺层的去除方法,包括:刻蚀晶圆表面的聚酰亚胺层;对刻蚀后的晶圆进行第一清洗,去除刻蚀晶圆表面的聚酰亚胺层形成的副产物;对第一清洗后的晶圆进行第二清洗,继续去除副产物。本实施例的聚酰亚胺层的去除方法,在对聚酰亚胺层的去除过...
  • 本发明提供了降低能量发散的质量分析器,沿离子的飞行方向依次设置有:推斥电极,加速电极,分离电极,用于提供分离电场,分离电场沿第二方向设置;分离电场用于减小离子团中质荷比相同的离子之间的距离;分离电场还用于增加离子团中质荷比不同的离子之间的距...
  • 本发明提供了一种多功能离子阱芯片快速更换装置,所述系统包括:真空组件,包括能依次连通的第一真空腔、桥接机构以及第二真空腔;传送组件,包括送样机构以及设在其传送端的芯片载板架,所述送样机构与第一真空腔连接,且所述的传送端能依次穿过第一真空腔和...
  • 本发明提供了一种离子阱芯片快速更换系统,所述系统包括:真空组件,包括能依次连通的第一真空腔、桥接机构以及第二真空腔;传送组件,包括送样机构以及设在其传送端的芯片载板架,所述送样机构与第一真空腔连接,且所述的传送端能依次穿过第一真空腔和桥接机...
  • 本发明提供一种等离子体解吸电离源系统及其方法和质谱分析系统,属于质谱分析领域。等离子体解吸电离源系统包括:低压电源,为电弧等离子体的产生提供低电压的能量;能量调节模块,用于调节低电压的能量输出时间和周期;升压模块,用于将低电压转换为高电压;...
  • 本发明公开了一种光电倍增管的梯度复合增透膜及其制备方法,该梯度复合增透膜是由MnOx/MnNx构成,本发明通过“焦耳热‑辉光放电”耦合技术,利用辉光放电产生高密度等离子体,促进锰层与反应气体(O2/N2)的原子级混合,实现MnOx/MnNx...
  • 本发明公开了一种快速响应端窗反射式光电倍增管,属于光电倍增管测试领域,包含包含微曲球面入射窗、聚焦圆盘、平面反射式阴极、栅网、固定片、加速杆、倍增极DY1‑DYn和阳极;本发明优化了光电阴极的有效工作面积,根据电场分布放置加速杆,改变倍增极...
  • 本发明公开一种长形RF离子源及其使用方法,离子源包括栅网组件、放电室体、挡罩、磁铁和RF线圈,栅网组件设于放电室体顶部,放电室体外周设有RF线圈,栅网组件下方设有磁铁和挡罩,放电室体、磁铁和RF线圈分别位于挡罩内,放电室体底部设有工作气体进...
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