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最新专利技术
  • 一种PCB板的显影方法
    一种PCB板的显影方法_江西旭昇电子股份有限公司_202610004447.9
    本发明公开了一种PCB板的显影方法，包括如下步骤：前处理：对覆铜基板进行微蚀处理，并确保微蚀量及水破测试符合工艺标准；图形转移：通过曝光将电路图形转移至基板的感光膜上；显影：将完成图形转移的基板送入DES线的显影段，采用喷射角度为15‑30...
    2026-03-15
  • 一种光波导母版刻蚀过程的监测与修正方法及系统
    一种光波导母版刻蚀过程的监测与修正方法及系统_深圳市瀚思通汽车电子有限公司_202610078897.2
    本发明涉及光波导母版制作工艺技术领域，公开了一种光波导母版刻蚀过程的监测与修正方法及系统，该方法包括：设定若干监测区域以及对应的监测点位，采集每个监测点位的实时监测数据；将实时监测数据输入至刻蚀分析模型中，得到每个监测点位的实时刻蚀系数；根...
    2026-03-15
  • 多工况补偿器参数计算方法、系统、介质和程序产品
    多工况补偿器参数计算方法、系统、介质和程序产品_中国科学院光电技术研究所_202610063493.6
    本申请公开了一种多工况补偿器参数计算方法、系统、介质和程序产品。主要涉及光刻技术领域，通过将离散的测量数据进行重构，使其能满足补偿器透过率求解的稳定性的需要，以及确保多工况条件下光强映射至统一网格后的可比性。再根据多种工况条件下的透过率分布...
    2026-03-15
  • 一种消除掩膜版非目标图形散射缺陷的方法
    一种消除掩膜版非目标图形散射缺陷的方法_安徽晶微科技有限公司_202512052372.X
    本申请涉及半导体制造技术领域，具体公开了一种消除掩膜版非目标图形散射缺陷的方法。该方法包括以下步骤：在硅片表面涂覆光刻胶，将开设有目标图形的掩膜版置于光刻机中，设置初始曝光光束尺寸，对涂覆有光刻胶的硅片进行曝光、显影处理，得到具有光刻图形的...
    2026-03-15
  • 表面等离激元超分辨光刻自由照明光源优化方法
    表面等离激元超分辨光刻自由照明光源优化方法_中国科学院光电技术研究所_202512029233.5
    本公开实施例提供了一种表面等离激元超分辨光刻自由照明光源优化方法，包括：利用表面等离激元超分辨光刻成像数值模型，根据自由照明分布参数与目标掩模图形进行表面等离激元超分辨光刻光场仿真，得到成像光强分布；根据成像光强分布和光刻胶模型，计算得到光...
    2026-03-15
  • 一种光刻机专用防微震基座
    一种光刻机专用防微震基座_南京幻能电子科技有限公司_202512026557.3
    本发明涉及光刻机基座技术领域，公开了一种光刻机专用防微震基座，包括：两个水泥基座，还包括：第一水泥壳，位于水泥基座一侧；第一隔离模块，位于第一水泥壳内；下面板，固定在第一水泥壳上方；加筋板件，固定在下面板上方，用于起到支撑的作用；上面板，固...
    2026-03-15
  • 一种双面曝光的背面对位方法、装置和曝光设备
    一种双面曝光的背面对位方法、装置和曝光设备_江苏影速集成电路装备股份有限公司_202511834097.0
    本申请涉及一种双面曝光的背面对位方法，装置和曝光设备，能够实现不同规格板材的高精度双面对准，包括如下步骤：在板材A面曝光时，获取在A面上个标记点的正面实际坐标以及在B面上靶标的背面实际坐标；在A面曝光完成并翻板后；获取背面对准组件采集到的标...
    2026-03-15
  • 对准图形及其制备方法、半导体器件、存储器、电子设备
    对准图形及其制备方法、半导体器件、存储器、电子设备_北京超弦存储器研究院_202411111610.9
    本公开涉及一种对准图形及其制备方法、半导体器件、存储器、电子设备，衬底，衬底上包括前层结构；第一介质层位于前层结构上，第一介质层内包括前层开口图案，前层开口图案暴露出部分前层结构；前层开口图案的至少部分图案为目标对准图案；当层介质层位于第一...
    2026-03-15
  • 套刻标记、半导体结构及套刻标记制备方法
    套刻标记、半导体结构及套刻标记制备方法_北京超弦存储器研究院_202411109833.1
    本公开涉及一种套刻标记、半导体结构及套刻标记制备方法，涉及集成电路设计及制造技术领域，其中套刻标记包括：叠层结构；以及n层套刻标记图形，间隔分布于所述叠层结构上，包括位于所述叠层结构的顶面的顶层套刻标记图形，以及沿所述叠层结构的层叠方向贯穿...
    2026-03-15
  • 一种涂胶刀嘴的位置校准方法及装置
    一种涂胶刀嘴的位置校准方法及装置_苏州晶洲装备科技有限公司_202512032618.7
    本发明公开了一种涂胶刀嘴的位置校准方法及装置，该方法包括：通过多个电机控制涂胶刀嘴沿垂直于气浮板的方向下降至传感器检测位置；并获取至少两个传感器与气浮板之间的采样间距；将所述多个电机解耦，并对每个电机执行PID调节控制，直至每个所述传感器的...
    2026-03-15
  • 一种光刻图形化晶圆的TEM样品制备方法
    一种光刻图形化晶圆的TEM样品制备方法_上海季丰技术有限公司_202610077803.X
    本申请涉及半导体技术领域，提供了一种光刻图形化晶圆的TEM样品制备方法。该方法包括：在光刻图形化晶圆的待处理TEM样品的表面上制备一层氧化层，得到第一TEM样品；对第一TEM样品的表面进行液态胶灌注及室温固化处理，以在氧化层的表面上形成一层...
    2026-03-15
  • 光罩量测点位定位方法及可读存储介质
    光罩量测点位定位方法及可读存储介质_合光光掩模科技(安徽)有限公司_202511943067.3
    本发明涉及一种光罩量测点位定位方法及可读存储介质，方法包括：提供辅助定位框架，其包括框架本体、设置在框架本体四角的套合标记、以及设置在框架本体上的至少一个条形部件，条形部件上设有若干特征图形；使用量测机台测量框架本体上特征图形的实际坐标，生...
    2026-03-15
  • 掩模基版及其制造方法、掩模板的制造方法
    掩模基版及其制造方法、掩模板的制造方法_上海传芯半导体有限公司_202511848178.6
    一种掩模基版及其制造方法、掩模板的制造方法，该掩模基版包括掩模衬底、掩模材料层、防散射层和电刻胶层，掩模材料层形成在掩模衬底表面上，防散射层形成在掩模材料层的表面，且防散射层由低原子序数元素形成，电刻胶层形成在防散射层的表面。本发明可以减少...
    2026-03-15
  • 一种基于时间展宽型分幅相机的双能点双放大倍数成像装置及方法
    一种基于时间展宽型分幅相机的双能点双放大倍数成像装置及方法_上海交通大学_202511874862.1
    本发明属于X射线成像领域，提供了一种基于时间展宽型分幅相机的双能点双放大倍数成像装置及方法，装置包括：针孔片和时间展宽型分幅相机；方法包括：针孔片与时间展宽型分幅相机成像、几何映射模型构建、畸变矫正函数拟合以及图像校准；本发明通过利用时间展...
    2026-03-15
  • 一种车载LBS投影光机及其光学耦合方法
    一种车载LBS投影光机及其光学耦合方法_安徽大学_202511849741.1
    本发明公开了一种车载LBS投影光机及其光学耦合方法，涉及车载投影技术领域。该投影光机包括底壳、PCBA‑L、支架、外壳、基座、激光器、准直透镜组、合光棱镜组、防尘罩、PCBA‑S及MEMS扫描成像系统，其中准直透镜组采用多片式可调双胶合透镜...
    2026-03-15
  • 投影光学系统以及AR光学显示设备
    投影光学系统以及AR光学显示设备_歌尔光学科技有限公司_202511718103.6
    本申请实施例提供了一种投影光学系统以及AR光学显示设备；其中，所述光学系统沿光路依次包括显示器、棱镜、第二光学元件组、第一光学元件组以及光阑；所述显示器用于发出图像光束；所第二光学元件组包括至少三枚镜片；所述第一光学元件组包括至少一枚离轴镜...
    2026-03-15
  • 一种用于深度相机的光投射器及深度相机
    一种用于深度相机的光投射器及深度相机_深圳市光鉴科技有限公司_202610048075.X
    本申请提供用于深度相机的光投射器及深度相机，涉及深度测量技术领域，所述光投射器包括：用于投射第一结构光的激光器；投射镜头，用于调整第一结构光的传播光路，得到第二结构光和泛光；其中，投射镜头上设置有散射结构，散射结构是设置于投射镜头上的花纹，...
    2026-03-15
  • 一种具有间隙消除结构的光圈装置
    一种具有间隙消除结构的光圈装置_佛山柏瑞光电技术有限公司_202511697274.5
    本发明提出的一种具有间隙消除结构的光圈装置，包括固定座、转盘、调节叶片及间隙消除结构，所述转盘可转动的安装在所述固定座处，所述调节叶片可转动的安装在所述固定座上，以通过所述调节叶片的转动调节光圈孔径大小，在所述调节叶片上设有凸轮槽，所述转盘...
    2026-03-15
  • 一种用于产生可调谐黄光的柱面通光倍频器件及激光装置
    一种用于产生可调谐黄光的柱面通光倍频器件及激光装置_有维光电(山东)有限公司_202512053618.5
    本发明公开了一种用于产生可调谐黄光的柱面通光倍频器件及激光装置，属于非线性光学技术，其中，柱面通光倍频器件包括磷酸钛氧铷晶体，所述磷酸钛氧铷晶体沿Y轴方向加工成圆柱体，所述圆柱体的柱面镀有1140‑1180 nm和570 nm‑590 nm...
    2026-03-15
  • 具有阻燃功能的电致变色膜及其制备方法
    具有阻燃功能的电致变色膜及其制备方法_江苏熠动科技有限公司_202511913123.9
    本申请涉及一种具有阻燃功能的电致变色膜及其制备方法，该电致变色膜包括第一导电基膜、第二导电基膜及设于二者之间的电致变色光固化层，所述电致变色光固化层由75份～85份有机含磷类阻燃剂、9份～19份电致变色材料、5份～10份光固化预聚物、1份～...
    2026-03-15
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