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最新专利技术
  • 液态源存放装置
    液态源存放装置_北京北方华创微电子装备有限公司_202410385140.9
    本发明提供一种液态源存放装置， 包括存放腔体、进气组件和随动组件， 存放腔体用于存放液态源， 进气组件包括出气部件， 出气部件可升降的设置在存放腔体内， 出气部件具有出气口， 出气部件通过出气口向存放腔体内输运载气， 随动组件与进气组件配合...
    2026-01-12
  • 一种大尺寸半导体成膜设备
    一种大尺寸半导体成膜设备_前海合盛精工实业(深圳)有限公司_202410411094.5
    本发明公开一种大尺寸半导体成膜设备， 包括设备主体以及混合装置， 设备主体包括反应腔室以及喷淋机构， 喷淋机构设置在反应腔室中， 并与混合装置连通， 反应腔室于喷淋机构下方设置有喷淋板， 喷淋机构可相对喷淋板进行移动， 通过上述设置， 本发...
    2026-01-12
  • 原子层沉积方法、炉管设备及其抽真空方法
    原子层沉积方法、炉管设备及其抽真空方法_盛美半导体设备(上海)股份有限公司_202410411861.2
    本发明公开了一种原子层沉积方法、炉管设备及其抽真空方法， 涉及半导体制造技术领域， 所述原子层沉积方法包括：S100、将基片放置于反应腔室内， 并将所述反应腔室抽至真空状态；S110、向所述反应腔室内通入前驱体， 直至铺满所述基片的表面；S...
    2026-01-12
  • 用于处理衬底的表面的方法和装置
    用于处理衬底的表面的方法和装置_康普泰克解决方案公司_202510118840.6
    本发明涉及用于处理衬底的表面的方法和装置。所公开的实施方案的方面涉及利用原子层沉积(ALD)对衬底的表面进行处理以生长高质量薄膜层， 这是通过首先制备衬底表面， 然后在ALD生长之前在衬底的表面上建立改善的界面层。这些方法都在单一处理设备内...
    2026-01-12
  • 支撑结构及半导体工艺设备、控温方法
    支撑结构及半导体工艺设备、控温方法_北京北方华创微电子装备有限公司_202410389382.5
    本发明提供一种支撑结构及半导体工艺设备、控温方法， 支撑结构包括支撑轴、支撑座及环绕支撑轴的中轴线均匀分布的多个支撑臂， 支撑臂的第一端与支撑轴连接、第二端与基座底面连接；支撑座叠置在基座下方， 支撑座的中心设有通孔， 支撑轴的顶端穿设在通...
    2026-01-12
  • 一种调平系统、方法及薄膜沉积设备
    一种调平系统、方法及薄膜沉积设备_拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司_202510472272.X
    本发明公开了一种调平系统、方法及薄膜沉积设备， 用于对薄膜沉积设备的晶圆加热盘进行调平处理， 所述调平系统包括：自动调平装置， 与所述晶圆加热盘连接， 用于对所述晶圆加热盘进行调平处理；调零装置， 设置于所述晶圆加热盘上， 用于对所述自动调...
    2026-01-12
  • 一种碳化硅涂层在超纯颗粒生产设备上的应用
    一种碳化硅涂层在超纯颗粒生产设备上的应用_昂士特科技(深圳)有限公司_202510879838.0
    本发明涉及原材料生产设备的复合涂层技术领域， 具体为一种碳化硅涂层在超纯颗粒生产设备上的应用， 通过CVD法、PVD法或热喷涂法在超纯颗粒生产设备不锈钢基体表面形成碳化硅涂层， 并应用于设备核心反应区接触表面， 包括反应釜内壁、物料输送管道...
    2026-01-12
  • 兼容整区和分区的镀膜设备
    兼容整区和分区的镀膜设备_上海陛通半导体能源科技股份有限公司_202511301265.X
    本发明提供一种兼容整区和分区的镀膜设备， 包括：气体分配盘， 包括相互隔离的第一功能区域和第二功能区域；气体分配机构， 包括基座和转动部， 转动部可转动地设置于基座上；基座具有周向分布的第一出气口、第二出气口和第一进气口， 其中， 第一出气...
    2026-01-12
  • 电极组件及半导体工艺设备
    电极组件及半导体工艺设备_北京北方华创微电子装备有限公司_202410389488.5
    本发明提供一种电极组件及半导体工艺设备， 电极组件包括固定组件、过渡连接组件、电极杆及弹性件， 电极杆第一端与固定组件固定连接， 过渡连接组件位于固定组件与炉尾端板之间， 过渡连接组件的一端与固定组件可拆卸连接、另一端用于与炉尾端板上的转接...
    2026-01-12
  • 双基片生长用MPCVD装置
    双基片生长用MPCVD装置_河北普莱斯曼金刚石科技有限公司_202510852504.4
    本申请涉及双基片生长用MPCVD装置， 涉及微波等离子体法化学气相沉积技术领域， 该装置包括微波谐振腔兼真空腔室主体、微波馈入口、气体流通和平衡系统、调节机构、测温和观察窗， 该装置具有TM021模式的电场分布；所述微波谐振腔兼真空腔室主体...
    2026-01-12
  • 一种用于铜RDL表面处理的高稳定性高速中磷化学镀镍液
    一种用于铜RDL表面处理的高稳定性高速中磷化学镀镍液_湖北兴福电子材料股份有限公司_202510967542.4
    本发明涉及半导体封装技术领域， 公开一种用于铜再分布层的高稳定性高速中磷化学镀镍液。该镀液包含镍盐、次亚磷酸钠、润湿剂、pH缓冲剂、氨基羧酸与乳酸复合络合剂、铋盐‑钼酸盐‑碘化物三元复合稳定剂、含硫离子液体启镀剂、环糊精‑木质素磺酸盐去应力...
    2026-01-12
  • 一种线材热处理酸洗磷化用的生产装置及其生产方法
    一种线材热处理酸洗磷化用的生产装置及其生产方法_江苏能达线材制品有限公司_202410417098.4
    本发明公开了一种线材热处理酸洗磷化用的生产装置及其生产方法， 本发明涉及线材酸洗磷化技术领域， 包括撑台、酸洗池、磷化池、清洗风干池和温控模块， 所述撑台的顶部设有酸洗池， 所述撑台的顶部设有磷化池， 所述撑台的顶部设有清洗风干池， 所述酸...
    2026-01-12
  • 一种黑化液、其制备方法和应用
    一种黑化液、其制备方法和应用_南通得安电子材料有限公司_202511265246.6
    本发明涉及黑化液的制备技术领域， 具体为一种黑化液、其制备方法和应用， 其制备包括以下步骤：S1.将硫脲、辅助碱液加入去离子水中， 搅拌的同时， 缓慢升温至40℃并保温；S2.将步骤S1的溶液继续升温， 保持温度继续搅拌， 至固体溶解， 再...
    2026-01-12
  • 一种基于高温磷化工艺的发动机气缸表面处理方法
    一种基于高温磷化工艺的发动机气缸表面处理方法_陕西北方动力有限责任公司_202510804511.7
    本发明提供一种基于高温磷化工艺的发动机气缸表面处理方法， 涉及金属表面处理技术领域， 该方法通过优化磷化工艺参数， 解决了传统常温/中温磷化工艺中气缸套耐磨、防腐及储油性能不足的问题。工艺步骤包括：使用ZL—601B脱脂粉进行除油处理， 通...
    2026-01-12
  • 一种单组分锰系表调剂及其制备方法
    一种单组分锰系表调剂及其制备方法_海南宏翔金属处理材料有限公司_202510770035.1
    本发明公开了一种单组分锰系表调剂， 其包括以下重量份的原料：锰盐24‑42份、溴化物5‑10份、氟化物5‑10份、碳酸钠15‑30份、络合剂3‑5份、促进剂2‑12份；其中， 络合剂为磺基水杨酸修饰的壳聚糖/二氧化硅微球。本发明用以解决成膜...
    2026-01-12
  • 一种用于金属表面防锈的处理液及其制备方法
    一种用于金属表面防锈的处理液及其制备方法_滨州永上环保科技有限责任公司_202510843482.5
    本发明属于金属表面防锈技术领域， 公开了一种用于金属表面防锈的处理液及其制备方法， 包括一种处理液， 按质量份计包括以下组分：硅烷偶联剂5‑15份、纳米二氧化钛3‑10份、苯并三氮唑1‑4份、钼酸盐1‑4份、分散剂1‑5份、成膜助剂2‑6份...
    2026-01-12
  • 一种电镀层保护剂及其制备方法
    一种电镀层保护剂及其制备方法_佛山市南海区奥搏工贸有限公司_202510852228.1
    本发明涉及一种电镀层保护剂及其制备方法， 属于电镀层用保护剂技术领域， 所述保护剂包括如下原料：主盐， 辅盐， 复合络合剂， 1‑二十二烷基硫醇， 封闭剂， 无水乙醇， 去离子水。本发明将丁二酸、N‑月桂酰肌氨酸钠和柠嗪酸作为复合络合剂能分...
    2026-01-12
  • 一种无磷钝化液组合物、其制备方法以及一种磁钢表面处理方法
    一种无磷钝化液组合物、其制备方法以及一种磁钢表面处理方法_烟台正海磁性材料股份有限公司_202511015609.0
    本发明属于金属表面处理技术领域， 具体涉及一种无磷钝化液组合物、其制备方法以及一种磁钢表面处理方法， 该无磷钝化液组合物， 包括钝化液一和钝化液二；以质量百分比计， 所述钝化液一包括：硅烷偶联剂4%～7%；钼酸铵3%～6%；脂肪醇类非离子表...
    2026-01-12
  • 一种水性环保型不锈钢表面处理钝化剂及其制备方法
    一种水性环保型不锈钢表面处理钝化剂及其制备方法_金盟科技(深圳)有限公司_202511025276.X
    本发明公开了一种水性环保型不锈钢表面处理钝化剂及其制备方法， 涉及金属表面处理技术领域， 一次性加入一定量的环氧基硅烷偶联剂， 可能会造成局部浓度过高， 高浓度下的硅烷会产生自聚， 导致溶液中出现絮状物或沉淀， 同时， 钝化剂的制备温度较高...
    2026-01-12
  • 一种摄像头模组不锈钢发黑工艺及装置
    一种摄像头模组不锈钢发黑工艺及装置_深圳市宝易升精密五金有限公司_202510974129.0
    本发明提出了一种摄像头模组不锈钢发黑工艺及装置， 通过光学要求分析确定各处理区域并检测表面粗糙度生成区域特征数据， 基于标准特征库对比获取处理难度系数， 建立处理权重值和优先级序列；按照优先级进行差异化清洗， 实时监测pH温度调整清洗剂浓度...
    2026-01-12
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