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最新专利技术
  • 氮化硅薄膜及其制备方法
    氮化硅薄膜及其制备方法_无锡芯卓湖光半导体有限公司_202512014153.2
    本发明提供了氮化硅薄膜及其制备方法。通过PECVD制备氮化硅薄膜的方法包括：将硅衬底晶圆置于反应腔室内；向反应腔室中通入氮气和氨气；向反应腔室施加第一高频功率，对氨气进行预处理；向反应腔室通入硅烷，并同时施加第二高频功率，进行沉积氮化硅薄膜...
    2026-04-22
  • 基于PECVD循环沉积的多功能纳米复合防护薄膜及其制备方法
    基于PECVD循环沉积的多功能纳米复合防护薄膜及其制备方法_佛山市思博睿科技有限公司_202511634104.2
    本发明属于化学气相沉积领域，涉及基于PECVD循环沉积的多功能纳米复合防护薄膜及其制备方法。多功能纳米复合防护薄膜包括：硅烷打底层、疏水层、以及位于硅烷打底层与疏水层之间的软硬交替中间层；所述软硬交替中间层设置为中间软膜层和中间硬膜层的交替...
    2026-04-22
  • 薄膜沉积腔室及薄膜沉积设备
    薄膜沉积腔室及薄膜沉积设备_无锡金源半导体科技有限公司_202512018969.2
    本申请公开了一种薄膜沉积腔室及薄膜沉积设备，薄膜沉积腔室包括：具有腔的基座和设置于腔内的加热盘；支撑机构，包括支撑架和滑动载台，滑动载台有多个并相较于柱体的轴线往复可滑动；冷却机构，包括冷却板，冷却板一一对应拆卸设置于滑动载台；协同机构，用...
    2026-04-22
  • 一种化学气相沉积设备的装载锁及化学气相沉积设备
    一种化学气相沉积设备的装载锁及化学气相沉积设备_上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司_202512059783.1
    本发明涉及化学气相沉积领域，特别是涉及一种化学气相沉积设备的装载锁及化学气相沉积设备，包括装载基座、夹爪及驱动机构；装载基座开设有条形凹槽，夹爪设置于条形凹槽中，且能通过条形凹槽伸出装载基座的上表面，对晶圆进行夹持；夹爪包括多个夹臂；单个夹...
    2026-04-22
  • 一种大型预制体防变形夹具型工装
    一种大型预制体防变形夹具型工装_内蒙古航天红岗机械有限公司_202512009006.6
    本发明一种大型预制体防变形夹具型工装，该夹具型工装是由角型夹具型工装及石墨绳组成，所述角型夹具对八边形的八棱柱进行夹持，通过石墨绳绑缚。所述角型夹具型工装材质采用石墨。角型夹具型工装采用了通气的方形打孔设计，可以使得等温化学气相沉积过程中气...
    2026-04-22
  • 一种原子层沉积制备锂掺杂硅基发光材料的方法及其结构
    一种原子层沉积制备锂掺杂硅基发光材料的方法及其结构_上海大学_202610003916.5
    本申请公开了一种原子层沉积制备锂掺杂硅基发光材料的方法及其结构，该方法包括：向原子层沉积设备反应腔通入三(二甲胺基)硅烷脉冲蒸气使其与衬底表面形成均匀分布的活性位点进行反应，生成Si‑N键；等离子体氢气与Si‑N键反应，生成Si悬挂键和Si...
    2026-04-22
  • 一种半导体薄膜沉积设备的反应腔和半导体薄膜沉积设备
    一种半导体薄膜沉积设备的反应腔和半导体薄膜沉积设备_江苏微导纳米科技股份有限公司_202511935874.0
    本申请实施例提供了一种半导体薄膜沉积设备的反应腔和半导体薄膜沉积设备。所述半导体薄膜沉积设备的反应腔包括：底部出气结构，所述底部出气结构设置于所述反应腔底部，所述底部出气结构包括：环形底板，所述环形底板沿自身周向间隔设置有多个出气孔，各所述...
    2026-04-22
  • 一种化学气相沉积装置
    一种化学气相沉积装置_中国能源建设集团广东省电力设计研究院有限公司_202511890414.0
    本发明涉及化工技术领域，公开了一种化学气相沉积装置，包括供气模块、雾化器、反应器和加热结构，供气模块用于提供载气，雾化器具有容纳腔和同时连通容纳腔的进气口、出气口和多个进料口，出气口位于雾化器的上部，进气口位于容纳腔的下部且与供气模块连通，...
    2026-04-22
  • 设有基座的气相生长设备
    设有基座的气相生长设备_楚赟精工科技(上海)有限公司_202610255360.9
    本申请提供一种设有基座的气相生长设备，包括工艺腔室、支撑装置、罩型基座、加热装置和腐蚀消耗装置。支撑装置设于工艺腔室的内底部。罩型基座底部开口并与支撑装置顶部连接，围成有容纳腔，罩型基座与支撑装置形成对接处。加热装置设于容纳腔，包括靠近罩型...
    2026-04-22
  • 一种去除MPCVD腔内壁积碳的变频等离子体清洗装置
    一种去除MPCVD腔内壁积碳的变频等离子体清洗装置_宁波晶钻科技股份有限公司_202610011693.7
    本发明提出了一种去除MPCVD腔内壁积碳的变频等离子体清洗装置，涉及金刚石制备领域。包括反应腔本体，反应腔本体分为微波谐振腔和微波放电腔，微波谐振腔上设有微波调节单元，其侧壁上还连接有第二微波源；微波放电腔的侧壁连接有质量流量计和真空泵，其...
    2026-04-22
  • 一种利用CVD回转炉制备硅碳负极材料的工艺及其产品和应用
    一种利用CVD回转炉制备硅碳负极材料的工艺及其产品和应用_湖北匠芯新材料有限公司_202512027811.1
    本发明公开了一种利用CVD回转炉制备硅碳负极材料的工艺，包括：S1、以CVD回转炉为反应装置，以多孔碳为基底，通入包含硅源气体的原料气A进行硅沉积；S2、向CVD回转炉中再次通入包含碳源气体的原料气B，进行碳包覆；S3、冷却后出料得到硅碳负...
    2026-04-22
  • 一种原位合成法制备碳纳米管铝合金复合材料的方法
    一种原位合成法制备碳纳米管铝合金复合材料的方法_成都珈丰新能源科技有限公司_202512019194.0
    本发明提供了一种原位合成法制备碳纳米管铝合金复合材料的方法，包括以下步骤：S1、铝合金载体选择与预处理：选择铝合金作为载体，对载体表面进行预处理；S2、钠基催化剂的负载；S3、分区化学气相沉积原位生长；S4、致密化加工：对碳纳米管‑铝合金复...
    2026-04-22
  • 铒掺杂氮化硅薄膜及其制备方法、以及光子集成器件及其制备方法
    铒掺杂氮化硅薄膜及其制备方法、以及光子集成器件及其制备方法_上海大学_202610004125.4
    本申请公开了一种铒掺杂氮化硅薄膜及其制备方法、以及光子集成器件及其制备方法。本申请能够从根本上规避异质集成、并在高掺杂浓度下仍能有效抑制浓度猝灭。
    2026-04-22
  • 镀膜设备
    镀膜设备_深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司_202610134035.7
    本发明提供了一种镀膜设备，该镀膜设备包括镀膜室、坩埚、束导器、传送系统、第一等离子体发生器及第二等离子体发生器。镀膜室的内部为真空腔。坩埚设置于真空腔的腔底。靶材装载于坩埚。束导器环绕于坩埚的周部。传送系统与束导器相对设置，传送系统用于传送...
    2026-04-22
  • 一种半导体薄膜生产用的镀膜装置
    一种半导体薄膜生产用的镀膜装置_扬州迪堡新材料有限公司_202512034389.2
    本发明公开了一种半导体薄膜生产用的镀膜装置；本发明涉及半导体制造设备技术领域，包括箱体、加热箱、有害气体收集组件、过滤更换组件及镀膜散热组件；有害气体收集组件与过滤更换组件协同处理废气与积碳，环保性强；加热箱精准控温，风扇组高效散热，保障薄...
    2026-04-22
  • 一种多腔室高洁净度真空镀膜设备
    一种多腔室高洁净度真空镀膜设备_江苏索腾真空科技有限公司_202511877697.5
    本发明公开了一种多腔室高洁净度真空镀膜设备，本发明涉及真空镀膜技术领域。包括仓门，还包括：镀膜仓，所述镀膜仓与仓门连接，所述镀膜仓的外部设置有抽气系统；进料仓，所述进料仓与镀膜仓连接；出料仓，所述出料仓与镀膜仓连接；进出料机构，其中一个所述...
    2026-04-22
  • 一种数智化协同控制镀膜方法
    一种数智化协同控制镀膜方法_中国工程物理研究院激光聚变研究中心_202610010119.X
    本发明公开了一种数智化协同控制镀膜方法，通过工件行星系统使沉积源在工件镀膜表面进行公转镀膜，包括以下步骤：S1：实时获取沉积速率；S2：根据预设的目标公转圈数和目标厚度确认闭环条件下的速度调节基准，结合所述沉积速率，得到目标公转角速度；S3...
    2026-04-22
  • 一种基于电磁感应的EB-PVD熔池高度监测系统及监测方法
    一种基于电磁感应的EB-PVD熔池高度监测系统及监测方法_无锡乘风航空工程技术有限公司_202511999387.0
    本发明涉及的一种基于电磁感应的EB‑PVD熔池高度监测系统及监测方法，所述系统包括水冷铜坩埚、置于其水冷层内部的同轴环形线圈阵列、电子测量单元和数据处理系统；所述方法基于8YSZ等陶瓷材料固态与熔融态电磁特性差异显著的原理，通过线圈阵列施加...
    2026-04-22
  • 工艺配方的优化方法及半导体工艺设备
    工艺配方的优化方法及半导体工艺设备_北京北方华创微电子装备有限公司_202411378524.4
    本申请公开了一种工艺配方的优化方法及半导体工艺设备。其中，该方法应用于半导体工艺设备的控制器中时，包括：接收用户端发送的针对工艺配方中的工艺参数微调系数值的修改指令，并将修改指令中工艺参数微调系数值的修改值存储在本地设备中工艺配方中包括动态...
    2026-04-22
  • 一种PVD镀膜工件旋转悬挂装置
    一种PVD镀膜工件旋转悬挂装置_江苏沃能成电子科技有限公司_202610277879.7
    本发明涉及PVD镀膜悬挂装置技术领域，且公开了一种PVD镀膜工件旋转悬挂装置，包括支架，支架的底部安装有悬挂板，悬挂板的底部固定装配有导轨，悬挂板的顶部固定装配有驱动电缸。该PVD镀膜工件旋转悬挂装置，通过在悬挂板两端设置的悬挂组件，在对待...
    2026-04-22
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