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最新专利技术
  • 一种高性能硅碳复合物负极材料制备装置与方法
    一种高性能硅碳复合物负极材料制备装置与方法_上海交通大学_202411517719.2
    本发明涉及一种高性能硅碳复合物负极材料制备装置与方法，该制备装置包括：布风室；位于所述布风室上方并具有呈圆台形的反应腔室的反应段；以及依次位于所述反应段上方的放大段与除尘器。与现有技术相比，本发明可以实现碳基底粉体均匀流化并能有效避免粉体夹...
    2026-05-07
  • 一种塑料表面镀膜方法
    一种塑料表面镀膜方法_东莞新科技术研究开发有限公司_202411516392.7
    本发明公开了一种塑料表面镀膜方法，包括：将聚氨酯类单体加热至预设温度，使所述聚氨酯类单体变为气态；在塑料基材的表面上沉积DLC膜，并将气态的聚氨酯类单体与所述DLC膜相掺杂，以在所述塑料基材的表面上形成保护膜。采用本发明的技术方案通过在塑料...
    2026-05-07
  • 一种具有可变形基底的DLC镀膜方法
    一种具有可变形基底的DLC镀膜方法_东莞新科技术研究开发有限公司_202411515915.6
    本发明公开了一种具有可变形基底的DLC镀膜方法，包括：将可变形基底置于真空室中，并进行清洗处理；采用离子束沉积技术，在清洗后的可变形基底的表面沉积DLC膜；对所述DLC膜的表面进行等离子氟化处理或氧化处理。采用本发明的技术方案能够将DLC膜...
    2026-05-07
  • 金属有机化学气相沉积反应室及其监测装置和方法
    金属有机化学气相沉积反应室及其监测装置和方法_京东方华灿光电(广东)有限公司_202511859182.2
    本公开提供了一种金属有机化学气相沉积反应室及其监测装置和方法，属于半导体技术领域。所述监测装置包括监测移动平台和监测模块，所述监测模块与所述监测移动平台相连，所述监测移动平台驱动所述监测模块移动，所述监测模块在移动时对反应室内的晶圆表面进行...
    2026-05-07
  • 类金刚石碳膜的形成方法
    类金刚石碳膜的形成方法_东莞新科技术研究开发有限公司_202411519274.1
    本发明的类金刚石碳膜的形成方法包括：使用正极电子束对基材的表面进行打磨处理以去除表面的氧化物和污染物；在所述基材的表面沉积类金刚石碳膜，在沉积过程中持续调节反应气体的流量和沉积速率；以及对所述类金刚石碳膜进行退火处理。该方法简单高效，能够有...
    2026-05-07
  • 一种基于离子注入与梯度涂层的齿轮强化设备
    一种基于离子注入与梯度涂层的齿轮强化设备_中南大学_202610086417.7
    本发明提供了一种基于离子注入与梯度涂层的齿轮强化设备，属于齿轮生产设备技术领域，包括设备主体，所述设备主体限定有工艺腔室；工件平台，偏压系统，真空系统，等离子体生成装置，磁控溅射系统，通过将离子注入与磁控溅射镀膜功能集成于同一真空工艺腔室，...
    2026-05-07
  • 柔性薄膜制造过程中的张力控制方法和真空镀膜系统
    柔性薄膜制造过程中的张力控制方法和真空镀膜系统_深圳洪瑞微电子科技有限公司_202512012339.4
    本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种柔性薄膜制造过程中的张力控制方法和真空镀膜系统，包括：在每个所述控制区内，通过布置于该控制区的张力辊实时检测基材的张力状态，根据该张力状态计算得到张力测量值；根据每个控制区各自对应的目标张力设定值与所...
    2026-05-07
  • 提升PVD镀膜均匀度的方法
    提升PVD镀膜均匀度的方法_成都新紫光半导体科技有限公司_202411537349.9
    本公开涉及一种提升PVD镀膜均匀度的方法，该方法包括：将晶圆的表面划分为至少两个不同的独立区域，在每个独立区域的表面设置独立的靶材和对应的独立的直流电源，其中，每个独立区域对应的靶材和直流电源电连接；通过控制系统对每个独立区域的沉积速率进行...
    2026-05-07
  • 一种五金装饰镀膜机仿金铜炉体用导电方法及结构
    一种五金装饰镀膜机仿金铜炉体用导电方法及结构_东莞市元素真空科技有限公司_202610169173.9
    本发明公开了一种五金装饰镀膜机仿金铜炉体用导电方法及结构，属于镀膜设备技术领域。该方法包括获取炉体参数、计算绝缘导轨安装角、构建电场‑温度场‑膜厚耦合模型、计算理论电流与预热电流、评估电场均匀性、监测支路健康度并进行自适应补偿，以及分阶段控...
    2026-05-07
  • 一种基于可调节基片架的通用型半导体真空镀膜装置
    一种基于可调节基片架的通用型半导体真空镀膜装置_武汉麦韦光学科技有限公司_202610129782.1
    本发明公开了一种基于可调节基片架的通用型半导体真空镀膜装置，属于真空镀膜设备技术领域，通过启动电机，电机带动转辊转动，转辊外部的两个倾斜导向槽同步转动，上方交替托料组件和下方交替托料组件相对移动，转辊带动转盘绕支撑轴承同步转动一百八十度，转...
    2026-05-07
  • 基于磁控溅射的铜掺杂DLC薄膜制备方法
    基于磁控溅射的铜掺杂DLC薄膜制备方法_合肥铠膜新材料科技有限公司_202610434948.0
    本发明涉及基于磁控溅射的铜掺杂DLC薄膜制备方法，属于类金刚石薄膜制备技术领域，通过设计铜碳比为1：3的专用拼接靶，结合镀膜前样品相对靶材摆放位置的精准调整与DLC薄膜制备阶段乙炔通入流量的梯度控制，形成多维度协同的铜掺杂含量调控机制，可在...
    2026-05-07
  • 一种高均匀性的磁控溅射装置
    一种高均匀性的磁控溅射装置_广西机电职业技术学院_202610396402.0
    本发明涉及一种高均匀性的磁控溅射装置，包括真空腔、基片、绝缘单元和等阻设计的磁铁层、水层、靶片、接电点层、温控层与抽气单元，所述抽气单元设置在真空腔的顶部，所述磁铁层、接电点层、水层和靶片组成磁控溅射靶并通过绝缘单元连接在真空腔上，所述基片...
    2026-05-07
  • 一种基于射频磁控溅射的低损耗CoNbZr薄膜制备方法
    一种基于射频磁控溅射的低损耗CoNbZr薄膜制备方法_电子科技大学_202610356970.8
    本发明公开了一种基于射频磁控溅射的低损耗CoNbZr薄膜制备方法，属于软磁薄膜制备技术领域，具体以Co94Zr6合金靶为主靶材，在其表面粘贴1~2片Nb金属片，得到CoNbZr复合靶材，装入磁控溅射设备生长室并固定Si衬底，在室温、2~4 ...
    2026-05-07
  • 一种多级周期耐磨涂层及其制备方法
    一种多级周期耐磨涂层及其制备方法_武汉理工大学_202610306147.6
    本发明公开了一种多级周期耐磨涂层及其制备方法，属于材料表面工程技术领域。所述涂层沿厚度方向由承载主层和增韧过渡层交替堆叠而成，形成多级周期结构。其中，所述承载主层采用CrN基涂层与TiAlN基涂层沿厚度方向交替分布；所述增韧过渡层位于相邻承...
    2026-05-07
  • 一种提升类金刚石碳薄膜摩擦学性能的方法
    一种提升类金刚石碳薄膜摩擦学性能的方法_西南交通大学_202610259648.3
    本发明适用于超硬膜生产技术领域，提供了一种提升类金刚石碳薄膜摩擦学性能的方法，包括步骤：S1、对基底材料进行预处理，清除表面污染物；S2、运用非平衡磁控溅射技术，在基底表面沉积Cr/WC复合过渡层；S3、利用高能离子源在Cr/WC复合过渡层...
    2026-05-07
  • 一种相移掩模基板及其动态磁控溅射制备方法
    一种相移掩模基板及其动态磁控溅射制备方法_绍兴芯链半导体科技有限公司_202610236853.8
    本发明涉及一种相移掩模基板及其动态磁控溅射制备方法，在基板上连续动态沉积MoSi基梯度膜层，包括以下步骤 : 采用钼硅合金靶，在所述基板上进行第一阶段沉积，以沉积形成过渡层；在所述过渡层上进行第二阶段沉积，以沉积形成主体功能层；以及在所述主...
    2026-05-07
  • 一种钽基表面耐高温熔盐腐蚀多层复合涂层及其制备方法
    一种钽基表面耐高温熔盐腐蚀多层复合涂层及其制备方法_江苏集萃表面工程技术研究所有限公司_202610162080.3
    本发明公开了一种钽基表面耐高温熔盐腐蚀多层复合涂层及其制备方法，属于高温防护涂层技术领域。涂层包括Ta基体，Ta基体表面依次设置Mo‑Re扩散阻挡层、TaZrHf中间层、(TaZrHfTiW)C 陶瓷层。本发明采用磁控溅射与辉光离子镀膜涂层...
    2026-05-07
  • 一种氟化锂靶材与背板的绑定方法
    一种氟化锂靶材与背板的绑定方法_宁波江丰电子材料股份有限公司_202610152673.1
    本发明涉及一种氟化锂靶材与背板的绑定方法，所述绑定方法包括如下步骤：(1)对氟化锂靶材和背板的焊接面进行粗糙度预处理；(2)将粗糙度预处理后的氟化锂靶材和背板进行同步加热，并对焊接面进行焊料的浸润；(3)将氟化锂靶材和背板的焊接面贴合，并保...
    2026-05-07
  • 一种掺杂包裹型膜结构的制备方法
    一种掺杂包裹型膜结构的制备方法_中建材玻璃新材料研究院集团有限公司_202610152219.6
    本发明公开了一种掺杂包裹型膜结构的制备方法，属于薄膜制备技术领域。包括以下步骤：S1：将衬底材料进行清洗并送入溅射腔室；S2：以ZnS靶和ZnO靶作为溅射靶材，使用磁控溅射设备，在所述衬底上依次进行以下镀膜步骤：(a)：将溅射腔室抽真空至1...
    2026-05-07
  • 一种多工艺集成式离子镀复合镀膜设备
    一种多工艺集成式离子镀复合镀膜设备_武汉普迪真空科技有限公司_202610130069.9
    本发明公开了一种多工艺集成式离子镀复合镀膜设备，属于离子镀复合镀膜技术领域，通过设置间歇转动电机、驱动转盘、联动条、联动转盘、推送转盘、往复推送架、曲形推送板、移动凸块和推送滑槽，另一组推送凸块转动远离分隔板推送对应的往复推送架远离分隔板，...
    2026-05-07
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