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最新专利技术
  • 一种环保型印刷用新型丝印晒版机
    一种环保型印刷用新型丝印晒版机_南京迅驰彩色印刷有限公司_202511229392.3
    本申请涉及一种环保型印刷用新型丝印晒版机，涉及印刷设备的技术领域，包括壳体，还包括：升降机构，所述升降机构设置于壳体的内壁中；盖板，所述盖板铰接在壳体的顶端外壁，所述壳体的前端外壁铰接有挡板；光源主体，所述光源主体通过安装机构设置于壳体的内...
    2026-01-30
  • 一种纳米卤化银乳剂的制备方法及应用
    一种纳米卤化银乳剂的制备方法及应用_乐凯医疗科技有限公司_202511075418.3
    一种纳米卤化银乳剂的制备方法，所述制备方法包括如下步骤：S1、将去离子水、溴化钠、成核助剂、稳定剂、明胶在带有盘式搅拌的容器中充分溶解后混合均匀，制成初胶液；将硝酸银与去离子水混合均匀，制成硝酸银溶液；将溴化钠、碘化钾与去离子水混合均匀，制...
    2026-01-30
  • 掩膜图案生成方法、装置、存储介质及电子设备
    掩膜图案生成方法、装置、存储介质及电子设备_华芯程(杭州)科技有限公司_202511115120.0
    本申请公开了一种掩膜图案生成方法、装置、存储介质及电子设备，其中，该掩膜图案生成方法包括构建光学系统的频域成像内核，并获取原始设计图案；根据频域成像内核和原始设计图案，计算得到光学系统下的目标掩膜频谱分布图；基于原始设计图案，利用第一Lev...
    2026-01-30
  • 一种基于扩散策略的SRAF图形优化方法及系统
    一种基于扩散策略的SRAF图形优化方法及系统_深圳国微芯科技有限公司_202511228929.4
    本发明公开了一种基于扩散策略的SRAF图形优化方法及系统，所述方法包括：采集样本数据，所述样本数据包括目标布局的图形、目标布局的初始SRAF图形和SRAF图形优化数据；将采集到的训练数据输入到预先设定的扩散模型中进行训练，得到SRAF优化模...
    2026-01-30
  • 用于改善掩模图案生成一致性的方法
    用于改善掩模图案生成一致性的方法_ASML荷兰有限公司_202511312122.9
    本文中描述了一种确定待印制在衬底上的目标图案的掩模图案的方法。该方法包括：参考目标图案上的给定位置，将包括目标图案的设计布局的一部分划分成多个单元；在多个单元中的特定单元内分配多个变量，特定单元包括目标图案或目标图案的一部分；以及基于多个变...
    2026-01-30
  • 掩模版的优化方法、装置及曝光设备
    掩模版的优化方法、装置及曝光设备_光科芯图(北京)科技有限公司_202410536901.6
    本发明涉及计算光刻技术领域，公开了一种掩模版的优化方法、装置及曝光设备，该方法包括：采集掩模图形转移设备的照明光束的波前像差参数；根据波前像差参数计算照明光束的波前像差；基于所述波前像差和预设的初始透射率函数计算位于成像面的像面波前矩阵；根...
    2026-01-30
  • 碳纳米结构体的涂覆自立膜
    碳纳米结构体的涂覆自立膜_卡纳图芬兰有限公司_202510497418.6
    公开了一种结构体，其包括附接至支撑件的经涂覆的自立膜。所述自立膜是碳纳米结构体的自立膜，并且在所述自立膜上提供厚度为5‑200nm的聚对二甲苯涂层。
    2026-01-30
  • 一种光罩存储机台的控制系统
    一种光罩存储机台的控制系统_浙江赛瑾半导体科技有限公司_202511100750.0
    一种光罩存储机台的控制系统，其包括设备机架，移料机构，储料机构。所述设备机架包括上下料窗口。所述移料机构的夹爪上设置有多个传感器。所述储料机构的每个料仓均包括内圈，外圈，储位，出料口。每个所述储位上还设置有一个示教机构。与现有技术相比，本发...
    2026-01-30
  • 一种掩模板图案的制作方法
    一种掩模板图案的制作方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511403431.7
    本发明提供一种掩模板图案的制作方法，涉及半导体技术领域。掩模板图案的制作方法包括如下步骤：提供晶圆的尺寸数据、芯片图形及与晶圆对应的初始曝光区域的尺寸数据；逐渐减小初始曝光区域的面积，获得多个中间曝光区域；根据中间曝光区域的面积计算晶圆的尺...
    2026-01-30
  • 一种半导体芯片用掩模版蚀刻装置及其方法
    一种半导体芯片用掩模版蚀刻装置及其方法_江苏路芯半导体技术有限公司_202511262683.2
    本发明公开了属于刻蚀设备技术领域的一种半导体芯片用掩模版蚀刻装置及其方法。包括有底座，所述底座固接有箱体，所述箱体内固接有连接板，所述连接板固接有外胆，所述外胆设置有第一孔洞，所述外胆内转动连接有内胆，所述内胆设置有第二孔洞，所述箱体密封滑...
    2026-01-30
  • 一种光掩膜版光刻胶的去除方法及装置
    一种光掩膜版光刻胶的去除方法及装置_成都路维光电有限公司_202511297430.9
    本发明公开了一种光掩膜版光刻胶的去除方法及装置，包括如下步骤：采用UV光源对图形蚀刻后光掩膜版表面剩余的光刻胶进行照射曝光；曝光完成后，采用TMAH溶液去除剩余光刻胶。本发明对蚀刻后光掩膜版表面的整个剩余光刻胶层进行均匀且足量的紫外光照射，...
    2026-01-30
  • 纳米压印方法及系统
    纳米压印方法及系统_歌尔光学科技有限公司_202511403984.2
    本申请公开一种纳米压印方法及系统，涉及纳米压印技术领域，纳米压印方法包括：在吸盘上覆盖纳米薄膜，识别附着在纳米薄膜上的颗粒的位置，并通过光照使得颗粒周边的纳米薄膜变色形成环形标记，根据环形标记获取颗粒的基本信息；根据基本信息去除颗粒；在晶圆...
    2026-01-30
  • 一种负性感光型聚酰亚胺前驱体树脂组合物及其应用
    一种负性感光型聚酰亚胺前驱体树脂组合物及其应用_中山大学_202510944360.5
    本发明涉及一种负性感光型聚酰亚胺前驱体树脂组合物。本发明还提供了一种光敏型潜伏性热致产碱剂及其制备方法。进一步的，本发明还提供了用含有活性光交联基团酚羟基化合物进行封端的聚酰胺酸酯树脂，以及聚酰胺酸酯树脂的制备方法。相对于现有技术，本发明制...
    2026-01-30
  • 感光组合物及其应用
    感光组合物及其应用_珠海基石科技有限公司_202510990581.6
    本申请实施例提供了感光组合物及其应用。本申请提供的感光组合物，感光组合物包括基础树脂、光致产酸剂、咪唑类化合物和溶剂。具体的，通过引入咪唑类化合物，并控制光致产酸剂与咪唑类化合物的质量比在特定的范围内，提升感光组合物的曝光性能，优化曝光工艺...
    2026-01-30
  • 一种感光组合物及其应用
    一种感光组合物及其应用_珠海基石科技有限公司_202510990589.2
    本申请提供了一种感光组合物及其应用。该感光组合物包括基础树脂、胺类化合物、光致可分解碱和溶剂；其中，胺类化合物包括至少一种如式(Ⅱ)所示的化合物：所述感光组合物中，所述胺类化合物与所述光致可分解碱的质量比为1 : (0.01‑100)。本申...
    2026-01-30
  • 一种感光组合物及其应用
    一种感光组合物及其应用_珠海基石科技有限公司_202510990614.7
    本申请提供了一种感光组合物及其应用。该感光组合物包括树脂、氨酯类化合物、鎓盐化合物和溶剂。本申请通过在感光组合物的树脂体系中引入特殊的氨酯类化合物，并将氨酯类化合物和鎓盐化合物的比例的控制在合适的范围内，可以提升感光组合物对酸扩散的控制能力...
    2026-01-30
  • 一种光刻胶及其制备方法
    一种光刻胶及其制备方法_武汉锐晶激光芯片技术有限公司_202511051368.5
    本发明涉及光刻胶技术领域，具体提出了一种光刻胶及其制备方法，本发明的光刻胶原料包括酚醛树脂、重氮萘醌光敏剂、苯基磷酸三苯酯和溶剂，通过特殊的聚合物、增感剂和溶剂的组合，优化了曝光后图案的稳定性和清晰度。实施例中，配方的灵敏度范围在55mJ/...
    2026-01-30
  • 一种抗氢氟酸蚀刻的光刻胶组合物
    一种抗氢氟酸蚀刻的光刻胶组合物_苏州皓申智能科技有限公司_202511375510.1
    本发明公开了一种抗氢氟酸蚀刻的光刻胶组合物，包括含氟树脂、光引发剂、交联剂、流平剂和溶剂；所述含氟树脂包括如下所示结构：；其中，所述R选自氢、羟基、甲氧基、C1‑C6直链或支链烷基、或C1‑C3甲氧基羧基。本发明光刻胶组合物中含氟树脂采用对...
    2026-01-30
  • 感光热固化显影性树脂组合物、其干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板
    感光热固化显影性树脂组合物、其干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板_太阳油墨(苏州)有限公司_202511135348.6
    印刷性优异、且能够形成具有优异的硬度和耐冷热冲击性的阻焊层的感光热固化显影性树脂组合物、其干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板。感光热固化显影性树脂组合物含有(A)乙烯基酯树脂、(B)光聚合引发剂、(C)磷酸酯系分散剂、(D)在一分子...
    2026-01-30
  • 涂胶显影方法及其装置、电子设备、存储介质
    涂胶显影方法及其装置、电子设备、存储介质_香港科技大学(广州)_202511358829.3
    本申请涉及微观尺度加工技术领域，尤其是涉及一种涂胶显影方法及其装置、电子设备、存储介质。本申请实施例的涂胶显影方法，需要先获取涂胶工艺输入参数和显影工艺输入参数；针对所述涂胶工艺输入参数和所述显影工艺输入参数分别进行合规性筛查，得到规范目标...
    2026-01-30
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