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最新专利技术
  • 一种高发射率热控涂层的制造方法
    一种高发射率热控涂层的制造方法_星辉航天科技(无锡)有限公司_202510992908.3
    本发明公开了一种高发射率热控涂层的制造方法， 包括下列方法步骤：S1、对金属基材进行处理， 采用双极性脉冲电源， 正向电压350V， 负向电压150V， 占空比30％电解液温度维持在20±2℃， 通过外循环冷却系统控制处理后形成α‑Al2O...
    2026-01-12
  • 镀膜方法及镀膜系统
    镀膜方法及镀膜系统_天津中科晶禾电子科技有限责任公司_202510965016.4
    本发明涉及半导体材料加工技术领域， 公开一种镀膜方法及镀膜系统， 腔室内布置呈相对姿态的受体材料与靶材， 并制备真空环境；溅射源向靶材发射离子束轰击产生溅射原子， 受体材料接收溅射原子以沉积膜层；超原子束源向受体材料照射超原子束， 利用超原...
    2026-01-12
  • 沉积装置
    沉积装置_三星显示有限公司_202510296411.8
    本发明涉及一种沉积装置， 沉积装置包括：腔室， 提供进行沉积工艺的内部空间；以及至少一个磁体单元， 位于所述腔室的下部， 并且所述至少一个磁体单元中的每一个具有第一磁体部件以及位于所述第一磁体部件的外廓并与所述第一磁体部件相隔的第二磁体部件...
    2026-01-12
  • 工艺腔室及半导体工艺设备
    工艺腔室及半导体工艺设备_北京北方华创微电子装备有限公司_202410404723.1
    本发明提供一种工艺腔室及半导体工艺设备。工艺腔室包括围绕基座设置的内衬组件， 内衬组件包括第一弧形内衬、第二弧形内衬和环形内衬；第一弧形内衬在其周向上的开口与第二弧形内衬在其周向上的开口在第一方向上相对设置， 第一弧形内衬的外周面与第二弧形...
    2026-01-12
  • 一种用于钙钛矿太阳能电池低损伤膜层的溅射装置及设备
    一种用于钙钛矿太阳能电池低损伤膜层的溅射装置及设备_杭州鼎能光电科技有限公司_202511285652.9
    本发明涉及一种用于钙钛矿太阳能电池低损伤膜层的溅射装置及设备。溅射装置位于溅射设备中， 基片位于溅射设备中进行直线式运动， 当经过溅射装置时， 可对基片进行溅射镀膜；溅射装置包括靶座， 靶座内部设有两个溅射阴极， 两个溅射阴极相对称设置；两...
    2026-01-12
  • 一种医疗植入用锌基复合材料及其制备方法与应用
    一种医疗植入用锌基复合材料及其制备方法与应用_南京信息工程大学_202510928782.3
    本发明公开了一种医疗植入用锌基复合材料及其制备方法与应用， 该复合材料以锌基体为核心， 内部嵌入柱状铁增强体， 外部覆盖钽梯度过渡层。制备过程中， 铁增强体与锌基体通过阴极电阻加热实现界面扩散结合， 同时外部筒状Ta靶材溅射形成致密Ta涂层...
    2026-01-12
  • 一种EB-PVD制备不同饱和蒸汽压材料的方法及制备的涂层
    一种EB-PVD制备不同饱和蒸汽压材料的方法及制备的涂层_北京航空航天大学_202510841661.5
    本发明属于航空发动机和燃气轮机涡轮叶片热障涂层技术领域。具体涉及一种EB‑PVD制备不同饱和蒸汽压材料的方法及制备的涂层， 包括针对材料中的不同饱和蒸汽压组分， 根据其质量比或原子比， 转化为面积比， 采用多段式球磨制粉， 控制球磨工艺参数...
    2026-01-12
  • 塑料透镜的制造方法
    塑料透镜的制造方法_旭化成株式会社_202510408718.2
    本发明的目的在于提供光学功能层的密合性和生产率优异且耐久性进一步提高的塑料透镜的制造方法。本发明提供一种塑料透镜的制造方法， 其是包括在树脂制的透镜主体的至少一个面上依次形成底涂层和光学功能层的形成工序的塑料透镜的制造方法， 其特征在于， ...
    2026-01-12
  • 塑料透镜的制造方法
    塑料透镜的制造方法_旭化成株式会社_202510408764.2
    本发明的目的在于提供光学功能层的密合性和生产率优异且耐久性进一步提高的塑料透镜的制造方法。本发明提供一种塑料透镜的制造方法， 其是包括在树脂制的透镜主体的至少一个面上依次形成底涂层和光学功能层的形成工序的塑料透镜的制造方法， 其特征在于， ...
    2026-01-12
  • 一种纳米耐磨复合光学镜片真空镀膜设备及其制备方法
    一种纳米耐磨复合光学镜片真空镀膜设备及其制备方法_深圳市鹏亿发精密模具有限公司_202511294045.9
    本发明公开了一种纳米耐磨复合光学镜片真空镀膜设备及其制备方法， 涉及镜片镀膜设备领域， 包括镀膜机， 所述镀膜机的顶面中部转动连接有轴杆， 所述轴杆底部固定有镀锅， 所述轴杆中部外侧和镀膜机中部内侧设置有转动驱动组件， 所述镀锅下方设置有使...
    2026-01-12
  • 涂覆基板的方法
    涂覆基板的方法_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202510433823.1
    提出了一种用至少一种涂层涂覆基板的方法， 所述涂层包含至少一种涂层材料， 所述涂层材料沉积在基板上或施加在基板上的部分涂层上， 其中电中性颗粒可用于辅助沉积。
    2026-01-12
  • 一种强结合宽温域耐磨的复合涂层及其制备方法与应用
    一种强结合宽温域耐磨的复合涂层及其制备方法与应用_中国科学院宁波材料技术与工程研究所_202510993625.0
    本发明公开了一种强结合宽温域耐磨的复合涂层， 涉及固体润滑材料技术领域， 所述复合涂层包括依次形成于基体表面的过渡层、功能内层、扩散阻挡层和功能外层， 所述过渡层为Mo层和Mo2N层， 所述功能内层为MoAgN层， 所述扩散阻挡层为Mo2N...
    2026-01-12
  • 一种RPD-SnOx电子传输层制备方法、电子传输层及钙钛矿电池制备方法
    一种RPD-SnOx电子传输层制备方法、电子传输层及钙钛矿电池制备方法_极电光能有限公司_202510961837.0
    本发明提供一种RPD‑SnOx电子传输层制备方法、电子传输层及钙钛矿电池制备方法， 包括如下步骤：将衬底置于真空腔室中；通过等离体子枪发射等离子体并作用在氧化锡靶材SnOx上， 使得氧化锡靶材被蒸发并沉积在衬底上， 1.2≤x≤1.6；该钙...
    2026-01-12
  • 一种三明治结构金刚石涂层及其制备方法与应用
    一种三明治结构金刚石涂层及其制备方法与应用_广东尼古拉斯新材料科技有限公司_202510992058.7
    本发明提出了一种三明治结构金刚石涂层及其制备方法与应用， 属于复合涂层技术领域。本发明的三明治结构金刚石涂层包括由下到上依次设置的厚度为0.1～0.5μm的ta‑C打底层、厚度为5～15μm的CVD金刚石中间层和厚度为1.0～3.0μm的表...
    2026-01-12
  • 一种真空镀膜掩膜方法、镀膜材料高通量多组元筛选方法
    一种真空镀膜掩膜方法、镀膜材料高通量多组元筛选方法_天府绛溪实验室_202511069414.4
    本发明公开了一种真空镀膜掩膜方法、镀膜材料高通量多组元筛选方法， 真空镀膜掩膜方法包括真空镀膜掩膜， 所述真空镀膜掩膜过程包括分立掩膜和连续掩膜， 所述连续掩膜所用的掩膜板的厚度沿纵轴方向呈梯度变化。筛选方法为利用上述的掩膜方法进行。本发明...
    2026-01-12
  • 掩模的制造方法、掩模支撑模板的制造方法及框架一体型掩模的制造方法
    掩模的制造方法、掩模支撑模板的制造方法及框架一体型掩模的制造方法_悟劳茂材料公司_202510690751.9
    本发明涉及掩模的制造方法、掩模支撑模板的制造方法及框架一体型掩模的制造方法。本发明的掩模的制造方法包括以下步骤：(a)将掩模金属膜粘合到一面形成有临时粘合部的模板上；(b)通过在所述掩模金属膜形成掩模图案来制造掩模；(c)将所述模板装载到具...
    2026-01-12
  • 沉积掩模和电子装置
    沉积掩模和电子装置_三星显示有限公司_202510381758.2
    本公开涉及一种沉积掩模和电子装置。沉积掩模包括：掩模基底， 包括多个单元区域和围绕多个单元区域的单元外围区域；掩模隔膜， 设置在掩模基底的多个单元区域中并且包括限定像素开口的掩模遮蔽件；掩模框架， 设置在掩模基底的单元外围区域中并且包括位于...
    2026-01-12
  • 掩膜板及其制备方法
    掩膜板及其制备方法_京东方科技集团股份有限公司_202410396946.8
    本公开提供一种掩膜板及其制备方法， 属于显示技术领域。本公开的掩膜板包括掩膜主体结构， 掩膜主体结构具有多个开口；多个交叉设置的支撑结构， 位于掩膜主体结构的一侧；开口位于交叉设置的支撑结构之间；至少部分支撑结构包括主体部和与主体部相连的多...
    2026-01-12
  • 一种双片晶圆集成处理腔室及控制方法
    一种双片晶圆集成处理腔室及控制方法_浙江晟霖益嘉科技有限公司_202511240027.2
    本发明公开了一种双片晶圆集成处理腔室及控制方法， 包括：集成腔室， 用于同时装载两片晶圆， 包括筒形腔体， 上下两端分别密封设有上盖及下盖；腔体内镜像对称设置的上加热基座和下加热基座， 分别用于承载并加热两片晶圆；加热系统， 包括对应于上加...
    2026-01-12
  • 一种超低Pt负载N-MoC析氢薄膜及其制备方法
    一种超低Pt负载N-MoC析氢薄膜及其制备方法_华南理工大学_202511024601.0
    一种超低Pt负载N‑MoC析氢薄膜的制备方法及超低Pt负载N‑MoC析氢薄膜， 其中制备方法通过3个步骤制备得到超低Pt负载N‑MoC析氢薄膜。本发明以射频溅射的方式在MoCx薄膜表面实现超低Pt负载。同时， N等离子体处理去除了MoCx薄...
    2026-01-12
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