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  • 本发明公开了一种真空镀膜设备,属于真空镀膜设备技术领域,包括镀膜室、工件载架和用于驱动工件载架转动的旋转驱动装置,工件载架的周向设有多个转动设置的工件装载座,任意相邻两个工件装载座之间具有间隙以使各工件装载座的转动互不干涉,工件载架设有遮挡...
  • 本发明公开了一种晶圆真空镀膜用夹具及工件载架,属于真空镀膜设备技术领域,夹具包括用于放置晶圆的底板和安装在底板上用于从晶圆四周边缘夹紧固定晶圆的两组以上夹持组件,至少一组夹持组件为活动夹持组件,活动夹持组件包括活动夹持件,活动夹持件以能调节...
  • 本发明涉及半导体开发技术领域,且公开了半导体离子参杂电弧室结构,包括电弧室,所述电弧室空腔的底板上设置有气相沉淀模块,所述雕刻通孔右侧设置有雕刻组件,所述电弧室上端设置有电弧板,所述电弧板顶部端面与电弧放电组件相连,所述电弧板底部端面设置有...
  • 本申请公开了一种高靶材利用率的磁控溅射磁场设计装置,涉及磁控溅射技术领域,该装置中第一、第二主磁体设置在磁靴的两侧;第三主磁体设置在磁靴上;第一、第二主磁体磁性相同,与第三主磁体磁性相反;各主磁体形成拱形磁场;第三、第四过渡磁体分别设置在第...
  • 本发明提供一种双阴极镀膜机构的供气装置,涉及玻璃镀膜设备技术领域,包括位于两个阴极靶之间的供气箱,供气箱包括箱体和插设在箱体内的送气条,送气条两侧面与箱体两个平行的内壁面之间分别形成一出气通道,送气条的底部固定设置有一导流架,导流架将对应的...
  • 本发明提供一种双平面阴极玻璃镀膜系统,涉及磁控溅射镀膜技术领域,包括两个平面磁控靶,两个磁控平面靶之间设置共用送气机构,共用送气机构向两个平面磁控靶提供相同的工艺气体或分别提供工艺气体,两个平面磁控靶在玻璃表面依序沉积第一膜层、过渡层和第二...
  • 本发明提供一种可调磁控溅射源,涉及玻璃镀膜设备技术领域,包括屏蔽外壳和若干安装在屏蔽外壳内的磁安装背板,磁安装背板包括本体,本体的两侧分别具有若干磁钢安装板,磁钢安装板与本体之间通过一弹性部连接,位于本体同侧的相邻磁钢安装板之间具有间隙;本...
  • 本发明属于表面增强拉曼散射基底制备与检测领域,涉及一种基于法布里珀罗谐振腔结构的SERS基底及其制备方法。以平整的硅片作为基底材料,采用磁控溅射技术依次在硅片上沉积金属钨、五氧化二钒和氧化钨作为底部镜面反射层、SERS活性层和顶部镜面反射层...
  • 本发明公开了一种基于金属薄膜应力调控的自成形柔性生物电子器件及其制备方法;本发明的制备方法包括:S1:提供刚性临时衬底;S2:在刚性临时衬底上形成第一柔性封装层;S3:在第一柔性封装层上,通过物理气相沉积工艺沉积金属功能薄膜层使薄膜层内部形...
  • 本发明属于沉积技术领域,提供类旋转磁体、物理气相沉积设备及方法,其中,所述类旋转磁体包括安装板和多个电感线圈装置,所述多个电感线圈装置阵列排布在所述安装板上,多个电感线圈装置的通电顺序的控制实现磁极位置的不断移动,从而形成旋转磁场。本发明减...
  • 本发明涉及铂基薄膜技术领域,尤其涉及一种具有高温电阻稳定性能的Hf/Pt/Hf/YSZ多层薄膜及其制备方法。本发明提供了一种具有高温电阻稳定性能的Hf/Pt/Hf/YSZ多层薄膜,由下到上包括在氮化硅衬底上依次层叠设置的YSZ过渡层、Hf强...
  • 本发明公开了一种用于铝冲压件的复合DLC涂层高效制备装置,涉及DLC涂层制备技术领域,其技术方案是:包括真空室,真空室底部固定设有底壳,底壳底部安装有第一电机,第一电机输出端固定连接有传动轴,传动轴外部固定套设有转动盘,转动盘和传动轴均与真...
  • 一种镀铜线路板及其镀铜工艺,涉及线路板制造技术领域;线路板镀铜工艺包括:将介电基板进行表面清洗预处理后,采用高能离子束注入金属粒子,形成金属种子层;在所述金属种子层表面进行磁过滤电弧沉积处理,形成金属底层;在所述金属底层表面通过脉冲磁控溅射...
  • 本发明涉及一种镍铁合金靶材及其制备方法和应用,所述制备方法包括如下步骤:(1)混合镍粉和铁粉,得到混合粉;(2)对步骤(1)所述混合粉依次进行压实处理和真空热压烧结处理,得到所述镍铁合金靶材;其中,所述真空热压烧结处理包括依次进行的第一加压...
  • 本发明公开了一种Ti/TiCrAlSiN纳米多层薄膜及其制备方法与应用。所述Ti/TiCrAlSiN纳米多层薄膜包括在厚度方向上于基体表面依次层叠设置的多个周期单元,每个周期单元包括一Ti层和一TiCrAlSiN层;与所述基体相邻的周期单元...
  • 本发明涉及锂电池材料技术领域,具体公开了一种复合集流体及其真空全干法制备方法,制备方法包括S1、基材预处理;S2、磁控溅射沉积金属打底层;S3、等离子体增强化学气相沉积金属加厚层;S4、后处理步骤。该方法通过磁控溅射与PECVD在同一真空系...
  • 本发明公开了一种具有金刚石覆层三维骨架的离子束复合溅射靶材组件及其制备方法,包括:复合溅射靶材、冷却背板和过渡层,复合溅射靶材包括具有金刚石覆层的三维骨架,以及填充于所述三维骨架中的主溅射材料;所述三维骨架为蜂窝状结构或网状结构;过渡层设置...
  • 本公开提供铁磁性金属的制备方法和磁电输运器件。铁磁性金属的制备方法包括:采用低能团簇束流沉积方法,在衬底上沉积由CoFe形成的纳米团簇,以形成纳米颗粒膜,其中,纳米颗粒膜中不含掺杂元素。本公开利用团簇组装工程的纳米团簇结构无序特性和尺寸可调...
  • 本发明属于靶材制造领域,公开一种旋转靶材的涂布方法。包括以下步骤:(1)、检测靶材、清洗靶材并烘干处理;(2)、对靶材内壁进行紫外线处理;(3)、安装靶材至涂布夹具,在烘箱中对靶材进行热处理;(4)、将热处理后的靶材连同涂布夹具一起置于涂布...
  • 本申请公开一种多工艺兼容的镀膜设备。所述镀膜设备内限定有相互平行的第一直线传送方向和第二直线传送方向,所述第一镀膜腔和所述第二镀膜腔沿所述第一直线传送方向布置,所述第三镀膜腔和所述第四镀膜腔沿所述第二直线传送方向布置;所述中转腔内设置有旋转...
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