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电子电路装置的制造及其应用技术
  • 本实用新型属于玻璃瓶生产加工领域,具体的说是一种玻璃瓶生产加工用退火冷却装置,包括底座所述底座顶端固定连接有顶板,所述底座底端中间位置处固定连接有底板,所述底座外侧设置有降温输送机构;所述降温输送机构包括第一电机,所述第一电机设置在顶板顶端...
  • 本实用新型公开了一种停经架用的停经片分隔条定位架,涉及停经架技术领域,包括停经架和压紧组件;停经架:内部设置有均匀分布的分隔条;压紧组件:包含固定架、转轴、L型压紧架、连接块和螺栓,所述停经架内部的左右两侧设置有两个相对应的固定架,所述固定...
  • 本申请公开了一种面向曲线型芯片版图的掩模优化方法、装置、电子设备及可读存储介质,属于半导体制造技术领域。该方法包括步骤:获取目标曲线型芯片版图对应的设计图形;基于所述设计图形,生成用于表示初始掩模版图形的目标曲线;基于所述目标曲线确定边缘放...
  • 本发明提供一种提高原稿边缘引导件的宽度方向上的移动的操作性的图像形成装置。图像形成装置(1)具备图像形成装置主体部(200)和图像读取部(100),图像读取部(100)被设置在图像形成装置主体部(200)的上部处,并且具有主体托盘(111)...
  • 本发明公开了一种风电机组偏航制动控制方法,该方法包括:基于风电机组的偏航对风速度和液压站建立压力的速度,设置对风角度阈值和动作延后时间;根据对风角度阈值和动作延后时间,采用实际对风角度达到对风角度阈值以下时启动液压站、以及在偏航电机关闭后经...
  • 夹持框架包括第一、第二侧柱(642, 644)以及上、下夹持轨道(646, 648)。每个侧柱均包括具有带螺纹的外表面的心轴(652, 654)。夹持框架包括与其中一个带螺纹的外表面螺纹接合的两个主螺母(662, 664)。至少第一夹持轨道...
  • 本实用新型属于微电子技术领域,尤其涉及一种夹取装置及光刻机。夹取装置的支撑座上相对设置有两个夹取组件,两个夹取组件滑动设置于支撑座且能够配合夹取工件,支撑座安装的驱动机构包括驱动件、凸轮和随动组件,驱动件与凸轮传动连接,凸轮表面设置有螺纹槽...
  • 本发明提供一种纺织品制造用引纬装置,涉及纺织品制造技术领域。该纺织品制造用引纬装置,包括气源模块与控制平台,所述控制平台设置在气源模块的上端面靠前处,所述气源模块另一侧设有能量回收模块,所述气源模块一侧设有底板,所述底板下端面设有吸附结构,...
  • 本发明涉及半导体产品制备技术领域,具体提供了一种光罩光学层的斜向蚀刻方法,光阻剂膜通过电子束曝光让剩余的光阻剂膜形成全反射光学图案,再以光阻剂膜作为保护层,让全反射光学图案蚀刻到硬遮蔽膜上,最后将硬遮蔽膜作为保护层,通过斜向干式蚀刻,让光学...
  • 本实用新型公开了一种提花机电磁阀模组加固结构,涉及提花机产品技术领域,该提花机电磁阀模组加固结构,包括板体组,所述板体组的一端设置有加长组件, 滑轮组件上连接有延伸出加长组件的第二丝线,该第二丝线端部安装有快速接头,所述加长组件的两侧均设置...
  • 本实用新型公开了一种拼接式管路结构,包括漏斗部、存水弯部和排出管部,所述漏斗部、存水弯部和排出管部为分体结构,且漏斗部和存水弯部、存水弯部和排出管部连接处的管道分别设有适配的母头管道部和公头管道部,本实用新型实现了管道任一角度的调节,优化了...
  • 本申请涉及一种光刻胶图案生成方法、装置、设备、介质及产品。方法包括:获取输入掩膜图形,以及输入掩膜图形的近场特性图像,近场特性图像为入射电磁波透过输入掩膜图形后的电磁场分布图像;根据输入掩膜图形、近场特性图像,以及训练好的目标机器学习模型,...
  • 本发明涉及一种调色剂。一种调色剂,其包含各自含有粘结剂树脂和着色剂的调色剂颗粒以及钛酸锶细颗粒。钛酸锶细颗粒具有5.65eV至7.00eV的功函数。
  • 本实用新型提供了一种污水管道防堵装置,涉及防堵装置技术领域,包括罐体、灌盖和过滤网兜,所述罐体的顶部设有灌盖,所述罐体内部的上方固定连接有过滤网兜,所述过滤网兜与罐体之间设有粉碎机构,所述罐体的外侧设有疏通机构,所述罐体底部的一侧连通有排液...
  • 本实用新型公开了一种重力式多级矿砂分离装置,涉及采集锰结核设备技术领域。所述多级矿砂分离装置包括第一分离组件与第二分离组件,所述第一分离组件、第二分离组件内均具有管道、筛网以及推动器,所述第二分离组件与所述第一分离组件连通,所述第二分离组件...
  • 本实用新型涉及碳化硼生产技术领域,具体为自带防堵结构的磁选机,包括处理箱,所述处理箱的顶部开设有入料口,所述入料口的内部至上而下分别转动连接有刮料辊和疏料组件,所述处理箱的内壁之间转动连接有分料组件,所述疏料组件位于分料组件的上方,所述处理...
  • 本发明的目的在于提供一种相移掩模,其与使用具有透射率为5%左右的相移膜的掩模的情况相比能够以更短的所需时间来形成。掩模(300)具备:曝光用光(波长λ)的透射率为35%、并具有正方形的接触孔图案(20a)的相移膜(20),其形成在掩模基板上...
  • 本发明公开了一种淋浴杆上滑座的高度调节结构,包括淋浴杆和滑动套设在所述淋浴杆之外的滑座,滑座上设有用于放置花洒的插座,插座位于淋浴杆的一侧,滑座包括:滑座本体,具有一端设有开口的容腔和与容腔相通且上下贯通的通孔,淋浴杆穿设于通孔,插座可滑动...
  • 本发明涉及光刻胶技术领域,具体涉及一种光刻胶组合物及其制备方法;包括原料为对羟基苯乙烯共聚物30~45份、三苯基硫鎓盐2~4份、金属团簇物8~15份、环氧乙烷10~20份、自由基光引发剂2~3份、溶剂30~40份;以对羟基苯乙烯共聚物为主体...
  • 光学元件成型用模具具备:上模具,其具备上模具颈部和上表面成型面,所述上表面成型面设置于上模具颈部并成型光学元件的上表面;下模具,其具备下模具颈部和下表面成型面,所述下表面成型面设置于下模具颈部并成型所述光学元件的下表面;侧面模具,供上模具颈...
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