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电子电路装置的制造及其应用技术
  • 本实用新型公开了一种机械搅拌式浮选机,包括浮选机本体,固定连接在所述浮选机本体顶端的驱动电机,以及换传动连接在所述驱动电机的传动端的搅拌组件,所述浮选机本体的表面插接有驱动轴,所述驱动轴的表面对称安装有连杆,所述连杆的末端固定连接有刮板。连...
  • 本实用新型涉及安装支架技术领域,提出了一种FTIV阀安装支架,包括径向承载主体,轴向承载主体,所述径向承载主体用于设置在所述燃料储箱上,且其长度方向与所述FTIV阀的轴向垂直设置,所述径向承载主体远离所述燃料储箱的一侧具有定位槽,所述FTI...
  • 一种传送装置及图像形成装置,与向彼此相反的方向弯曲的第1夹入区域和第2夹入区域双方增加的情况相比,可抑制媒体的卷曲矫正的不良。传送装置具有:第1传送部件,沿规定的方向环绕并传送片状的媒体;第2传送部件,在与所述第1传送部件之间形成弯曲的第1...
  • 本发明涉及水电联产设备技术领域,具体涉及一种应用于缺水地区可持续稳定工作的水电联产装置及系统。该装置包括:集水器、第一吸附设备、冷凝设备、第二吸附设备、第一水箱、第二水箱、氢燃料电池组;所述集水器与冷凝设备连接,所述冷凝设备分别与第一吸附设...
  • 一种静电分离装置,其利用静电力从掺杂有导电性粒子以及绝缘性粒子的原料中分离导电性粒子,所述静电分离装置具备:形成有由原料构成的原料层的容器;被配置在原料层的底部的气体分散板;被配置在与气体分散板同一表面或者比起气体分散板更靠上方的原料层内的...
  • 本发明公开一种幕布张紧装置,包括:幕布,用于反射投影光线, 包括端部以及中间部分;幕布框架,用于承载幕布,幕布的端部以及中间部分设于幕布框架的入光侧和背光侧;连接件设于幕布的端部,带动幕布运动;连接卡条一端与连接件相卡接,另一端与幕布框架相...
  • 投影仪。能够抑制装置结构的大型化并且高效地冷却被连接设备。光源装置具备外装壳体和第1风扇,该外装壳体具有可装卸地收纳作为第1冷却对象的被连接设备的第1收纳部和收纳第2冷却对象的第2收纳部,第1风扇收纳在外装壳体中,通过将从外装壳体的外部进气...
  • 本实用新型涉及一种单杆共纬凸轮动力箱及高速剑杆织机,箱体内设有起综动力组,所述起综动力组包括起综输入轴和安装轴,所述起综输入轴的两端通过轴承转动连接在箱体上,安装轴的两端与箱体固定,所述起综输入轴上固定有两个起综共纬凸轮组,起综共纬凸轮组包...
  • 本实用新型涉及调蓄池支护技术领域,且公开了一种城市雨水调蓄池支护结构,包括水池支护组件,所述水池支护组件顶部和底部的内侧固定连接有框架支撑组件,所述框架支撑组件包括压缩杆组件,所述压缩杆组件的侧面活动套接有连接组件,所述连接组件的侧面转动连...
  • 一种高耐用玻璃料碗,涉及玻璃器具生产装置技术领域,包括外料碗,外料碗内设置有第一固定槽,外料碗的顶面安装有第二固定块,外料碗的底面开设有四个套管,外料碗内设置有内料碗,内料碗的顶面固定安装有环形固定板,环形固定板的底面设置有第二固定槽,内料...
  • 本实用新型公开了一种用于钢化玻璃均质处理的垫块,涉及玻璃生产技术领域,包括滑动架,滑动架上设有限位条,所述限位条一侧的滑动架上设有调节机构,所述调节机构上连接有垫块机构,所述垫块机构用于对钢化玻璃进行限位,所述垫块机构包括连接调节机构的支撑...
  • 本实用新型公开了一种弹性锁止式计量封印,本实用新型涉及计量封印技术领域,该弹性锁止式计量封印,包括壳体,所述壳体的主体为顶端单向开口结构,所述壳体的顶端面上固定连接有安装板,安装板共设有两处,两处安装板呈对向固定连接在壳体顶端面的左右两侧位...
  • 本实用新型公开了一种宠物围栏,包括若干连接管、若干三通管件以及用于固定各连接管与对应三通管件的限位装置,限位装置包括分别在连接管两端设置的限位孔以及分别在三通管件各分支上设置的弹性件,可在连接管与三通管件初步插接之后,操作弹性件实现限位凸起...
  • 一种光刻设备(LA),包括:第一环境(11),污染物(9)的源位于所述第一环境中;第二环境(12);通道(10),所述第一环境与所述第二环境之间的光学路径被设置为通过所述通道,其中,所述通道至少部分地由第一壁区段和第二壁区段(21、22)限...
  • 本申请提供一种山体式重力储能系统,涉及重力储能技术领域,利用山体自身高度落差的优势,实现重力发电,包括重力块、坡顶储存系统、坡顶过渡系统、转换系统、坡底过渡系统以及坡底储存系统;重力块堆叠在坡顶储存系统和坡底储存系统中,坡顶储存系统的出料端...
  • 一种扫描干涉光刻装置,涉及微纳结构制造的干涉光刻技术领域,解决现有扫描干涉光刻系统结构复杂,易受处界环境影响;干涉图样参数调整需要调节两臂光路中的光路元件以及调整过程较为复杂等问题,包括固定于支撑结构上的相位测量元件、相位测量探测器和光阑;...
  • 本发明公开了一种曝光剂量确定方法、装置、设备及存储介质,应用于光刻技术领域,包括:获取目标关键尺寸,以及光刻胶曝光后形成的曝光图案与刻蚀后的功能层图案之间的线宽漂移容忍极限;获取曝光剂量斜率;曝光剂量斜率为基于不同曝光剂量下对应曝光图案的关...
  • 本实用新型涉及纺织机械技术领域,公开了一种喷气织机摆动主喷嘴,包括连接座,所述连接座的底部固定连接有固定座,所述固定座的内部设置有喷嘴筒套,所述喷嘴筒套的内部设置有喷嘴组,所述喷嘴筒套的外表面开设有弹簧腔,所述弹簧腔的内壁固定连接有限位弹簧...
  • 本实用新型涉及可拆卸地安装在设置有被计数件的成像设备中的显影盒,该显影盒包括:壳体,用于容纳碳粉;显影辊,可旋转地设置在壳体中,用于承载碳粉,并具有与左右方向平行的旋转轴线;驱动力接收件,用于从成像设备中接收驱动力;计数组件,具有能够在靠近...
  • 本文描述了一种显示器制品,所述显示器制品包括:基板,所述基板包含厚度及主表面;且所述主表面上界定有绕射表面区域。所述绕射表面区域包含多个结构特征,所述多个结构特征包含呈多模式分布的多个不同高度。此外,所述基板展现出如在与法线成0°的入射角下...
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