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最新专利技术
  • 感光热固化显影性树脂组合物、其干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板
    感光热固化显影性树脂组合物、其干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板_太阳油墨(苏州)有限公司_202511135348.6
    印刷性优异、且能够形成具有优异的硬度和耐冷热冲击性的阻焊层的感光热固化显影性树脂组合物、其干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板。感光热固化显影性树脂组合物含有(A)乙烯基酯树脂、(B)光聚合引发剂、(C)磷酸酯系分散剂、(D)在一分子...
    2026-01-30
  • 涂胶显影方法及其装置、电子设备、存储介质
    涂胶显影方法及其装置、电子设备、存储介质_香港科技大学(广州)_202511358829.3
    本申请涉及微观尺度加工技术领域，尤其是涉及一种涂胶显影方法及其装置、电子设备、存储介质。本申请实施例的涂胶显影方法，需要先获取涂胶工艺输入参数和显影工艺输入参数；针对所述涂胶工艺输入参数和所述显影工艺输入参数分别进行合规性筛查，得到规范目标...
    2026-01-30
  • 一种光学防伪元件及其制备方法
    一种光学防伪元件及其制备方法_中钞特种防伪科技有限公司_202410533093.8
    本发明提供了一种光学防伪元件及其制备方法。光学防伪元件的制备方法包括：提供基板；在基板一侧表面形成具有第一结构的感光胶层；对部分具有第一结构的感光胶层进行曝光处理，使具有第一结构的感光胶层形成互不重叠的第一区域和第二区域，第一区域为经过曝光...
    2026-01-30
  • 一种单线型光波导超低膨胀微晶玻璃飞秒激光直写方法
    一种单线型光波导超低膨胀微晶玻璃飞秒激光直写方法_上海大学_202510958973.4
    本发明涉及一种无需掩膜，直接用飞秒激光直写技术在超低膨胀微晶玻璃中制备单线型光波导的方法，属于光波导制备及集成光子学领域。制备步骤如下：(1)选取商用超低膨胀微晶玻璃作为基质材料，并对样品进行超声清洗预处理；(2)利用脉宽300fs的飞秒激...
    2026-01-30
  • 一种可测定电子束流的隔离阀装置
    一种可测定电子束流的隔离阀装置_中国电子科技集团公司第四十八研究所_202511043750.1
    本发明公开了一种可测定电子束流的隔离阀装置，将外壳底座设置在电子束曝光机的电子枪上，并处于真空环境，隔离阀座设置在外壳底座内，阀芯组件设置在隔离阀座内，并密封贯穿外壳底座侧部，通过阀芯组件沿着外壳底座侧部在隔离阀座内往复移动，以实现电子枪中...
    2026-01-30
  • 一种利用氧化钆薄膜靶提高极紫外光源辐射的方法
    一种利用氧化钆薄膜靶提高极紫外光源辐射的方法_长春理工大学_202511087461.1
    本发明涉及极紫外光源辐射技术领域，具体公开了一种利用氧化钆薄膜靶提高极紫外光源辐射的方法。包括以下步骤：步骤1：利用硝酸钆溶液进行电沉积，制备得到氧化钆薄膜靶；步骤2：采用激光器作为产生极紫外光源的驱动激光光源，设置入射激光能量、入射激光波...
    2026-01-30
  • 确定结合衬底叠层的对准的方法、衬底叠层和光刻设备
    确定结合衬底叠层的对准的方法、衬底叠层和光刻设备_ASML荷兰有限公司_202511096408.8
    公开了一种用于确定结合衬底叠层的对准的方法、衬底叠层和光刻设备。所述结合衬底叠层至少包括第一衬底和第二衬底，所述方法包括：照射复合对准结构，所述复合对准结构包括所述第一衬底上的第一衍射结构和所述第二衬底上的第二衍射结构；以及基于从对所述复合...
    2026-01-30
  • 一种对准装置和高速宽光谱套刻对准量检测设备
    一种对准装置和高速宽光谱套刻对准量检测设备_苏州天准科技股份有限公司_202511208419.0
    本发明提供了一种对准装置和高速宽光谱套刻对准量检测设备，属于半导体套刻对准量检测技术，装置的对准照明光组的出射光线透射进入耦合光组以提供照明光，耦合光组的光线反射进入对准成像光组以提供目标物的图像信息；设备包括机架、移动载台、测量架、Z轴驱...
    2026-01-30
  • 一种高产能超分辨光纤数字化光刻系统、使用方法及设备
    一种高产能超分辨光纤数字化光刻系统、使用方法及设备_西湖大学光电研究院_202511266088.6
    本申请公开了一种高产能超分辨光纤数字化光刻系统、使用方法及设备，涉及半导体设备及芯片制造领域，该系统中：智能数字化编程与高速扫描控制模块编程光刻图案和调控光刻过程；光源模块同时发射STED超分辨光刻激发和抑制光束；激光调制与合束模块优化激光...
    2026-01-30
  • 基于掩模误差模型优化的光学临近效应修正方法、系统及终端
    基于掩模误差模型优化的光学临近效应修正方法、系统及终端_浙江创芯集成电路有限公司_202511267115.1
    本发明提供一种基于掩模误差模型优化的光学临近效应修正方法、系统及终端，通过获取特定光刻工艺下的大量掩模制造数据，构建涵盖多个工艺条件的数据样本集。基于此样本集，构建物理光学子模型和机器学习子模型，形成掩模误差模型，用于输出最终掩模关键尺寸值...
    2026-01-30
  • 动态可调的辅助遮光模块及其调节方法、介质、程序和终端
    动态可调的辅助遮光模块及其调节方法、介质、程序和终端_浙江创芯集成电路有限公司_202511267727.0
    本申请提供一种动态可调的辅助遮光模块及其调节方法、介质、程序和终端，该遮光模块叠放于所述掩膜版的上方且二者相互贴合，遮光板由第一挡板、第二挡板的内侧边围合成窗内透光、窗外遮光的矩形窗结构，将所述矩形窗结构与掩膜版上的曝光区域对齐后，能够对上...
    2026-01-30
  • 辅助遮光模块及其调节方法、介质、程序和终端
    辅助遮光模块及其调节方法、介质、程序和终端_浙江创芯集成电路有限公司_202511267729.X
    本申请提供一种辅助遮光模块及其调节方法、介质、程序和终端，在光刻机的物镜下方、晶圆上方设置一遮光板，遮光板带有能够透光的矩形窗，令矩形窗的长宽比例和当前曝光区域的长宽比例一致，且矩形窗的对角线交点和当前曝光区域的对角线交点处于同一垂直光轴，...
    2026-01-30
  • 一种立式曝光机以及工件检测方法
    一种立式曝光机以及工件检测方法_广东科视光学技术股份有限公司_202511274927.9
    本发明涉及曝光机技术领域，提供一种立式曝光机以及工件检测方法，其包括：支撑座；曝光机构设于所述支撑座，用于对工件进行曝光；框架部，所述框架部竖立于所述支撑座设置，用于安装工件；工件检测机构用于检测安装于所述框架部上的工件的工件参数。本申请中...
    2026-01-30
  • 一种立式曝光机以及控制方法
    一种立式曝光机以及控制方法_广东科视光学技术股份有限公司_202511274943.8
    本发明涉及曝光机技术领域，提供一种立式曝光机曝光机控制方法，其包括：支撑座；曝光机构，设于所述支撑座，用于对工件进行曝光；框架部，所述框架部竖立于所述支撑座设置，所述框架部包括安装部和牵引组件；所述安装部用于安装工件，所述牵引组件用于对所述...
    2026-01-30
  • 一种光刻机光掩模夹具和JBX光刻机
    一种光刻机光掩模夹具和JBX光刻机_广州新锐光掩模科技有限公司_202511294627.7
    本发明公开了一种光刻机光掩模夹具和JBX光刻机，光刻机光掩模夹具包括夹具主体、两边缘导通针和中部导通针，两边缘导通针间隔设置于夹具主体一水平夹持边缘的两端；两边缘盖板对应覆盖两边缘导通针，边缘盖板包括缩进部，缩进部位于边缘盖板靠近光掩模的横...
    2026-01-30
  • 一种光刻机的高精度温度控制方法及系统
    一种光刻机的高精度温度控制方法及系统_深圳市国仪兴科技有限公司_202511314566.6
    本发明公开了一种光刻机的高精度温度控制方法及系统，属于光刻机温控技术领域，采集掩模版下表面温度阵列、曝光台承载面热流密度分布及气浮层热压差信号，并进行特征编码，构建高维热耦合态势特征矩阵；随后基于该矩阵生成动态热权重关联图谱，将曝光关键节点...
    2026-01-30
  • 一种基于飞秒激光时间复用的线扫描双光子加工系统
    一种基于飞秒激光时间复用的线扫描双光子加工系统_华中科技大学_202511346036.X
    本申请属于微纳加工制造领域，更具体地，涉及一种基于飞秒激光时间复用的线扫描双光子加工系统。其包括沿光路依次设置的飞秒激光光源、扫描器、匀光聚焦装置、色散掩膜装置、中继投影装置和位移台；于匀光聚焦装置和色散掩膜装置之间或者色散掩膜装置和中继投...
    2026-01-30
  • 一种光楔调焦机构、曝光机和智能双平台LDI系统
    一种光楔调焦机构、曝光机和智能双平台LDI系统_苏州天准科技股份有限公司_202511356524.9
    本发明提供了一种光楔调焦机构、曝光机和智能双平台LDI系统，属于激光智能加工领域，光楔调焦机构包括补偿光楔和光楔驱动模块；补偿光楔采用相对间隔滑动的双楔形棱镜；补偿光楔的上光楔和/或下光楔与光楔驱动模块连接，光楔驱动模块基于产品表面起伏数据...
    2026-01-30
  • 光线偏移模块、校准装置及校准方法
    光线偏移模块、校准装置及校准方法_新毅东(北京)科技有限公司_202511404690.1
    本申请涉及光刻设备技术领域，具体涉及一种光线偏移模块、校准装置及校准方法，光线偏移模块包括一体工装、偏移镜以及第一光阑；所述一体工装第一端设有第一安装槽、第二端设有第二安装槽；所述偏移镜嵌设在所述第一安装槽中，所述第一光阑设于第二安装槽中；...
    2026-01-30
  • 一种确定光刻工艺窗口的方法
    一种确定光刻工艺窗口的方法_荣芯半导体(宁波)有限公司_202511406845.5
    一种确定光刻工艺窗口的方法，该方法包括：获取光刻版图和光刻工艺信息，基于所述光刻版图和所述光刻工艺信息建立光学模型；基于所述光学模型对所述光刻版图中预设的标准监测图形进行仿真，以得到最佳曝光参数；基于所述最佳曝光参数和所述光学模型，对所述光...
    2026-01-30
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