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最新专利技术
  • 数控回转工作台空间姿态测量调节方法及升降锁紧机构
    数控回转工作台空间姿态测量调节方法及升降锁紧机构_中国工程物理研究院激光聚变研究中心_202511198432.2
    本发明涉及数控回转工作台空间姿态测量调节方法及升降锁紧机构，其中方法将数控回转工作台通过三个间隔120°的升降锁紧机构安装于X轴滑台中央，其中升降锁紧机构A位于X轴正向侧，升降锁紧机构B、升降锁紧机构C分别位于Y轴正向侧、Y轴负向侧；将位移...
    2026-01-14
  • 一种用于生产装饰镜片的旋转装置
    一种用于生产装饰镜片的旋转装置_安徽弘星家美装饰品有限公司_202511403789.X
    本发明公开了一种用于生产装饰镜片的旋转装置，包括支架，所述支架的上端中部固定连接有转动杆，所述转动杆的上端转动连接有安装平台，所述安装平台的中部开设有通槽，通槽内腔设置有用于限制转动杆角度的定位机构，安装平台的下部一侧设置有安装板，安装板靠...
    2026-01-14
  • 一种半导体材料生产用排水设备
    一种半导体材料生产用排水设备_海珀(滁州)材料科技有限公司_202511036583.8
    本发明适用于半导体生产设备技术领域，提供了一种半导体材料生产用排水设备，包括加工箱，加工箱的顶部设置有加工区，加工区的底部开设有若干个通水孔二，加工区的下方从上至下依次设置有排水区和储水区，排水区的内壁上从上至下倾斜固接有除砂板和除尘板，除...
    2026-01-14
  • 一种晶圆传输方法
    一种晶圆传输方法_华海清科股份有限公司_202510900110.1
    本发明公开了一种晶圆传输方法，涉及晶圆制造技术领域；该晶圆传输方法包括：前置单元的前置机械手将晶圆放置于轨道起始位置的晶圆夹持机构上；晶圆夹持机构沿轨道移动至抛光单元的交互位置，在所述交互位置，晶圆夹持机构将晶圆放置于装载组件的装载盘；抛光...
    2026-01-14
  • 一种硅晶圆研磨用旋转转盘
    一种硅晶圆研磨用旋转转盘_苏州市安佐智能科技有限公司_202511441291.2
    本发明公开一种硅晶圆研磨用旋转转盘，包括转盘、调节模块、锁止模块、底盘、晶圆载具；所述晶圆载具顶部设有可以嵌合晶圆的卡槽；所述转盘为圆形转盘，转盘圆心设有安装口，转盘上设有均匀交错分布多个同心圆圆环和同心圆凹槽，所述转盘上呈十字均匀分布四个...
    2026-01-14
  • 一种轴瓦的检测定位装置
    一种轴瓦的检测定位装置_浙江申发轴瓦股份有限公司_202511387960.2
    本发明公开了一种轴瓦的检测定位装置，包括固定座、环套、压杆，固定座能够上下移动，固定座设有通孔，环套穿过通孔，通孔的孔径大于环套的外径，压杆插入固定座、且伸出通孔的孔壁，压杆能够沿通孔的径向移动，压杆沿通孔的周向均布有三个，压杆沿通孔的径向...
    2026-01-14
  • 一种用于化学机械抛光的弹性膜和承载头
    一种用于化学机械抛光的弹性膜和承载头_华海清科股份有限公司_202511270349.1
    本发明公开了一种用于化学机械抛光的弹性膜和承载头，属于晶圆制造技术领域。该弹性膜包括：圆盘状的底板；直立筋，自所述底板的边缘向上延伸；间隔筋，设置于直立筋的内侧并自底板向上延伸，以分隔形成多个子压力腔室；所述间隔筋包括褶皱部和连接部，所述褶...
    2026-01-14
  • 一种用于硅衬底划伤修复的抛光垫及其制备工艺
    一种用于硅衬底划伤修复的抛光垫及其制备工艺_东莞市盈鑫半导体材料有限公司_202511145417.1
    本申请涉及半导体硅加工领域，公开一种用于硅衬底划伤修复的抛光垫及其制备工艺。一种用于硅衬底划伤修复的抛光垫，由无纺布浸渍聚氨酯复合胶液制得，聚氨酯复合胶液由以下重量份的原料制得：聚氨酯树脂100‑120份、弹性剂25‑35份、DMF 80‑...
    2026-01-14
  • 用于化学机械抛光工艺的多层子垫
    用于化学机械抛光工艺的多层子垫_台湾积体电路制造股份有限公司_202510975134.3
    本申请提供了用于化学机械抛光工艺的多层子垫。一种装置包括：顶部垫，包括多个突出和在多个突出之间的多个凹槽；顶部垫之下的第一粘合膜；以及第一抗变形层，在顶部垫之下并通过第一粘合膜附接到顶部垫。第一抗变形层具有第一硬度。该装置还包括第二粘合膜和...
    2026-01-14
  • 一种碳刷自动研磨设备
    一种碳刷自动研磨设备_江苏华宇碳素有限公司_202511390452.X
    本发明涉及一种碳刷自动研磨设备，包括机柜，机柜上安装有上料组件、夹持移动组件、夹持旋转组件研磨组件与出料传输带；所述的上料组件包括底板，底板下方安装有进料传输带，底板上设置有放料槽与滑槽，滑槽与放料槽相通，放料槽的内安装有推料板，滑槽内滑动...
    2026-01-14
  • 一种研磨垫和研磨垫的弹性模量调节方法
    一种研磨垫和研磨垫的弹性模量调节方法_北京创思工贸有限公司_202511126095.6
    本申请涉及光学加工工装制造技术领域，提供了一种研磨垫和研磨垫的弹性模量调节方法，本申请提供的研磨垫包括：弹性调节层、压力感知层、控制层；压力感知层用于采集弹性调节层的压力分布信息，并将压力分布信息传输到控制层；控制层用于根据压力分布信息，确...
    2026-01-14
  • 一种光纤跳线用端面研磨装置
    一种光纤跳线用端面研磨装置_苏州锦玉宸光电科技有限公司_202511350269.7
    本发明公开了一种光纤跳线用端面研磨装置，涉及光纤跳线生产领域，包括机体，机体上设置有打磨轮，且机体上还固定连接有支撑板；还包括自动涂液机构，自动涂液机构包括安装于打磨轮正上方位置的固定框，固定框的底端固定连接有涂抹海绵，固定框的底端还开设有...
    2026-01-14
  • 一种基于声-光-磁多能场协同的化学机械抛光装置与方法
    一种基于声-光-磁多能场协同的化学机械抛光装置与方法_清华大学_202511251385.3
    本发明涉及一种基于声‑光‑磁多能场协同的化学机械抛光装置与方法。化学机械抛光装置包括安装架、真空转台、驱动组件、抛光头和催化光发生器，真空转台具有安装端和溢流槽，真空转台能够在安装端形成负压以用于固定晶圆，溢流槽用于盛接抛光液，安装端位于溢...
    2026-01-14
  • 一种微晶玻璃的研磨抛光装置及方法
    一种微晶玻璃的研磨抛光装置及方法_长春师范大学_202511164749.4
    本发明公开一种微晶玻璃的研磨抛光装置及方法，属于抛光装置技术领域，包括安装板，所述安装板上设有升降组件，所述升降组件上设有能旋转的T形板，所述T形板上设有用于水平工件的研磨的水平研磨组件和用于竖直工件的夹持的夹持组件；所述安装板两侧对称设有...
    2026-01-14
  • 一种基于多参数反馈的碳化硅抛光液精密调控系统
    一种基于多参数反馈的碳化硅抛光液精密调控系统_安力科技(苏州)有限公司_202511532041.X
    本发明公开了一种基于多参数反馈的碳化硅抛光液精密调控系统，具体涉及碳化硅加工技术领域，包括碳化硅抛光液中央控制模块、碳化硅抛光液参数检测模块、碳化硅抛光液初级调控模块、碳化硅抛光液次级调控模块以及碳化硅抛光液调控优化模块；所述碳化硅抛光液中...
    2026-01-14
  • 屏显玻璃边角磨削设备
    屏显玻璃边角磨削设备_苏州光斯奥光电科技有限公司_202511492422.X
    本发明公开了屏显玻璃边角磨削设备，其包括定位平台、驱动定位平台沿着磨削路径横移的横移单元、位于磨削路径两侧的研磨单元。本发明一方面基于风刀所形成弧形阻隔区将研磨段阻隔，通过水刀形成第一、二流体穿过研磨段并分别贴合研磨轮的磨削槽和玻璃表面将废...
    2026-01-14
  • 一种研磨装置以及空调液管屏蔽穿舱法兰
    一种研磨装置以及空调液管屏蔽穿舱法兰_苏州江南航天机电工业有限公司_202511428485.9
    本发明涉及波导管及其加工技术领域，尤其是一种研磨装置以及空调液管屏蔽穿舱法兰，研磨装置针对长宽(直径)比例较大的波导管能够实现对管内壁的精密研磨加工，且能够在一次加工活动中快速切换不同的研磨液目数，能够实现多阶段的粗加工、半精加工和精加工，...
    2026-01-14
  • 液压辅助齿轮恒力化学机械抛光装置及方法
    液压辅助齿轮恒力化学机械抛光装置及方法_集美大学_202511160324.6
    本发明公开一种液压辅助齿轮恒力化学机械抛光装置及方法，属于齿轮制造及抛光加工装置技术领域，包括液压系统和曲柄滑块机构，液压系统包括油箱，油箱通过泵连通有二位四通电磁换向阀，泵与二位四通电磁换向阀之间连通有定值减压阀，二位四通电磁换向阀连通有...
    2026-01-14
  • 一种发动机活塞抛光设备及使用方法
    一种发动机活塞抛光设备及使用方法_宁波瑾科机械制造有限公司_202511509479.6
    本发明公开了一种发动机活塞抛光设备及使用方法，涉及发动机加工设备技术领域。本发明包括第一支架和抛光组件，第一支架的顶部固定有抛光箱，抛光组件安装在抛光箱的内部，抛光箱的顶部固定有进料筒；还包括第二支架，第二支架固定在抛光箱的底部，第二支架的...
    2026-01-14
  • 一种复杂内表面化学增强磁性剪切增稠介质流抛光方法
    一种复杂内表面化学增强磁性剪切增稠介质流抛光方法_山东理工大学_202511102237.5
    本发明公开了一种复杂内表面化学增强磁性剪切增稠介质流抛光方法，属于磁场辅助抛光技术领域。针对传统磨料流抛光面临的抛光效率低、精准调控难、去除均一性差的难题，研制化学增强磁性剪切增稠抛光介质，将内表面通道与抛光系统形成流道，在加工区域配置不同...
    2026-01-14
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