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  • 本申请涉及管道固定件饰面,尤其涉及一种用于将饰面应用到硬件组的方法,包括对腔室进行加热,对包括硬件组的腔室进行加压以在腔室中形成真空,将至少一种气体应用到腔室中的已电离的靶材料以形成非反应性涂层,以及在预先确定的时间范围内以动态增加的压力向...
  • 本申请提供一种金属单原子沉积方法及单原子沉积设备,该金属单原子沉积方法包括:将衬底置于一沉积腔中;向沉积腔中通入金属单原子,金属单原子通过气流载体朝向衬底移动;在沉积腔内施加电场,金属单原子在电场作用下加速向衬底移动,并沉积在衬底上。本申请...
  • 本申请公开了一种闪蒸器、送粉系统及薄膜沉积设备,涉及气相输运沉积的技术领域。闪蒸器,包括:输送管组件,包括依次连通的第一闪蒸室、集流通道和第二闪蒸室,第一闪蒸室具有第一粉料进口,第二闪蒸室具有第二粉料进口,集流通道具有喷口,且喷口位于第一闪...
  • 本发明涉及蒸发镀膜技术领域,具体涉及一种连续供液的感应加热蒸发镀膜设备,包括第二真空室,所述第二真空室内设置有第一输送管道,所述第一输送管道的侧部通过第二输送管道连通有预熔坩埚以用于将原料块熔化,所述第一输送管道上通过所述第二输送管道还连通...
  • 本申请涉及一种铜锡层表面离子镀加厚层的工艺方法,一种铜锡层表面离子镀加厚层的工艺方法包括对真空室不同高度位置的实时温度进行监测,当根据各个实时温度确定而出的上限目标温度达到温度区间的预设上限温度时,向布气结构通入冷却介质气体以对真空室进行降...
  • 本发明涉及一种高致密度铝钛合金靶材的制备方法,所述制备方法包括以下步骤:(1)将钛粉与铝粉混合均匀,得到混合粉末;(2)将所述混合粉末进行冷等静压处理,得到合金压坯;(3)将步骤(2)所述合金压坯装入包套后,依次进行包套焊接处理、脱气处理以...
  • 本申请涉及粉末冶金的技术领域,具体涉及一种带热沉层的TiAl合金靶材及其制备方法。该制备方法具体包括以下步骤:纯Ti模块的制备、TiAl模块的制备、SPS烧结、成品加工。其中,SPS烧结按照纯Ti模块在下、TiAl模块在上的方式,将纯Ti模...
  • 本发明公开了一种复合靶材及其制作方法和应用,其中一种复合靶材包括基底和功能层;所述基底材料为金属单质,所述金属单质在元素周期表中的原子序数Z为:Z≥40;所述功能层的材料为单质物,所述的单质物在元素周期表中的原子序数Z为:Z<10;所述功能...
  • 本发明涉及真空镀膜设备领域,特别是涉及一种真空镀膜设备的磁导向装置,包括磁导向架、两个导向磁铁、料架和料架磁铁;磁导向架设置为框架结构,磁导向架底端设置有一个活动口,活动口的宽度小于磁导向架的内部宽度;两个导向磁铁分别设置在磁导向架的内部相...
  • 本发明公开了一种带偏压输入的镀膜转架,其采用“滚珠”结构代替轴承滑动,因为“滚珠”结构不需要精密,允许一定的变形量,故而转架能够在比较高温环境下保持正常转动运行;其次,通过转架衬板组件的设置,能够间接降低“滚珠”结构受温度的影响;并且,上衬...
  • 本发明提供一种利用调制反应氛围磁控溅射制备的氧化钨纳米薄膜及其制备方法,制备方法包括:基板的清洗与干燥;将干燥后的基板固定在样品拖,并将样品拖安装在样品台上;将溅射室与沉积室同时抽真空;调整溅射室内靶材与喷嘴距离,使得靶材与喷嘴的距离为95...
  • 本发明提供一种高硬度金属钨纳米晶薄膜及其制备方法,制备方法包括:对衬底进行清洗;将干燥后的衬底固定于可二维旋转的样品台中心位置,并通过传样杆传送入腔室;向腔室内通入高纯氩气;同时,衬底加负偏压,以对衬底表面进行离子清洗与刻蚀;对样品台上的衬...
  • 本发明提供一种PET铜箔制作用靶材溅射角度控制装置,用于解决现有技术中靶材利用率低、覆膜均匀性差、靶材寿命短且更换繁琐、工艺适应性有限以及生产效率受限的问题。为此,本发明提供一种PET铜箔制作用靶材溅射角度控制装置,包括:密封工作舱、放卷端...
  • 本申请提供一种铁铬铝合金的制备方法及电热元件,制备方法包括:将铁铬铝合金原料制成合金基材;对合金基材进行表面预处理;对合金基材注入非金属离子源;对离子注入后的合金基材采用快速热退火处理,制得铁铬铝合金;电热元件由铁铬铝合金加工形成,铁铬铝合...
  • 一种沉积设备包括:腔室,包括能设置为大气条件或真空条件的内部空间;基板支撑件,在腔室的内部空间中并且被配置为支撑基板;第一驱动器,被配置为使基板支撑件在第一方向和与第一方向相反的方向上往复移动;静电吸盘,在第一方向上与基板支撑件间隔开;位移...
  • 本申请涉及PVD镀膜用双侧靶距可调旋转工装设备,涉及PVD镀膜技术领域,其中包括两组相对且平行地设置于产品两侧的铜溅射靶。本申请通过转动机构带动产品旋转,确保膜层均匀沉积。具体而言,控制正反电机启动后,其输出轴带动转轴转动,由于转轴穿设在固...
  • 本发明公开了一种用于真空镀膜的转架装置,涉及真空镀膜技术领域,包括顶板、底板和中部支柱,所述中部支柱与底板的上表面中部固定连接,所述中部支柱的上端与顶板的中部固定连接,急停机构,所述急停机构设置于顶板的下方,所述急停机构包括固定连接于中部支...
  • 本发明公开了一种具有高度调节功能的真空镀膜夹具,涉及镀膜夹具技术领域,包括放置盒,所述放置盒内部设置有用于同时固定多个基片的夹持机构,所述放置盒底部设置有用于改变基片高度的升降机构,所述放置盒侧面设置用于同时解除多个基片的释放机构,所述放置...
  • 本发明公开了一种摄像头镜片自动双面超硬AR光学镀膜装置,涉及镜片镀膜技术领域,包括镀膜机主体,所述镀膜机主体的下侧固定连接有支撑块,所述镀膜机主体的内侧转动连接有转轴,所述转轴的上侧固定连接有转盘,所述镀膜机主体的下侧固定连接有驱动转轴转动...
  • 本发明涉及真空镀膜设备领域,特别是涉及一种真空观察窗用活动挡板组件,包括玻璃压板、密封座、手轮和活动挡板;玻璃压板安装在视镜长管的一端,用于对视镜玻璃进行固定,视镜长管的另一端为真空侧;密封座安装在视镜短管的上端,视镜短管与视镜长管连通,密...
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