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最新专利技术
  • 一种实现动态浓度调节的原子气室及其制备方法和应用
    一种实现动态浓度调节的原子气室及其制备方法和应用_北京铸合科技有限公司_202511311735.0
    本发明提供了一种实现动态浓度调节的原子气室及其制备方法和应用，属于原子钟技术领域。本发明提供的原子气室中存在两个彼此连通的微型腔室，分别为激光反应腔室和存储腔室，激光反应腔室为原子钟的核心反应区，激光束将在此区域穿过，与碱金属原子产生共振；...
    2025-12-30
  • 一种健美操音乐节拍训练装置
    一种健美操音乐节拍训练装置_六盘水师范学院_202511443227.8
    本发明公开了一种健美操音乐节拍训练装置，涉及音乐训练器材技术领域。本发明包括收纳箱，收纳箱的内部设置有节拍器本体，节拍器本体的两端均固定安装有滑动块，其中一个滑动块螺纹连接有第一螺纹杆，另一个滑动块滑动连接在导向杆上，第一螺纹杆固定安装在驱...
    2025-12-30
  • 英语阅读速度测试装置
    英语阅读速度测试装置_西安翻译学院_202511660158.6
    本发明涉及英语训练测试技术领域，具体地说是英语阅读速度测试装置，包括沙漏与底座，所述底座上固定连接有对称设置的支撑板，所述沙漏中间通道的一侧固定连接有转动杆，所述转动杆上固定连接有定位块，其中一个所述支撑板对应定位块位置处设有定位机构，所述...
    2025-12-30
  • 陶瓷钟表或珠宝组件
    陶瓷钟表或珠宝组件_科马杜尔公司_202510812595.9
    本发明涉及一种钟表或珠宝组件，其特征在于，其含有体积百分比为99％至100％的γ相氮化硅。
    2025-12-30
  • 一种基于散射场波前整形功能超表面的全息显示方法
    一种基于散射场波前整形功能超表面的全息显示方法_北京航空航天大学_202511407288.9
    一种基于散射场波前整形功能超表面的全息显示方法，通过独特的结构设计和物理机制创新，能够实现对散射光场的高精度波前整形，为复杂散射环境下的全息显示提供全新的解决方案。其特征在于，包括步骤1，利用超表面器件的铝光栅层连接体散射光场，所述铝光栅层...
    2025-12-30
  • 一种定影温度控制方法、装置及图像形成设备
    一种定影温度控制方法、装置及图像形成设备_珠海奔图电子有限公司_202511159754.6
    本发明提供了一种定影温度控制方法、装置及图像形成设备，涉及打印机定影控制领域，用于解决现有技术通过降低打印速度的方式防止温度持续增高进而导致打印作业的输出效率降低的缺陷。本发明的定影温度控制方法包括：接收图像形成作业；根据设备状态参数确定目...
    2025-12-30
  • 显影盒和处理盒
    显影盒和处理盒_中山市三润打印耗材有限公司_202511511815.0
    本发明提供一种显影盒和具有该显影盒的处理盒，处理盒可拆卸地安装至成像设备，显影盒包括用于容纳显影剂的显影壳体、可旋转设置在显影壳体的显影辊、用于接收来自成像设备驱动力的显影驱动件以及与显影壳体连接的第一驱动端盖，显影辊包括显影辊轴和设置在显...
    2025-12-30
  • 颜色映射封装与数据包
    颜色映射封装与数据包_惠普发展公司, 有限责任合伙企业_202511327027.6
    本公开涉及颜色映射封装与数据包。一种存储器结构存储多个颜色映射，当被打印机控制器解压缩时，实体包括：多个第一级封装，每个第一级封装包括至少一个特性以识别对应的颜色映射，以及用于定义和定位用于构建颜色映射的数据包的配方，所述配方对于每个第二级...
    2025-12-30
  • 去除光刻胶残留物的方法、衬底
    去除光刻胶残留物的方法、衬底_荣芯半导体(宁波)有限公司_202511304819.1
    一种去除光刻胶残留物的方法、衬底，方法包括：在承载台上放置衬底，衬底上具有经显影处理的光刻胶层；通过第一喷嘴向衬底施加清洗液以去除光刻胶层经显影处理后的残留物；其中，在施加清洗液的过程中，控制承载台的旋转速度在最大值不大于1000rpm的预...
    2025-12-30
  • 光阻剥膜液及其使用方法
    光阻剥膜液及其使用方法_南亚塑胶工业股份有限公司_202410835806.6
    本发明公开一种光阻剥膜液及其使用方法。光阻剥膜液包括第一剥膜液与第二剥膜液。光阻剥膜液不包含有机碱，第一剥膜液包括30克/升至45克/升的无机碱、5重量百分比至15重量百分比的第一唑类化合物、2重量百分比至10重量百分比的界面活性剂及水。无...
    2025-12-30
  • 一种抑制光敏材料聚合的显影液及方法
    一种抑制光敏材料聚合的显影液及方法_东莞秀博电子材料有限公司_202511134163.3
    本发明公开了一种抑制光敏材料聚合的显影液及方法，包含两种或两种以上无机碱性化合物以及一种或多种具有如下结构式的添加剂，所述显影液为将浓缩显影液按体积比1％‑4％稀释后得到的溶液；本发明采用混合无机碱性化合物及特定的添加剂及其组合制备显影液，...
    2025-12-30
  • 基于曲面拟合的工艺窗口预测方法
    基于曲面拟合的工艺窗口预测方法_上海芯无双仿真科技有限公司_202511724815.9
    本发明提供基于曲面拟合的工艺窗口预测方法，涉及光刻技术领域，包括预测系统，预测系统中包含控制模块、测量数据处理模块、模型仿真模块、工艺窗口分析模块和可视化模块，本技术方案通过曲面拟合预测工艺窗口，同时考虑Focus/Dose参数对CD的影响...
    2025-12-30
  • 层间对准误差的测量方法、装置及电子设备
    层间对准误差的测量方法、装置及电子设备_深圳市埃芯半导体科技有限公司_202511696790.6
    本申请提供一种层间对准误差的测量方法、装置及电子设备，其方法包括：获取待测量的套刻标记图像；采用多级模板对套刻标记图像进行匹配定位，获得第一标记框对应的第一ROI区域和第二标记框对应的第二ROI区域；基于第一ROI区域和第二ROI区域，对第...
    2025-12-30
  • 快门装置、快门控制系统及光刻设备
    快门装置、快门控制系统及光刻设备_智慧星空(上海)工程技术有限公司_202511666336.6
    本申请公开了一种快门装置、快门控制系统及光刻设备，属于半导体设备领域。本申请的快门装置包括：驱动单元，包括定子组件和动子组件，定子组件包括定子轭和磁铁阵列，磁铁阵列中的多个磁铁沿周向分布于定子轭且周向相邻的磁铁彼此紧贴，动子组件包括具有对称...
    2025-12-30
  • 一种金属掩膜版基材的曝光方法及曝光组件
    一种金属掩膜版基材的曝光方法及曝光组件_浙江众凌科技有限公司_202511613668.8
    本申请提供一种金属掩膜版基材的曝光方法和曝光组件。所述曝光方法包括：将金属掩膜版基材放置在正对设置的移动侧光罩和基准侧光罩之间，在所述移动侧光罩表面上下两端、位于有效曝光区外分别设置断张组件。该断张组件采用柔软的材料制作、长度不短于该金属掩...
    2025-12-30
  • 高重频脉冲串超短脉冲激光还原直写方法
    高重频脉冲串超短脉冲激光还原直写方法_北京工业大学_202511585417.3
    本发明提供一种高重频脉冲串超短脉冲激光还原直写方法，应用于激光加工技术领域，上述方法包括：制备前驱体油墨，前驱体油墨包括：金属盐或金属氧化物、多元醇、去离子水和分散剂；将前驱体油墨涂覆于透明基底表面形成液膜；按照目标金属图案，采用高重频脉冲...
    2025-12-30
  • 改善厚金属行星式蒸发Liftoff工艺引起的图形色差异常的方法
    改善厚金属行星式蒸发Liftoff工艺引起的图形色差异常的方法_无锡中微晶园电子有限公司_202511541506.8
    本发明属于Liftoff光刻加工工艺技术领域，特别涉及一种改善厚金属行星式蒸发Liftoff工艺引起的图形色差异常的方法。包括：预处理；光刻胶涂布；曝光；使用NIKON光刻机，选择曝光时间为280ms～400ms进行曝光工艺；显影；使用显影...
    2025-12-30
  • 监控曝光机台漏光程度的方法
    监控曝光机台漏光程度的方法_华虹半导体制造(无锡)有限公司_202511367241.4
    本申请提供一种监控曝光机台漏光程度的方法，首先通过设计一具有遮光区和透光区相间的特殊光罩，然后根据预设的曝光条件，利用该特殊光罩对涂覆有光刻胶层的晶圆进行多次曝光，接着收集每次曝光后遮光区的光刻胶层厚度，最后根据曝光次数和每次曝光后收集的遮...
    2025-12-30
  • 一种光刻机曝光菜单的建立方法、装置、设备和存储介质
    一种光刻机曝光菜单的建立方法、装置、设备和存储介质_华虹半导体(无锡)有限公司_202511224971.9
    本申请公开了一种光刻机曝光菜单的建立方法、装置、设备和存储介质，其中方法包括：S1：获取光刻工艺文件；S2：验证所述光刻工艺文件的准确性和完整性；S3：运行装载有的脚本，并重置所述脚本中的参数；S4：通过所述脚本处理所述光刻工艺文件，从而提...
    2025-12-30
  • 去除掩模的表面上的污染物颗粒的方法以及设备
    去除掩模的表面上的污染物颗粒的方法以及设备_台湾积体电路制造股份有限公司_202511209794.7
    本发明提供一种去除掩模的表面上的污染物颗粒的方法以及设备。去除掩模的表面上的污染物颗粒的方法包括采集在掩模的表面上有污染物颗粒的掩模的图像，并基于掩模的图像确定污染物颗粒的类型。方法还包括对掩模的表面进行与污染物颗粒的类型相对应的颗粒去除工...
    2025-12-30
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