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最新专利技术
  • 一种用于半导体设备运动部件的耐刻蚀润滑涂层
    一种用于半导体设备运动部件的耐刻蚀润滑涂层_华南理工大学_202511055854.4
    一种用于半导体设备运动部件的耐刻蚀润滑涂层， 包括以下步骤：在基体的表面上沉积金属钛层；在金属钛层的表面上钛碳梯度过渡层；在钛碳梯度过渡层的表面上沉积钛掺杂类金刚石碳涂层；向第二镀膜腔室内通入氩气和氢气， 通过线性离子源对氩气和氢气进行离化...
    2025-12-13
  • 磁控溅射机及其真空镀膜方法
    磁控溅射机及其真空镀膜方法_森松(江苏)重工有限公司_202511210610.9
    本申请提供了一种磁控溅射机及其真空镀膜方法， 包括真空镀膜腔和卷绕系统， 卷绕系统包括：卷绕辊， 设置于真空镀膜腔内， 卷绕辊包括放卷辊和收卷辊， 放卷辊和收卷辊之间形成基膜传输路径；辅助穿膜机构， 设置于真空镀膜腔内， 辅助穿膜机构形成辅...
    2025-12-13
  • 一种高精密强激光光学镜片的镀膜方法
    一种高精密强激光光学镜片的镀膜方法_吉林省巨程智造光电技术有限公司_202511318349.4
    本发明涉及光学元件领域， 具体涉及一种高精密强激光光学镜片的镀膜方法。镀膜方法包括以下步骤：步骤1、基底预处理；步骤2、表面活化；步骤3、准备阶段；步骤4、镀膜处理；步骤5、后处理。本发明的方法通过双等离子体协同和自适应梯度复合镀膜技术的融...
    2025-12-13
  • 一种叶片气相沉积涂镀抗氧化涂层遮蔽防护装置及防护方法
    一种叶片气相沉积涂镀抗氧化涂层遮蔽防护装置及防护方法_中国航发航空科技股份有限公司_202511003329.8
    本发明提供了一种叶片气相沉积涂镀抗氧化涂层遮蔽防护装置， 用于对待涂镀叶片的榫头进行防护， 属于航空发动机‑涡轮叶片制造加工技术领域， 所述防护装置包括：外层榫头遮挡块， 设置在外层对榫头进行遮挡；内层防护定位块， 置于外层榫头遮挡块内腔，...
    2025-12-13
  • 一种用于磁控溅射镀膜机的抽真空设备
    一种用于磁控溅射镀膜机的抽真空设备_江苏派莱特光电科技有限公司_202511315917.5
    本发明公开了一种用于磁控溅射镀膜机的抽真空设备， 包括：主体单元， 其包括镀膜机本体以及固定连接在镀膜机本体下表面的支撑座， 所述镀膜机本体下表面固定连接有L形座；本发明利用冷却轴杆， 使盛放盘配合放置板对产品进行放置或直接进行悬挂处理， ...
    2025-12-13
  • 一种钯纳米粒子-石墨烯复合结构及其制备方法和应用、氢气传感器
    一种钯纳米粒子-石墨烯复合结构及其制备方法和应用、氢气传感器_哈尔滨工业大学_202511000222.8
    本发明属于氢气传感器技术领域， 具体涉及一种钯纳米粒子‑石墨烯复合结构及其制备方法和应用、氢气传感器。本发明在覆有石墨烯薄膜的基片上镀制钯纳米膜后依次进行热处理和活化处理， 或在石墨烯复合薄膜表面的聚合物微球阵列上镀制钯纳米膜后进行热处理，...
    2025-12-13
  • 一种在衬底表面制备氮化硅薄膜的方法
    一种在衬底表面制备氮化硅薄膜的方法_江苏邑文微电子科技有限公司_202511332527.9
    本发明涉及半导体技术领域， 提供了一种在衬底表面制备氮化硅薄膜的方法。所述方法包括：(1)在氮气气氛的第一腔体中， 提供具有工艺温度的热盘， 间隔第一距离， 预热衬底至预热温度；所述衬底的材质包括钽酸锂或铌酸锂；(2)将具有所述预热温度的衬...
    2025-12-13
  • 一种基于气相沉积法制备多孔镍钨氧化物薄膜的方法
    一种基于气相沉积法制备多孔镍钨氧化物薄膜的方法_上海半人马企业发展集团有限公司_202510966317.9
    本发明公开一种基于气相沉积法制备多孔镍钨氧化物薄膜的方法， 包括将反应物前驱体和基片加热前驱体转化为前驱气体；通入沉积气体在基片上进行等离子辅助气相反应沉积；通入选择性刻蚀气体和辅助气体进行刻蚀并循环；在保护气氛下退火处理即得。还公开了由该...
    2025-12-13
  • 一种提高TOPCon电池LPCVD炉管洁净度的方法
    一种提高TOPCon电池LPCVD炉管洁净度的方法_环晟光伏(江苏)有限公司_202411100125.1
    本发明提供了一种提高TOPCon电池LPCVD炉管洁净度的方法， 涉及太阳能电池技术领域。所述方法包括：向LPCVD炉管中通入气体进行吹扫处理， 再将双面抛光的硅片置于LPCVD炉管后进行吸杂处理。本发明通过吹扫步骤与双面抛光片高温吸杂步骤...
    2025-12-13
  • 化学源输送系统
    化学源输送系统_江苏微导纳米科技股份有限公司_202511038005.8
    本申请涉及一种化学源输送系统， 包括储存装置及输送装置， 储存装置具有输入口与输出口， 输送装置包括：输入管路， 连接于输入口；输出管路， 连接于输出口；以及连接管路， 连接输入管路与输出管路；其中， 输出管路包括第一输出阀， 第一输出阀为...
    2025-12-13
  • 一种固态前驱体钢瓶
    一种固态前驱体钢瓶_上海庆建廷科技有限公司_202511054448.6
    本发明涉及一种固态前驱体钢瓶包括：钢瓶主体、钢瓶底层、托盘、以及上盖， 所述托盘置于所述钢瓶主体内， 所述托盘内承载有固体前驱体源， 在每层所述托盘上密布有贯穿所述托盘及固体前驱体源的上行通孔， 所述上行通孔的上方设有上方弯头， 在所述托盘...
    2025-12-13
  • 卧式炉设备及其晶圆载具
    卧式炉设备及其晶圆载具_北京北方华创微电子装备有限公司_202410437434.1
    本申请提供一种卧式炉设备及其晶圆载具， 晶圆载具包括承载主体和承载件， 承载主体上设置有多个承载结构， 多个承载结构沿竖直方向间隔分布于承载主体上， 各承载结构用于支撑承载件；承载件承载于承载结构上， 承载件上设置有用于承载晶圆的承载槽。晶...
    2025-12-13
  • 一种气相反应设备
    一种气相反应设备_天府绛溪实验室_202511323044.2
    本发明涉及化学气相沉积领域， 特别涉及一种气相反应设备， 该气相反应设备通过将加热层内置于反应腔体， 缩短热传导路径， 加快响应速度， 实现快速升温， 提升加热效率。同时多层加热层间隔设置， 加热层包括多根间隔设置的加热丝， 且相邻加热层的...
    2025-12-13
  • 一种用于PECVD设备的可重构气体分布装置
    一种用于PECVD设备的可重构气体分布装置_无锡尚积半导体科技股份有限公司_202511226179.7
    本发明公开了一种用于PECVD设备的可重构气体分布装置， 属于半导体制造技术领域， 具有可转动机构的上层结构， 可转动机构上开设有第一进气口， 呈环形分布， 用于接受外部气源的工艺气体；具有气路板的下层结构， 气路板设置于可转动机构下方， ...
    2025-12-13
  • 一种可自动排液排气的表面处理装置
    一种可自动排液排气的表面处理装置_晋西工业集团有限责任公司_202510848135.1
    本发明公开了一种可自动排液排气的表面处理装置， 包括中心吊杆， 垂直固定在所述中心吊杆上部的横向杆， 对称固定在所述横向杆两端下方的两个限位筒， 滑动连接在所述限位筒下方的侧支撑杆， 固定在所述中心吊杆两侧侧壁的两组中心连接环， 固定在所述...
    2025-12-13
  • 一种用于消除曲轴磨削延迟裂纹的加工处理方法
    一种用于消除曲轴磨削延迟裂纹的加工处理方法_山西柴油机工业有限责任公司_202510740116.7
    本发明创造提供了一种用于消除曲轴磨削延迟裂纹的加工处理方法， 包括：对曲轴进行预处理；对曲轴进行第一次冷喷涂处理， 以使得曲轴的表面形成纯钛喷涂层；对曲轴进行第二次冷喷涂处理， 以使得曲轴的纯钛喷涂层外侧形成钛基自润滑喷涂层；对曲轴进行超声...
    2025-12-13
  • 一种燃机热端部件的固态修复方法
    一种燃机热端部件的固态修复方法_中国联合重型燃气轮机有限公司_202511020066.1
    本发明属于燃气轮机维修技术领域， 具体涉及一种燃机热端部件的固态修复方法， 包括如下步骤：S1、获取待修复基体表面的损伤信息；S2、对待修复基体表面的损伤区域进行粗糙化处理， 并对粗糙化处理后的损伤区域进行电化学活化处理；S3、对处理后的损...
    2025-12-13
  • 一种液压支架的激光熔覆处理设备
    一种液压支架的激光熔覆处理设备_榆林通派装备科技有限公司_202511184593.6
    本发明涉及液压支架加工设备技术领域， 公开了一种液压支架的激光熔覆处理设备， 包括机体， 所述机体的内顶壁固定连接有电动滑台， 所述电动滑台的滑块底端固定连接有U形的安装架， 所述安装架的一侧固定连接有气缸一， 所述气缸一的驱动端转动连接有...
    2025-12-13
  • 落料模具镶块刃口的加工方法
    落料模具镶块刃口的加工方法_一汽模具制造有限公司_202511214209.2
    本发明提供了落料模具镶块刃口的加工方法， 涉及模具加工方法的技术领域， 包括对落料模镶块基体的刃口待熔覆区域进行预处理， 得到中间基体；将中间基体进行加工凹槽， 得到处理后基体；选取金属粉末作为熔覆材料；设置激光熔覆参数， 激光熔覆参数包括...
    2025-12-13
  • 纳米级氧化镓薄膜及其制备方法和应用
    纳米级氧化镓薄膜及其制备方法和应用_中国科学技术大学_202510800543.X
    本发明提供了一种纳米级氧化镓薄膜及其制备方法和应用， 属于半导体材料制备技术领域。该纳米级氧化镓薄膜的制备方法包括：将液态金属镓滴至衬底表面， 将柔性盖片覆盖于液态金属镓表面， 对柔性盖片施加均匀外力以去除多余的液态金属镓， 得到衬底‑氧化...
    2025-12-13
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