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龙图腾网恭喜拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司申请的专利一种进气装置及热处理设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN221376273U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2024-07-19发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202323236732.4，技术领域涉及：F27B9/30；该实用新型一种进气装置及热处理设备是由韩雪岭;龙占勇;陈梓展;林佳继设计研发完成，并于2023-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种进气装置及热处理设备在说明书摘要公布了：本实用新型属于热处理设备技术领域，具体公开了一种进气装置，其气管组件包括沿炉膛长度方向延伸的内管和外管，内管内部形成第一进气空间，内管与外管之间形成第二进气空间，第二进气空间分别与第一进气空间以及炉膛连通，接头件与内管连接，接头件可以向气管组件内提供氮气，氮气在内管的第一进气空间内进行缓冲，经过匀流后进入第二进气空间，最后从第二进气空间扩散进入炉膛内腔，进入炉膛内腔的氮气将炉膛内腔中的氧气排走，以调节炉膛内的氧气含量，气体在充入炉膛内时分布均匀，保证了炉膛内氧气含量的均匀性，提升烧结的成品率。本实用新型还提供一种热处理设备，包括上述的进气装置。

本实用新型一种进气装置及热处理设备在权利要求书中公布了：1.一种进气装置，用于向炉膛10内通入气体，其特征在于，所述进气装置包括：供气组件100，具有接头件110；气管组件200，包括沿所述炉膛10长度方向延伸的内管210和外管220，所述内管210内部形成第一进气空间2101，所述外管220套设于所述内管210外，所述内管210与所述外管220之间形成第二进气空间2201，所述第二进气空间2201分别与所述第一进气空间2101以及所述炉膛10连通；其中，所述接头件110与所述内管210连接，外部气体能够通过所述接头件110进入所述第一进气空间2101，所述第一进气空间2101内的气体能够通过所述第二进气空间2201进入所述炉膛10。

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