恭喜深圳市兰光光学科技有限公司;南方工业技术研究院(深圳)毛卫平获国家专利权
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龙图腾网恭喜深圳市兰光光学科技有限公司;南方工业技术研究院(深圳)申请的专利一种用于石英高损伤阈值基片抛光用的复合抛光模获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN221676862U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2024-09-10发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202420129213.3，技术领域涉及：B24B41/04；该实用新型一种用于石英高损伤阈值基片抛光用的复合抛光模是由毛卫平;杨明洋;章付华设计研发完成，并于2024-01-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于石英高损伤阈值基片抛光用的复合抛光模在说明书摘要公布了：本实用新型涉及抛光设备技术领域，具体是涉及一种用于石英高损伤阈值基片抛光用的复合抛光模，包括大理石基底以及位于大理石基底上表面均匀设置的沥青层，所述沥青层的上表面均匀设置有玻璃板，所述玻璃板背离沥青层的表面上铺设有阻尼布层，抛光模使用时通过阻尼布层与镜片基片表面接触并对基片抛光；本技术方案是利用了沥青的弹性变化特性，使得阻尼布层表面能够具备一定的柔性与快速的回复度，减少抛光模抛光过程中脱落的颗粒对基片表面的损伤，提升基片面形精度。
本实用新型一种用于石英高损伤阈值基片抛光用的复合抛光模在权利要求书中公布了：1.一种用于石英高损伤阈值基片抛光用的复合抛光模，其特征在于：包括大理石基底4以及位于大理石基底4上表面均匀设置的沥青层3，所述沥青层3的上表面均匀设置有玻璃板2，所述玻璃板2背离沥青层3的表面上铺设有阻尼布层1，抛光模使用时通过阻尼布层1与镜片基片表面接触并对基片抛光。
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