恭喜深圳市晶相技术有限公司陈卫军获国家专利权
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龙图腾网恭喜深圳市晶相技术有限公司申请的专利一种物理气相沉积设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN110819959B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2024-09-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201911210758.7，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种物理气相沉积设备是由陈卫军;刘岩军;林信南;刘美华设计研发完成，并于2019-12-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种物理气相沉积设备在说明书摘要公布了：本发明提出一种物理气相沉积设备，包括：生长腔体；至少一第一载台，设置在所述生长腔体内；多个第二载台，设置在所述第一载台上，所述多个第二载台的转速不同于所述第一载台的转速。本发明提出的物理气相沉积设备设计合理，能够提高镀膜的均匀性。
本发明授权一种物理气相沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种物理气相沉积设备，其特征在于，包括：生长腔体；至少一第一载台，设置在所述生长腔体内，所述第一载台上放置多个基板；多个第二载台，设置在所述第一载台上，所述多个第二载台的转速不同于所述第一载台的转速，所述第二载台上放置基板；其中，所述第一载台上设置有多个固定孔，所述多个固定孔内设置有多个第二驱动单元，所述多个第二驱动单元通过多个第二转轴连接所述多个第二载台，且所述第二转轴的高度高于固定孔的高度。
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