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龙图腾网恭喜西北工业大学;西安稀有金属材料研究院有限公司申请的专利一种耐磨共沉积难熔高熵合金薄膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116479305B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2024-09-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310471007.0，技术领域涉及：C22C30/00；该发明授权一种耐磨共沉积难熔高熵合金薄膜及其制备方法是由周青;黄卓斌;王雨琤;罗大微;邱龙时;王海丰设计研发完成，并于2023-04-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种耐磨共沉积难熔高熵合金薄膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于合金材料及其制备技术领域，涉及一种共沉积难熔高熵合金耐磨薄膜及其制备方法。所述的制备方法包括以下步骤：采用磁控共沉积溅射技术向硅基底上同时溅射沉积NbMoWTa和Ag，其中使用直流电源控制NbMoWTa靶溅射，使用射频电源控制Ag靶溅射，通过调控不同的射频功率，获得不同Ag含量的NbMoWTa1‑xAgx共沉积难熔高熵合金耐磨薄膜。本发明提供的制备方法工艺简单、稳定可控，所得到的薄膜表面光滑、结构致密、无明显缺陷。薄膜硬度高、摩擦低、超耐磨，可为实现难熔高熵合金薄膜在关键润滑部件的应用提供技术基础。

本发明授权一种耐磨共沉积难熔高熵合金薄膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种耐磨共沉积难熔高熵合金薄膜，其特征在于：包括以下合金组分：NbMoWTa100-xAgx，其中的x=5或8或15或25；所述合金薄膜为15~20nm的Ag层状偏析的亚结构，薄膜厚度在3.0~3.5μm；所述合金薄膜的摩擦系数为0.30~0.35，磨损率为2.0×10-6~3.0×10-6mm3N·m；该耐磨共沉积难熔高熵合金薄膜的制备方法，具体包括以下步骤：S1、溅射准备：将NbMoWTa和Ag靶材分别置入共沉积磁控溅射炉内的靶台上，将硅基底置入基片台上，随后依次启动机械泵和分子泵，将炉内真空度抽至5×10-5~8×10-5Pa，通入离化气体，保持炉内气压为0.4~0.7Pa；S2、预溅射：在预定的工作气压下启动靶台电源，诱导靶材进行辉光放电，并保持10~20min，以去除靶材表面污染物，保证薄膜成品的质量；S3、溅射镀膜：打开靶台和基片台的挡板，设置基片台以2~4rpm的速率自旋，开始溅射，待4~5h后结束溅射，关闭靶台电源，保持通离化气体，使样品在离化气体的气氛中冷却至室温后取出，得到共沉积难熔高熵合金耐磨薄膜。

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