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龙图腾网恭喜上海鹤城高分子科技有限公司申请的专利一种高耐磨的聚氨酯抛光片及其制备工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118027347B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2024-09-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410217952.2，技术领域涉及：C08G18/66；该发明授权一种高耐磨的聚氨酯抛光片及其制备工艺是由刘浩;齐文斌;赵朝阳;伏彪;靳祥娟设计研发完成，并于2024-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高耐磨的聚氨酯抛光片及其制备工艺在说明书摘要公布了：本发明涉及高分子复合材料领域，具体为一种高耐磨的聚氨酯抛光片及其制备方法。本发明将磷酸和八氟‑1,6‑己二醇混合，通过酯化反应生成含氟磷酸酯，再与三聚氰胺反应得到含氟磷酸酯三聚氰胺盐；将γ‑氨丙基三乙氧基硅烷和丁二酸酐反应，并对纳米二氧化硅进行修饰，在二氧化硅表面引入羧基；同时在缩合剂二环己基碳二亚胺的作用下将含氟磷酸酯三聚氰胺盐接枝到羧基化二氧化硅表面，从而得到改性二氧化硅；将改性二氧化硅与聚氨酯进行混炼、切片得到聚氨酯抛光片。本发明制备的聚氨酯抛光片耐磨性能优异，同时具有良好的阻燃效果和拉伸强度。

本发明授权一种高耐磨的聚氨酯抛光片及其制备工艺在权利要求书中公布了：1.一种高耐磨的聚氨酯抛光片的制备工艺，其特征在于：包括以下步骤：步骤1：将硅烷偶联剂γ-氨丙基三乙氧基硅烷和丁二酸酐混合，均匀分散在N,N-二甲基甲酰胺中，搅拌2~3h后，向其中加入纳米二氧化硅微球，超声分散后3~5h，乙醇清洗、干燥得到羧基化二氧化硅；步骤2：将含氟磷酸酯三聚氰胺盐和羧基化二氧化硅混合，分散在乙醇溶液中，加入磷酸-柠檬酸缓冲液调节体系pH值，升温加入二环己基碳二亚胺，反应得到改性二氧化硅；含氟磷酸酯三聚氰胺盐的制备方法为：将磷酸和八氟-1,6-己二醇混合，升温至120~130℃进行酯化反应1~2h生成含氟磷酸酯；将含氟磷酸酯和三聚氰胺混合，在80~95℃下反应1~2h，得到含氟磷酸酯三聚氰胺盐；其中，磷酸和八氟-1,6-己二醇的摩尔比为1:1；含氟磷酸酯和三聚氰胺的摩尔比为（1~2）：1；步骤3：将异佛尔酮二异氰酸酯、聚乙二醇、1,4-丁二醇、二丁基锡二月桂酸酯、抗氧化剂混合搅拌1~3h，在-0.3~-0.1kPa下真空脱水，反应后加入改性二氧化硅，混炼得到高耐磨聚氨酯弹性体；对聚氨酯弹性体切片、包装得到成品。

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