恭喜苏州迈为科技股份有限公司解传佳获国家专利权
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龙图腾网恭喜苏州迈为科技股份有限公司申请的专利磁控溅射设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN221720910U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2024-09-17发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202420095864.5，技术领域涉及：C23C14/35；该实用新型磁控溅射设备是由解传佳;武瑞军;胡谌;潘俊杰;罗金豪;赵贤贵设计研发完成，并于2024-01-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本磁控溅射设备在说明书摘要公布了：本申请涉及一种磁控溅射设备，包括：溅射腔室、位于溅射腔室内且相对设置的基片台和溅射阴极。磁控溅射设备还包括位于溅射腔室内且相对设置的第一对向靶阴极和第二对向靶阴极，以及设置于第一对向靶阴极的第一磁控组件和设置于第二对向靶阴极的第二磁控组件，第一磁控组件和第二磁控组件用于在基片台和溅射阴极之间形成磁场。上述磁控溅射设备能够增加粒子的离化率，进而提升镀膜的膜层性能。
本实用新型磁控溅射设备在权利要求书中公布了：1.一种磁控溅射设备，其特征在于，包括：溅射腔室、位于所述溅射腔室内且相对设置的基片台和溅射阴极；所述磁控溅射设备还包括位于所述溅射腔室内且相对设置的第一对向靶阴极和第二对向靶阴极，以及设置于所述第一对向靶阴极的第一磁控组件和设置于所述第二对向靶阴极的第二磁控组件，所述第一磁控组件和所述第二磁控组件用于在所述基片台和所述溅射阴极之间形成闭合磁场。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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