恭喜英特尔公司孙葆慈获国家专利权
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龙图腾网恭喜英特尔公司申请的专利真空腔均热板以及具有所述真空腔均热板的电子设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN221728758U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2024-09-17发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202323444474.9,技术领域涉及:H05K7/20;该实用新型真空腔均热板以及具有所述真空腔均热板的电子设备是由孙葆慈;田西勇设计研发完成,并于2023-12-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本真空腔均热板以及具有所述真空腔均热板的电子设备在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种真空腔均热板以及具有所述真空腔均热板的电子设备。根据本公开的实施例,所述真空腔均热板包括:底板,所述底板具有第一表面以及与所述第一表面相对的第二表面;盖板,所述盖板位于所述底板的所述第一表面之上,所述底板与所述盖板密封连接以形成中空的密闭腔室;以及设置于所述密闭腔室中的冷却液,其特征在于,所述底板具有从所述第二表面突出的多个第一凸起。
本实用新型真空腔均热板以及具有所述真空腔均热板的电子设备在权利要求书中公布了:1.一种真空腔均热板,包括:底板,所述底板具有第一表面以及与所述第一表面相对的第二表面;盖板,所述盖板位于所述底板的所述第一表面之上,所述底板与所述盖板密封连接以形成中空的密闭腔室;以及设置于所述密闭腔室中的冷却液,其特征在于,所述底板具有从所述第二表面突出的多个第一凸起。
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