恭喜台湾积体电路制造股份有限公司洪世玮获国家专利权
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龙图腾网恭喜台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利显微试片制备方法、装置及记录介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113223976B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2024-09-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010072192.2，技术领域涉及：H01L21/66；该发明授权显微试片制备方法、装置及记录介质是由洪世玮;杜家玮;李正中;郭彦良设计研发完成，并于2020-01-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本显微试片制备方法、装置及记录介质在说明书摘要公布了：本公开提供一种显微试片制备方法、装置及记录介质。此方法包括下列步骤：辨识一测试影像中的多个测试样本，并根据辨识结果从测试样本中挑选目标样本；将目标样本移载至样本支柱，并获取移载后目标样本的俯视图，以辨识俯视图中目标样本的中心点；以及根据此中心点与目标样本的切削图案之间的位移，移动切削目标样本所使用的掩模的位置，以切削目标样本。
本发明授权显微试片制备方法、装置及记录介质在权利要求书中公布了：1.一种显微试片制备方法，适用于具有处理器的电子装置，其中所述方法包括下列步骤：辨识一测试影像中的多个测试样本，并根据辨识结果从所述测试样本中挑选一目标样本；将所述目标样本移载至样本支柱，并获取移载后所述目标样本的俯视图，以辨识所述俯视图中所述目标样本的中心点；以及根据所述中心点与所述目标样本的切削图案之间的位移，移动切削所述目标样本所使用的掩模的位置，以切削所述目标样本。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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