恭喜上海凸版光掩模有限公司王国荃获国家专利权
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龙图腾网恭喜上海凸版光掩模有限公司申请的专利用于校正套准测量设备的标准掩模版获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN221746430U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2024-09-20发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202420054031.4,技术领域涉及:G03F1/42;该实用新型用于校正套准测量设备的标准掩模版是由王国荃设计研发完成,并于2024-01-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于校正套准测量设备的标准掩模版在说明书摘要公布了:本实用新型提供一种用于校正套准测量设备的标准掩模版,包括:掩模版;多个校准图案,多个所述校准图案设置于所述掩模版上,其中,多个所述校准图案排布成包含正交的多行和多列的阵列,校准图案包括沿行方向延伸的第一矩形图案和沿列方向延伸的第二矩形图案,第一矩形图案和第二矩形图案相接成T字形图案;多个校准图案为掩模版的透光区域,多个校准图案之外的区域为掩模版的遮光区域。本实用新型的标准掩模版可以实现对套准测量设备的实际情况进行校正,从而调整和提高对套准测量设备的准确度和使用精度。
本实用新型用于校正套准测量设备的标准掩模版在权利要求书中公布了:1.一种用于校正套准测量设备的标准掩模版,其特征在于,所述标准掩模版包括:掩模版;多个校准图案,多个所述校准图案设置于所述掩模版上,其中,多个所述校准图案排布成包含正交的多行和多列的阵列,所述校准图案包括沿行方向延伸的第一矩形图案和沿列方向延伸的第二矩形图案,所述第一矩形图案和第二矩形图案相接成T字形图案;多个所述校准图案为所述掩模版的透光区域,多个所述校准图案之外的区域为所述掩模版的遮光区域。
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