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龙图腾网恭喜京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利显示基板及其制作方法、显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115529846B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180000897.6，技术领域涉及：H10K59/122；该发明授权显示基板及其制作方法、显示装置是由袁洪光;郭晓亮;董中飞;袁志龙;蒋冬华;杨国波设计研发完成，并于2021-04-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本显示基板及其制作方法、显示装置在说明书摘要公布了：本公开提供一种显示基板及其制作方法、显示装置。显示基板包括显示区域，显示区域包括开孔区，第一像素区和隔离区；隔离区位于第一像素区和开孔区之间，隔离区环绕开孔区，开孔区与隔离区之间的边界线为切割线；显示基板还包括：裂痕阻挡结构，剥离阻挡结构和封装结构，裂痕阻挡结构位于隔离区，隔离区包括位于裂痕阻挡结构与开孔区之间的保留切割过渡区；剥离阻挡结构位于保留切割过渡区；剥离阻挡结构最靠近开孔区的一侧与切割线之间的距离L满足：0μm≤L≤30μm；封装结构的第一部分位于剥离阻挡结构背向基底的一侧；剥离阻挡结构使显示基板中与第一部分接触的表面凹凸不平。

本发明授权显示基板及其制作方法、显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示基板，包括显示区域，所述显示区域包括开孔区，第一像素区和隔离区；所述隔离区位于所述第一像素区和所述开孔区之间，所述隔离区环绕所述开孔区，所述开孔区与所述隔离区之间的边界线为切割线；所述显示基板还包括：裂痕阻挡结构，所述裂痕阻挡结构位于所述隔离区，所述隔离区包括位于所述裂痕阻挡结构与所述开孔区之间的保留切割过渡区；剥离阻挡结构，所述剥离阻挡结构位于所述保留切割过渡区；所述剥离阻挡结构最靠近所述开孔区的一侧与所述切割线之间的距离L满足：0μm≤L≤30μm；封装结构，所述封装结构的第一部分位于所述剥离阻挡结构背向所述显示基板的基底的一侧；所述剥离阻挡结构使所述显示基板中与所述第一部分接触的表面凹凸不平；所述剥离阻挡结构包括至少一个第一阻挡部件，所述第一阻挡部件包括：第一阻挡图形，所述第一阻挡图形的侧面具有第一凹口；至少部分所述第一阻挡部件还包括：第二阻挡图形和第三阻挡图形，所述第二阻挡图形位于所述第一阻挡图形和所述显示基板的基底之间，所述第三阻挡图形位于所述第二阻挡图形和所述基底之间；在同一个所述第一阻挡部件中，所述第二阻挡图形在所述基底上的正投影位于所述第三阻挡图形在所述基底上的正投影的内部。

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