恭喜上海邦芯半导体科技有限公司易飞获国家专利权
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龙图腾网恭喜上海邦芯半导体科技有限公司申请的专利一种离子过滤装置及控制去胶灰化速率均匀性的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119230457B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411745829.4，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权一种离子过滤装置及控制去胶灰化速率均匀性的方法是由易飞;王兆祥;方文强;彭国发;梁洁;赵兵设计研发完成，并于2024-12-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种离子过滤装置及控制去胶灰化速率均匀性的方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种离子过滤装置及控制去胶灰化速率均匀性的方法，所述离子过滤装置及控制去胶灰化速率均匀性的方法应用于半导体制造领域，所述离子过滤装置包括：第一过滤件、气体传输组件以及第二过滤件；第一过滤件和第二过滤件分别安装在气体传输组件的两侧。本发明通过设置气体传输组件，使反应气体在经过离子过滤装置时能够对其气体流量进行调节，进而调节反应气体对晶圆的去胶灰化速率，增加了晶圆的去胶灰化速率的可调参数，提高了晶圆整体去胶灰化速率的均匀性，进一步提高了晶圆的生产质量，改善了生产工艺。
本发明授权一种离子过滤装置及控制去胶灰化速率均匀性的方法在权利要求书中公布了：1.一种离子过滤装置，其特征在于，包括：第一过滤件、气体传输组件以及第二过滤件；所述第一过滤件和所述第二过滤件分别安装在所述气体传输组件的两侧；所述气体传输组件用于为晶圆外围提供反应气体或惰性气体，以调节所述晶圆外围的去胶灰化速率；所述气体传输组件包括输气件和供气管路，所述输气件构造为环形结构，所述输气件上还设有多个独立的圆弧状气体通道；所述输气件包括内壁、外壁和出气孔，所述出气孔设置在所述内壁上并连通所述气体通道；所述供气管路设置在所述外壁上，并连通所述气体通道。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海邦芯半导体科技有限公司，其通讯地址为：201306 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区平霄路358号7号厂房、9号厂房；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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