恭喜上海恩捷新材料科技有限公司黄律铭获国家专利权
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龙图腾网恭喜上海恩捷新材料科技有限公司申请的专利一种隔膜及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119208914B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411709923.4，技术领域涉及：H01M50/431；该发明授权一种隔膜及其制备方法与应用是由黄律铭;虞少波;李玉民;李伟东;郭旗;唐婷婷;王康;吴海洋;史秀琴;陈永乐;程跃设计研发完成，并于2024-11-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种隔膜及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种隔膜及其制备方法与应用，属于电池材料技术领域。该隔膜包括基膜及涂覆于基膜的至少一侧表面的涂层；涂层包括无机胶黏剂和无机颗粒；涂层中含有由无机胶黏剂形成的晶体；晶体中至少包括针状的晶须，部分晶体共同形成晶须群，剩余的晶体位于无机颗粒之间；无机胶黏剂包括质量为涂层中无机颗粒质量的1%~35%的M2O·nSiO2，M包括Na、K和Li中的至少一种，1≤n≤4。上述隔膜在高温下具有良好的稳定性和耐久性，且该隔膜具有较高的剥离强度、润湿性能、离子电导率、穿刺强度及透气性，可确保电池在高温条件下依然能够安全、高效地运行。该隔膜的制备方法简单、易于产业化规模制备，具有较佳的工业化前景。
本发明授权一种隔膜及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种隔膜，其特征在于，所述隔膜包括基膜以及涂覆于所述基膜的至少一侧表面的涂层；所述涂层包括无机胶黏剂和无机颗粒；所述涂层中含有由所述无机胶黏剂形成的晶体；所述晶体中至少包括针状的晶须，部分所述晶体共同形成晶须群，剩余的所述晶体位于无机颗粒之间；所述无机胶黏剂包括化学式为M2O·nSiO2的成分，其中，M包括Na、K和Li中的至少一种，1≤n≤4；所述化学式为M2O·nSiO2的成分的质量为所述涂层中无机颗粒质量的1%~35%；所述晶须群呈“草丛状”。
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