合肥晶合集成电路股份有限公司赵广获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥晶合集成电路股份有限公司申请的专利掩模板的图案修正方法及其系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118915376B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411413726.8，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权掩模板的图案修正方法及其系统是由赵广;罗招龙设计研发完成，并于2024-10-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩模板的图案修正方法及其系统在说明书摘要公布了：本公开提供了一种掩模板的图案修正方法及其系统，该图案修正方法包括：获取目标图案；对目标图案的光刻图案进行光学临近修正；判断沿第一方向相邻的光刻图案的间距是否小于预设距离，若判断结果为否，输出光刻图案；以及若判断结果为是，沿第二方向在目标图案的边缘添加辅助图案以更新目标图案或者调整辅助图案的尺寸以增大目标图案沿第二方向上的边缘长度，并返回对目标图案的光刻图案进行光学临近修正的步骤，第一方向垂直于第二方向，沿第二方向，光刻图案的尺寸随目标图案的尺寸同向变化。本公开的图案修正方法在保证光刻图案符合掩模版最小尺寸规则值的同时，可以提高目标图案的收敛度和准确度，保证光刻的准确性，进一步保证了产品的性能。
本发明授权掩模板的图案修正方法及其系统在权利要求书中公布了：1.一种掩模板的图案修正方法，包括：获取目标图案；对所述目标图案的光刻图案进行光学临近修正；判断修正后的沿第一方向相邻的所述光刻图案的间距是否小于预设距离，若判断结果为否，输出所述光刻图案；以及若判断结果为是，更新所述目标图案，并返回所述对所述目标图案的光刻图案进行光学临近修正的步骤，其中，更新所述目标图案包括：沿第二方向在所述目标图案的边缘添加辅助图案或者调整所述辅助图案的尺寸，以增大所述目标图案沿所述第二方向上的边缘长度，所述第一方向垂直于所述第二方向，沿所述第二方向，所述光刻图案的尺寸随所述目标图案的尺寸增大而增大。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人合肥晶合集成电路股份有限公司，其通讯地址为：230012 安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内西淝河路88号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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