内蒙古中环晶体材料有限公司周建辉获国家专利权
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龙图腾网获悉内蒙古中环晶体材料有限公司申请的专利一种测量单晶界面深度的测量尺获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222689077U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421499427.6，技术领域涉及：G01B5/18；该实用新型一种测量单晶界面深度的测量尺是由周建辉;郭谦;张文霞设计研发完成，并于2024-06-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种测量单晶界面深度的测量尺在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种测量单晶界面深度的测量尺，其包括辅助尺、测量尺和夹紧机构，所述辅助尺内设有垂直于自身顶面的测量滑槽，所述刻度尺滑动设于所述测量滑槽中，顶端伸出所述测量滑槽外，所述夹紧机构活动设置于所述辅助尺中，用于夹紧或放松所述刻度尺。本实用新型提供的测量尺中，刻度尺始终与辅助尺的顶面垂直，可避免由于测量经验不足或操作失误导致刻度尺歪斜、松转，进而引起的测量误差，提高测量结果的准确度；并且借助辅助尺和夹紧机构的配合，使得测量时人手不必位于单晶正下方持拿刻度尺，避免单晶碎屑下落伤人的安全事故；通过对夹紧机构的多样性结构设计，提高了本测量尺的使用便捷度。
本实用新型一种测量单晶界面深度的测量尺在权利要求书中公布了：1.一种测量单晶界面深度的测量尺，其特征在于，包括：辅助尺，所述辅助尺内设有垂直于自身顶面的测量滑槽；刻度尺，所述刻度尺滑动设于所述测量滑槽中，顶端伸出所述测量滑槽外；夹紧机构，所述夹紧机构活动设置于所述辅助尺中，用于夹紧或放松所述刻度尺。
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