恭喜南京理工大学王琦瑶获国家专利权
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龙图腾网恭喜南京理工大学申请的专利一种N元素调控Ta0.5W0.5Nx硬质薄膜的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116288204B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310234476.0，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种N元素调控Ta0.5W0.5Nx硬质薄膜的方法是由王琦瑶;李建亮;李航设计研发完成，并于2023-03-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种N元素调控Ta0.5W0.5Nx硬质薄膜的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种N元素调控Ta0.5W0.5Nx硬质薄膜的方法，其步骤为：以Ta靶和W靶作为靶材，采用氩气为溅射气体，氮气为反应气体，通过直流磁控溅射靶材，在基底上获得Ta0.5W0.5Nx硬质薄膜。本发明通过多靶直流磁控溅射从W2N到Ta0.5W0.5Nx薄膜的过渡设计，利用氮含量调控Ta0.5W0.5Nx薄膜的价电子浓度，使得钨元素取代钽元素，制备x值为0.82~1.02的单相固溶结构薄膜，其表面结合延性金属材料钨和氮化物的优点，形成兼具高硬度和韧性的特性，可以有效提高薄膜的强韧性，在耐磨损方面也具有更好的耐久性，有利于延长刀具的使用寿命。
本发明授权一种N元素调控Ta0.5W0.5Nx硬质薄膜的方法在权利要求书中公布了：1.一种N元素调控Ta0.5W0.5Nx硬质薄膜的方法，其特征在于，所述的Ta0.5W0.5Nx硬质薄膜中x取值为0.93，包括如下步骤：溅射前，在基底上沉积80~100nmW2N过渡层；以Ta靶和W靶作为靶材，采用氩气为溅射气体，氮气为反应气体，通过直流磁控溅射靶材，获得Ta0.5W0.5Nx硬质薄膜；其中，氮、氩气体的总流量为40sccm，其中，氮气的体积占比为10~30%；基底为718高温镍基合金；溅射温度为300±20℃，溅射时间为35~40min，Ta靶溅射电流为271mA，W靶溅射电流为180mA。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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