恭喜睿晶半导体(宁波)有限公司祁耀亮获国家专利权
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龙图腾网恭喜睿晶半导体(宁波)有限公司申请的专利光掩膜版及其制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115639720B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211207141.1，技术领域涉及：G03F1/68；该发明授权光掩膜版及其制作方法是由祁耀亮设计研发完成，并于2022-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本光掩膜版及其制作方法在说明书摘要公布了：一种光掩膜版及其形成方法，其中所述形成方法包括，提供透明基板后，刻蚀所述透明基板，在所述透明基板中形成若干分立的环形沟槽；在所述环形沟槽中填充满不透光材料，形成环形深沟槽结构；在所述环形深沟槽结构中间的透明基板表面上以及环形深沟槽结构的表面上形成遮蔽图形。通过在遮蔽图形底部的透明基板中形成深沟槽结构，所述深沟槽结构用于防止曝光光线在所述遮蔽图形的四周边缘产生的散射和或折射后，向所述遮蔽图形底部的不透光区域移动或扩散，即所述深沟槽结构能将曝光光线约束在相邻遮蔽图形之间的透光区域内，使得曝光光线不会因为遮蔽图形边缘的散射和或折射现象，到达或扩散到遮蔽图形底部的不透光区域内。
本发明授权光掩膜版及其制作方法在权利要求书中公布了：1.一种光掩膜版的制作方法，其特征在于，包括：提供透明基板；刻蚀所述透明基板，在所述透明基板中形成若干分立的环形沟槽；在所述环形沟槽中填充满不透光材料，形成环形深沟槽结构，所述深沟槽结构用于防止曝光光线在遮蔽图形的四周边缘产生的散射和或折射后，向遮蔽图形底部的不透光区域移动或扩散；在所述环形深沟槽结构中间的透明基板表面上以及环形深沟槽结构的表面上形成遮蔽图形。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人睿晶半导体(宁波)有限公司，其通讯地址为：315205 浙江省宁波市镇海区九龙湖镇长石孙陆工业区厂房；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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