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龙图腾网恭喜中国科学院上海高等研究院申请的专利一种同步辐射X射线干涉光刻自适应曝光装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115421359B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211152104.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种同步辐射X射线干涉光刻自适应曝光装置及方法是由薛超凡;杨树敏;赵俊;吴衍青;王勇;邰仁忠设计研发完成，并于2022-09-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种同步辐射X射线干涉光刻自适应曝光装置及方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种同步辐射X射线干涉光刻自适应曝光装置，包括可拆卸地安装在一起的离线距离调整组件和在线自适应曝光组件；离线距离调整组件包括光栅支架、安装于其上的掩膜光栅、插设于其中的距离调节杆、用于将距离调节杆锁紧在光栅支架的锁紧螺丝；在线自适应曝光组件包括与距离调节杆的面向掩模光栅的一端挤压配合的待测样品、与离线距离调整组件的背离掩模光栅的一侧连接的力传感器，待测样品安装于样品支架上，力传感器测量待测样品在垂直于待测样品所在平面的方向受到的压力。本发明还提供相应的自适应曝光方法。本发明的自适应曝光装置可以在曝光时避免光栅与样品间的相对位移，并在调节曝光区域时保证光栅与样品间的距离满足要求。

本发明授权一种同步辐射X射线干涉光刻自适应曝光装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种同步辐射X射线干涉光刻自适应曝光装置，其特征在于，包括可拆卸地安装在一起的离线距离调整组件和在线自适应曝光组件；所述离线距离调整组件包括光栅支架、安装于光栅支架上的掩膜光栅、插设于光栅支架中的三个距离调节杆、以及用于将所述距离调节杆锁紧在光栅支架的锁紧螺丝；所述在线自适应曝光组件包括与距离调节杆的面向掩模光栅的一端挤压配合的待测样品以及与离线距离调整组件的背离掩模光栅的一侧可拆卸地连接的力传感器，所述待测样品安装于样品支架上，所述力传感器设置为测量待测样品在垂直于待测样品所在平面的方向受到的压力；所述距离调节杆的延伸方向垂直于掩膜光栅所在的平面，且调节杆的两端穿出所述光栅支架；每个距离调节杆超出光栅支架的正面的距离均调节为掩模光栅的垂直工作距离，以利用三个距离调节杆的端点定义一个平面，所定义的平面即为样品曝光时所在的平面；所述力传感器测量的是三个距离调节杆对待测样品的压力之和。

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