恭喜长江存储科技有限责任公司熊佳瑜获国家专利权
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龙图腾网恭喜长江存储科技有限责任公司申请的专利半导体清洗系统、清洗方法以及形成方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114914178B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210545818.6,技术领域涉及:H01L21/67;该发明授权半导体清洗系统、清洗方法以及形成方法是由熊佳瑜;郑琨;陈浩;朱熹;张爽设计研发完成,并于2022-05-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体清洗系统、清洗方法以及形成方法在说明书摘要公布了:本申请提供了一种半导体清洗系统、清洗半导体的方法以及形成半导体清洗系统的方法。半导体清洗系统包括:盛液容器,包括第一入口端和第一出口端;内循环管路,包括第二入口端和第二出口端,所述第二入口端与所述第一出口端连通,所述第二出口端与所述第一入口端连通;以及排泡管路,所述排泡管路的至少一端与所述内循环管路连通。
本发明授权半导体清洗系统、清洗方法以及形成方法在权利要求书中公布了:1.一种半导体清洗系统,其特征在于,包括:盛液容器,用于盛放清洗液,包括第一入口端和第一出口端;内循环管路,包括第二入口端、第二出口端、第一调节部件和第一开启部件,所述第二入口端与所述第一出口端连通,所述第二出口端与所述第一入口端连通,所述第一调节部件用于调节所述内循环管路的管径,所述第一开启部件用于控制所述清洗液能否在所述盛液容器和所述内循环管路中循环流动;以及排泡管路,包括第二调节部件,所述排泡管路的至少一端与所述内循环管路连通,所述第二调节部件用于调节所述排泡管路的管径;其中,所述第二调节部件调节的所述第二调节部件处的所述排泡管路的管径大于所述第一调节部件调节的所述第一调节部件处的所述内循环管路的管径。
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