恭喜京东方科技集团股份有限公司周婷婷获国家专利权
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龙图腾网恭喜京东方科技集团股份有限公司申请的专利发光基板及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114744007B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210519285.4，技术领域涉及：H10H29/14；该发明授权发光基板及其制备方法是由周婷婷;张方振;牛菁;王玮;牛亚男;孙双设计研发完成，并于2022-05-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本发光基板及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种发光基板及其制备方法。发光基板包括基板，基板上间隔设置有多个发光器件；发光器件之间的间隙处设置有第一遮光结构，第一遮光结构用于遮挡发光器件向侧向发出的光；第一遮光结构与发光器件在发光器件的目标出光方向上不重叠，或者，第一遮光结构与发光器件在发光器件的目标出光方向上的重叠区域小于设定值。由于第一遮光结构设置在发光器件之间的间隙处，因此就可以遮挡发光器件向侧向发出的光，避免该部分光线照射到其他的发光器件处产生光的串扰。并且，不会遮挡或完全遮挡发光器件向目标出光方向发出的光线，改善或消除了对发光器件的光效的不利影响，从而能够提高发光基板的出光面的出光效果。
本发明授权发光基板及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种发光基板，其特征在于，所述发光基板包括基板，所述基板上间隔设置有多个发光器件；所述发光器件之间的间隙处设置有第一遮光结构，所述第一遮光结构用于遮挡发光器件向侧向发出的光；所述第一遮光结构与所述发光器件在所述发光器件的目标出光方向上不重叠，或者，所述第一遮光结构与所述发光器件在所述发光器件的目标出光方向上的重叠区域小于设定值；所述发光基板还包括第二遮光结构，所述第二遮光结构位于所述发光器件的顶端侧，且远离所述发光器件的顶端；所述第二遮光结构在所述发光器件所在面上的投影位于所述发光器件之间的间隙处。
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