恭喜苏州迈为科技股份有限公司郁操获国家专利权
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龙图腾网恭喜苏州迈为科技股份有限公司申请的专利用于形成光伏器件的栅线电极的方法和光伏器件获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114695599B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210315214.2,技术领域涉及:H10F71/00;该发明授权用于形成光伏器件的栅线电极的方法和光伏器件是由郁操;董刚强设计研发完成,并于2022-03-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于形成光伏器件的栅线电极的方法和光伏器件在说明书摘要公布了:本申请提供了一种用于形成光伏器件的栅线电极的方法和光伏器件,涉及太阳能电池领域。一种用于形成光伏器件的栅线电极的方法,包括:提供包括相对设置的第一表面和第二表面的半导体衬底;在第一表面形成第一图形化的掩膜层;利用光诱导电镀,使光源对第二表面进行光照,使第一表面与电镀液接触,以在第一表面形成第一栅线电极;在第二表面形成第二图形化的掩膜层;利用电镀或光诱导结合电镀在第二表面形成第二栅线电极。本发明可以提升电池片对光源的利用率,避免使用铜种子层工艺步骤,减少溅射损伤和去铜损伤,有助于提升栅线电极的拉脱力和电镀均匀性,可以实现极细金属栅线电极电镀,进而能提升电池的短路电流,提升电池的光电转换效率。
本发明授权用于形成光伏器件的栅线电极的方法和光伏器件在权利要求书中公布了:1.一种用于形成光伏器件的栅线电极的方法,其特征在于,所述方法包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底包括相对设置的第一表面和第二表面,所述第一表面为电池n型掺杂层面,第二表面为p型掺杂层面;在所述第一表面上制作第一掩膜层;对所述第一掩膜层进行图形化处理,以形成第一图形化的掩膜层;利用光诱导电镀,使光源对所述第二表面进行光照,使所述第一表面与电镀液接触,以在所述第一表面形成第一栅线电极,所述光源产生的光不经过电镀液;不需要外加电源;在所述第二表面形成第二图形化的掩膜层;当所述第一图形化的掩膜层为不透明材料时,在第一栅线电极上外加电源,利用电镀工艺,在所述第二表面形成第二栅线电极;去除所述第一图形化的掩膜层和所述第二图形化的掩膜层;或者,在所述第二表面形成第二图形化的掩膜层之前,去除所述第一图形化的掩膜层,利用电镀结合光诱导工艺,在所述第二表面形成第二栅线电极;去除所述第二图形化的掩膜层;当所述第一图形化的掩膜层为透明材料时,在第一栅线电极上外加电源,利用电镀或者电镀结合光诱导工艺,在所述第二表面形成第二栅线电极;去除所述第一图形化的掩膜层和所述第二图形化的掩膜层;所述方法还包括,在电镀工艺步骤之前,在非电镀面形成水膜;所述在非电镀面形成水膜是通过水膜机构在非电镀面形成水层保护膜,同时设置补料机构,用于平衡因水膜机构导致槽液浓度的变化。
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