恭喜友达光电股份有限公司陈韦洁获国家专利权
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龙图腾网恭喜友达光电股份有限公司申请的专利发光装置和巨量转移发光芯片的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114050172B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111299128.9，技术领域涉及：H10H29/30；该发明授权发光装置和巨量转移发光芯片的方法是由陈韦洁;李冠谊;曾文贤设计研发完成，并于2021-11-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本发光装置和巨量转移发光芯片的方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种发光装置和巨量转移发光芯片的方法，其中该发光装置包括基板和位于基板上的多个发光芯片，其中各个发光芯片包括半导体层。半导体层包括具有第一表面结构的第一表面和位于第一表面上的微结构组，其中微结构组包括多个微结构，且各个微结构的第二表面具有第二表面结构不同于第一表面的第一表面结构。
本发明授权发光装置和巨量转移发光芯片的方法在权利要求书中公布了：1.一种发光装置，包括：基板；以及多个发光芯片，位于该基板上，其中各该发光芯片包括半导体层，该半导体层包括：第一表面，具有第一表面结构；以及微结构组，位于该第一表面上，其中该微结构组包括多个微结构，且该些微结构的第二表面具有第二表面结构不同于该第一表面的该第一表面结构，其中各该发光芯片发出的光线从各该第一表面离开各该半导体层。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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