恭喜UTI有限公司鲜于国贤获国家专利权
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龙图腾网恭喜UTI有限公司申请的专利制造抗菌覆盖窗的方法和由此制造的抗菌覆盖窗获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114306699B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111184222.X，技术领域涉及：A61L2/232；该发明授权制造抗菌覆盖窗的方法和由此制造的抗菌覆盖窗是由鲜于国贤;河泰周;吴再锡;卢仲喆设计研发完成，并于2021-10-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本制造抗菌覆盖窗的方法和由此制造的抗菌覆盖窗在说明书摘要公布了：公开了制造抗菌覆盖窗的方法和由此制造的抗菌覆盖窗。所述方法包括：第一步骤，准备基底；第二步骤，通过图案化过程在基底上形成掩模图案；第三步骤，在其上形成有掩模图案的基底上形成抗菌层；以及第四步骤，移除掩模图案以获得形成在基底上的抗菌图案。通过该方法，可以制造具有规则且均匀地分布在其整个区域上的抗菌图案的覆盖窗。因此，覆盖窗在其整个区域上具有长效优异的抗菌特性。
本发明授权制造抗菌覆盖窗的方法和由此制造的抗菌覆盖窗在权利要求书中公布了：1.一种制造抗菌覆盖窗的方法，所述方法包括：第一步骤，准备基底；第二步骤，使用图案化过程在所述基底100上形成掩模图案；第三步骤，在其上形成有所述掩模图案的所述基底上形成抗菌层；以及第四步骤，移除所述掩模图案以制造形成在所述基底上的抗菌图案，其中所述抗菌图案为从所述基底的上表面突出的压纹图案或嵌入蚀刻到所述基底中的凹版图案中的镶嵌图案，以及其中所述抗菌图案具有50nm至5000nm的范围内的横向宽度、50nm至5000nm的范围内的平均间隔和0.5nm至500nm的范围内的平均高度。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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