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恭喜京东方科技集团股份有限公司曹占锋获国家专利权

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龙图腾网恭喜京东方科技集团股份有限公司申请的专利集成有无源器件的基板及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115516588B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180000865.6,技术领域涉及:H01F41/04;该发明授权集成有无源器件的基板及其制备方法是由曹占锋;杨锦;刘英伟;王珂;李海旭设计研发完成,并于2021-04-23向国家知识产权局提交的专利申请。

集成有无源器件的基板及其制备方法在说明书摘要公布了:本公开提供一种集成有无源器件的基板及其制备方法,属于射频技术领域。本公开的集成有无源器件的基板制备方法,包括在透明介质层上集成无源器件;形成无源器件至少包括形成电感;电感包括形成在第一表面的第一子结构和形成在第二表面的第二子结构,以及形成在第一连接过孔中将第一子结构和第二子结构依次连接的第一连接电极;形成电感包括:在透明介质层的第一表面和或第二表面上形成第一金属膜层,并通过电镀工艺在第一连接过孔内形成第一连接电极;第一连接电极填充第一连接过孔;分别通过构图工艺在透明介质层的第一表面的形成包括第一子结构的图形,在透明介质层的第二表面的形成包括第二子结构的图形。

本发明授权集成有无源器件的基板及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种集成有无源器件的基板的制备方法,其包括:提供一透明介质层,所述透明介质层包括沿其厚度方向相对设置的第一表面和第二表面;所述透明介质层上具有沿其厚度方向贯穿的第一连接过孔;在所述透明介质层上集成所述无源器件;形成所述无源器件至少包括形成电感;所述电感包括形成在所述第一表面的第一子结构和形成在所述第二表面的第二子结构,以及形成在所述第一连接过孔中将所述第一子结构和所述第二子结构依次连接的第一连接电极;其中,形成所述电感包括:在所述透明介质层的第一表面和或第二表面上形成第一金属膜层,并通过电镀工艺在所述第一连接过孔内形成第一连接电极;所述第一连接电极填充所述第一连接过孔;分别通过构图工艺在所述透明介质层的第一表面的形成包括所述第一子结构的图形,在所述透明介质层的第二表面的形成包括所述第二子结构的图形;所述无源器件还包括电容,所述制备方法还包括:在形成所述电感的第二子结构的同时,形成所述电容的第一极板;在所述电感的第二子结构和所述电容的第一极板所在层背离所述透明介质层的一侧形成第一层间介质层;在所述第一层间介质层背离所述电容的第二极板;所述电感的第一引线端与第一连接焊盘连接;所述电感的第二引线端与所述电容的第一极板的第二端连接;所述电容的第二极板连接第二连接焊盘;所述制备方法还包括:在所述电容的第二极板和所述第二连接电极所在层背离第一层间介质层的一侧形成第二层间介质层;形成贯穿第二层间介质层的第二连接过孔和第三连接过孔;形成第一连接焊盘和第二连接焊盘;所述第一连接焊盘通过所述第三连接过孔与所述第一引线端连接;所述第二连接焊盘通过所述第三连接过孔与所述电容的第二极板连接。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人京东方科技集团股份有限公司,其通讯地址为:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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