恭喜拓自达电线株式会社梅村滋和获国家专利权
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龙图腾网恭喜拓自达电线株式会社申请的专利电磁波屏蔽膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115004875B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180012297.1，技术领域涉及：H05K9/00；该发明授权电磁波屏蔽膜是由梅村滋和;矶部修设计研发完成，并于2021-02-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本电磁波屏蔽膜在说明书摘要公布了：本发明提供一种即使在导电性胶粘剂层大量配混导电性粒子，也能使得透明性优越且连接电阻值低的电磁波屏蔽膜。本发明的电磁波屏蔽膜中，第1绝缘层、银纳米线层、第2绝缘层、以及导电性胶粘剂层按该顺序层叠，所述第2绝缘层的厚度为50～500nm，所述导电性胶粘剂层包括粘结剂成分和球状或树枝状的导电性粒子，相对于所述导电性胶粘剂层100质量％，所述导电性粒子的含有比例为1～80质量％。
本发明授权电磁波屏蔽膜在权利要求书中公布了：1.一种电磁波屏蔽膜，其特征在于：第1绝缘层、银纳米线层、第2绝缘层、以及导电性胶粘剂层按该顺序层叠；所述第1绝缘层为透明基板；所述第2绝缘层为透明层，厚度为50～300nm；所述导电性胶粘剂层包括粘结剂成分和球状或树枝状的导电性粒子；相对于所述导电性胶粘剂层100质量％，所述导电性粒子的含有比例为20～70质量％。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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