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龙图腾网恭喜日本航空电子工业株式会社申请的专利器件及器件的形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114068441B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110072582.4，技术领域涉及：H01L23/31；该发明授权器件及器件的形成方法是由桥口徹设计研发完成，并于2021-01-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本器件及器件的形成方法在说明书摘要公布了：一种器件及器件形成方法，包括第一密封构件、第二密封构件、第一电路构件、第二电路构件和一个或多个压缩构件。第一密封构件具有第一外部和第一内部，第一外部具有第一密封部分，第一内部位于第一外部的内侧。第二密封构件具有第二外部和第二内部，第二外部具有第二密封部分，第二内部位于第二外部的内侧。第一密封部分和第二密封部分结合在一起。第一电路构件和第二电路构件封闭在被第一内部和第二内部包围的封闭空间中。压缩构件中的一个位于第一密封构件与第一电路构件之间，或者位于第二密封构件与第二电路构件之间。本发明可以提供更薄的新型器件。

本发明授权器件及器件的形成方法在权利要求书中公布了：1.一种器件，其特征在于，包括第一密封构件、第二密封构件、第一电路构件、第二电路构件和一个或多个压缩构件，其中：第一密封构件由膜形成并且具有第一内部和第一外部；第一内部位于第一外部的内侧；第二密封构件具有第二内部和第二外部；第二内部位于第二外部的内侧；第一外部具有第一密封部分；第二外部具有第二密封部分；第一密封部分和第二密封部分结合在一起以形成密封迹线；该器件形成有被第一内部和第二内部包围的封闭空间；第一电路构件和第二电路构件封闭在封闭空间中；所述第一电路构件包括第一接触点；第二电路构件包括第二接触点；第一接触点和第二接触点彼此接触；所述压缩构件被封闭在封闭空间中；所述压缩构件包括第一压缩构件和第二压缩构件中的至少一个；所述第一压缩构件至少部分地位于所述第一密封构件和所述第一接触点之间；所述第二压缩构件至少部分地位于所述第二密封构件和所述第二接触点之间；每个压缩构件具有主体和两个主表面；每个压缩构件的两个主表面沿预定方向横跨主体彼此相对地定位；和排出包含在每个压缩构件的主体中的一部分空气；每个所述压缩构件是开孔结构；所述器件用作电子器件，由于封闭空间内部和外部之间的气压差，第一接触点和第二接触点被彼此压靠，并通过压缩构件的恢复力彼此牢固地接触。

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