恭喜德西费拉制药有限责任公司D·L·弗林获国家专利权
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龙图腾网恭喜德西费拉制药有限责任公司申请的专利杂芳基氨基嘧啶酰胺自噬抑制剂及其使用方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114072397B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080049743.1,技术领域涉及:C07D403/12;该发明授权杂芳基氨基嘧啶酰胺自噬抑制剂及其使用方法是由D·L·弗林;Y·M·安;T·卡德维尔;L·沃盖蒂设计研发完成,并于2020-05-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本杂芳基氨基嘧啶酰胺自噬抑制剂及其使用方法在说明书摘要公布了:本文描述了作为自噬抑制剂的化合物及其用于治疗诸如癌症的病症的用途。I
本发明授权杂芳基氨基嘧啶酰胺自噬抑制剂及其使用方法在权利要求书中公布了:1.一种化合物,其由下式表示: 或为其药学上可接受的盐,其中:A为吡唑基;W为CH或N;R1选自下组:卤素、C1-C5烷基和C3-C5环烷基,其中所述C1-C5烷基任选地被一个、两个或三个独立出现的氟取代;R2选自下组:H和C1-C5烷基;R4选自下组:B、D、NR6R9、CO-NR6R9和CN;B选自具有至少一个氮且任选地具有额外环氮或氧的N-连接的饱和的5至6元杂环基,其中B任选地在可用氮上被R9取代;D选自具有至少一个氮且任选地具有额外环氮或氧的C-连接的饱和的4至6元杂环基,其中D任选地在可用氮上被R9取代;R6和R9在每次出现时独立地选自下组:H、C1-C6烷基和C3-C6环烷基,其中各C1-C6烷基和C3-C6环烷基任选地被一或多个独立出现的氟取代;L为-CR102m-;R10在每次出现时独立地选自下组:H和C1-C3烷基;Z选自:4-7元内酰胺环,其中该内酰胺环通过氮原子结合,其中当该内酰胺环为6-7元内酰胺环时,内酰胺环原子任选地为氧或NR6,且4元内酰胺环或6-7元内酰胺环上的可用碳原子任选地被一或两个独立出现的R36取代;R36在每次出现时独立地为:C1-C6烷基;m为0、1、2或3;且n为3;条件为:当m为0时,R4经C-连接至环A;当m为1时,R4经C-连接至L;且当m为2或3时,R4经N-连接或经C-连接至L。
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