恭喜应用材料公司马克·沙丽获国家专利权
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龙图腾网恭喜应用材料公司申请的专利含铝膜的间隙-填充获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112740397B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980060595.0，技术领域涉及：H01L21/768；该发明授权含铝膜的间隙-填充是由马克·沙丽;拉克马尔·C·卡拉塔拉格;杰弗里·W·安西斯;佐藤达也设计研发完成，并于2019-09-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本含铝膜的间隙-填充在说明书摘要公布了：沉积膜的方法包括在基板表面的特征中以自下而上方式沉积含铝间隙填充膜。基板可连续暴露于含铝前驱物、反应物、氟化剂和蚀刻剂任意次数，以促进特征中膜的自下而上生长。
本发明授权含铝膜的间隙-填充在权利要求书中公布了：1.一种处理方法，包括以下步骤：在基板表面的特征中以自下而上方式沉积含铝间隙-填充膜，所述特征具有底面、顶表面和侧壁，所述侧壁自所述顶表面延伸一深度至所述底面，所述特征具有由第一侧壁与第二侧壁界定的宽度，其中以自下而上方式沉积所述含铝间隙-填充膜的步骤包括：在所述基板表面与所述特征的所述第一侧壁、所述第二侧壁与所述底面上共形地沉积含铝间隙-填充膜；及通过将所述含铝间隙-填充膜暴露于氟化剂以形成集中在所述特征的所述顶表面附近的氟化铝物种、和将所述含铝间隙-填充膜与氟化铝物种暴露于蚀刻剂来以比在所述特征的所述底面处的所述含铝间隙-填充膜更高的蚀刻速度蚀刻在所述特征的所述顶表面附近的所述含铝间隙-填充膜的一部分，非共形地蚀刻沉积在所述基板表面上的所述含铝间隙-填充膜。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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