恭喜武汉颐思谱科技有限公司郭春付获国家专利权
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龙图腾网恭喜武汉颐思谱科技有限公司申请的专利一种多层结构建库方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN118965718B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-01发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202410983881.7,技术领域涉及:G06F30/20;该发明授权一种多层结构建库方法是由郭春付;张成浩;李伟奇设计研发完成,并于2024-07-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种多层结构建库方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种多层结构建库方法,先计算每一层材料的每一种厚度的传输矩阵,并存储在矩阵库中,当在计算多层材料的厚度组合时,可以取出事先保存的每一层材料的每一种厚度的传输矩阵,进行相乘得到每一种厚度组合的传输矩阵,最后再根据每一种厚度组合的传输矩阵,计算对应的光学理论反射率,针对每一种厚度组合,不用再重复计算每一层材料的每一种厚度的传输矩阵,直接从矩阵库中取出传输矩阵进行简单的相乘操作即可,提高了多层结构的建库效率。
本发明授权一种多层结构建库方法在权利要求书中公布了:1.一种多层结构建库方法,其特征在于,包括:步骤S1,计算当前波长下,当前层材料在当前厚度下的传输矩阵;步骤S2,若当前层材料的当前厚度序号a4<当前层材料的厚度网格点数,则a4=a4+1,执行步骤S1;若a4=当前层材料的厚度网格点数,则执行步骤S3;步骤S3,若当前层数序号a3<总层数,则a3=a3+1,执行步骤S1;若当前层数序号a3=总层数,则执行步骤S4;步骤S4,将当前波长下,每一层材料在每一个厚度下的传输矩阵保存在矩阵库中,执行步骤S5;步骤S5,获取多层薄膜结构的多层材料的厚度组合总数,即为厚度组合总网格点数,执行步骤S6;步骤S6,当计算当前波长下的当前厚度组合下的传输矩阵时,从所述矩阵库中找到当前厚度组合对应的每一层材料在相应厚度下的传输矩阵,将每一层材料的传输矩阵相乘得到当前厚度组合下的传输矩阵,执行步骤S7;步骤S7,若当前厚度组合序号a1<厚度组合总网格点数,则a1=a1+1,执行步骤S6;若当前厚度组合序号a1=厚度组合总网格点数,则执行步骤S8;步骤S8,若当前波数a2<总波数,则a2=a2+1,执行步骤S1;若当前波数a2=总波数,则执行步骤S9;步骤S9,获取每一个波长下,每一个厚度组合的多层薄膜结构的传输矩阵,执行步骤S10;步骤S10,根据每一个波长下,每一个厚度组合的多层薄膜结构的传输矩阵,计算相应的理论反射率,执行步骤S11;步骤S11,建立多层薄膜结构的每一个波长下的每一种厚度组合与理论反射率的对应关系,构成仿真光谱库;所述步骤S1之前,还包括:定义每层材料的可能厚度数量Nk,记为第k层材料的厚度网格点数;根据每层材料的可能厚度数量Nk,计算多层薄膜结构的多层材料的厚度组合总数量N=N1×N2×N3×...Nk×....×Nn,n表示多层薄膜结构的总层数;所述步骤S1,计算当前波长下,当前层材料在当前厚度下的传输矩阵,包括: 其中,Tlayer,k表示第k层材料的传输矩阵,qk是第k层材料的传播常数,用来描述光在介质中的传播特性,nk-1是当前第k层的上一层第k-1层介质的折射率,θk-1是光在第k-1层的入射角,以弧度表示,lk是第k层材料的厚度,βk是第k层材料的相位变化,λ是波长,εk是第k层材料的介电常数,i为复数;所述步骤S10,根据每一个波长下,每一个厚度组合的多层薄膜结构的传输矩阵,计算相应的理论反射率,包括:计算多层薄膜结构的入射矩阵和出射矩阵;根据多层薄膜结构的入射矩阵、传输矩阵和出射矩阵,计算多层薄膜结构的总传输矩阵;根据多层薄膜结构的总传输矩阵,计算理论反射率;所述入射矩阵的表达式为: 其中,是入射矩阵的逆矩阵,描述了光从入射环境进入多层介质的过程,θair表示入射角度,单位为弧度,nka表示环境复折射率;所述出射矩阵的表达式为: 其中,Lt表示出射矩阵,描述了光从多层介质出射到最终环境的过程,nka表示环境复折射率,nkt表示由振子模型计算得到的衬底复折射率;所述根据多层薄膜结构的入射矩阵、传输矩阵和出射矩阵,计算多层薄膜结构的总传输矩阵,包括: 其中,Tp表示光从空气分别到复杂多层膜结构,再到空气中的总传输矩阵,表示入射矩阵的逆矩阵,为当前厚度组合下的传输矩阵,Lt为出射矩阵;所述根据多层薄膜结构的总传输矩阵,计算理论反射率,包括:根据多层薄膜结构的总传输矩阵Tp,计算多层薄膜结构对于p偏振光的反射系数rpp和对于s偏振光的反射系数rss: 其中,Tp,11、Tp,21、Tp,33和Tp,43为多层薄膜结构的总传输矩阵Tp中的元素;多层薄膜结构对于p偏振光的反射率Rpp和对于s偏振光的反射率Rss,其中: ,;理论反射率为:
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