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龙图腾网获悉深圳市强峰电子科技有限公司申请的专利一种ITO薄膜沉积装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222700394U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-01发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202420928735.X，技术领域涉及：C23C14/24；该实用新型一种ITO薄膜沉积装置是由王强华;宋永进设计研发完成，并于2024-04-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种ITO薄膜沉积装置在说明书摘要公布了：本实用新型属于ITO薄膜沉积技术领域，具体涉及一种ITO薄膜沉积装置，包括工作台和基材，所述工作台上表面一侧设置有控制台，所述工作台上表面另一侧固定有真空腔室，所述真空腔室顶部敞开，所述真空腔室两侧对称设置有液压升降机构，两个所述液压升降机构输出端固定有升降盖，所述升降盖置于真空腔室上方，所述真空腔室内部下方设置有粒子发射器，所述真空腔室内部设置有ITO靶材，所述ITO靶材置于粒子发射器正上方，所述升降盖顶部设置有电机，将基材一一放置在托盘表面的安装槽内，并通过液压机构控制顶部升降盖移动，继而带动托盘下移进入到真空腔室内部，在下移到位后可通过内部机构带动托盘上方的软压头下移以对基材进行挤压，保持基材的稳定。

本实用新型一种ITO薄膜沉积装置在权利要求书中公布了：1.一种ITO薄膜沉积装置，包括工作台（1）和基材（15），所述工作台（1）上表面一侧设置有控制台（2），所述工作台（1）上表面另一侧固定有真空腔室（3），所述真空腔室（3）顶部敞开，其特征在于：所述真空腔室（3）两侧对称设置有液压升降机构（5），两个所述液压升降机构（5）输出端固定有升降盖（6），所述升降盖（6）置于真空腔室（3）上方，所述真空腔室（3）内部下方设置有粒子发射器（9），所述真空腔室（3）内部设置有ITO靶材（8），所述ITO靶材（8）置于粒子发射器（9）正上方，所述升降盖（6）顶部设置有电机（10），所述电机（10）输出端设置有转轴（12），所述转轴（12）贯穿升降盖（6），所述转轴（12）表面设置有旋转盘（11），所述旋转盘（11）与真空腔室（3）敞口内部尺寸相适配，所述转轴（12）底部设置有托盘（13），所述托盘（13）表面均匀开设有安装槽（14），所述基材（15）置于安装槽（14）内部，所述转轴（12）表面均匀设置有凸块（16），所述凸块（16）与安装槽（14）一一对应，所述凸块（16）内侧垂直滑动贯穿有滑杆（17），所述滑杆（17）底部横向设置有压板（18），所述压板（18）背离滑杆（17）的一端下表面设置有软压头（19），所述软压头（19）悬空置安装槽（14）上方。

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