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龙图腾网恭喜苏州汉天下电子有限公司申请的专利一种谐振器的制作方法及谐振器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113872558B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111152610.X，技术领域涉及：H03H9/02；该发明授权一种谐振器的制作方法及谐振器是由王友良;杨清华设计研发完成，并于2021-09-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种谐振器的制作方法及谐振器在说明书摘要公布了：本发明实施例公开了一种谐振器的制作方法及谐振器。方法包括：基底的第一表面设置有第一凹槽；在基底的第一表面形成第一下电极；第一下电极包括开口，开口的深度等于第一下电极的厚度，开口在基底的垂直投影与第一凹槽不交叠；形成第二下电极，第二下电极的第一部分在基底的垂直投影与开口在基底的垂直投影重合；形成第二牺牲层，第二牺牲仅覆盖第一部分，且第二牺牲层的厚度等于开口的深度；在第二牺牲层远离基底的一侧依次形成压电层和上电极层；对第一牺牲层和第二牺牲层进行处理，形成位于第一部分和压电层之间的空气桥，以及位于基底和下电极之间的空腔。本发明实施例可以实现空气桥的厚度可控，降低谐振器的制作工艺难度。

本发明授权一种谐振器的制作方法及谐振器在权利要求书中公布了：1.一种谐振器的制作方法，其特征在于，包括：提供一基底，所述基底的第一表面设置有第一凹槽，所述第一凹槽内填充有第一牺牲层；在所述基底的第一表面形成第一下电极；其中，所述第一下电极包括开口，沿所述第一下电极的厚度方向所述开口的深度等于所述第一下电极的厚度，所述开口在所述基底的垂直投影与所述第一凹槽不交叠；在所述第一下电极远离所述基底的一侧形成第二下电极，所述第二下电极包括第一部分，所述第一部分在基底的垂直投影与所述开口在所述基底的垂直投影重合；在所述第二下电极远离所述基底的一侧形成第二牺牲层，所述第二牺牲仅覆盖所述第一部分，且第二牺牲层的厚度等于所述开口的深度；在所述第二牺牲层远离所述基底的一侧依次形成压电层和上电极层，所述压电层覆盖所述第二下电极和所述第二牺牲层；对所述第一牺牲层和所述第二牺牲层进行处理，形成位于所述第一部分和所述压电层之间的空气桥，以及位于所述基底和所述第一下电极之间的空腔。

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