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龙图腾网恭喜日产化学株式会社申请的专利单层相位差材料的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116323702B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180066988.X，技术领域涉及：G02B5/30；该发明授权单层相位差材料的制造方法是由山极大辉;藤枝司设计研发完成，并于2021-09-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本单层相位差材料的制造方法在说明书摘要公布了：根据一种单层相位差材料的制造方法，能够制作相位差值及双折射高的单层相位差材料，所述单层相位差材料的制造方法包含以下工序：I将聚合物组合物涂布于基板上并干燥，形成涂膜；以及II对所述涂膜照射偏振光紫外线，所述聚合物组合物包含在侧链具有以波长365nm的光进行光二聚化或光异构化的光反应性部位的聚合物，偏振光紫外线中的波长313nm的光在波长365nm的光与波长313nm的光的合计量中所占的量为10％以下。

本发明授权单层相位差材料的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种单层相位差材料的制造方法，其特征在于，包含以下工序：（I）将聚合物组合物涂布于基板上并干燥，形成涂膜；以及（II）对所述涂膜照射偏振光紫外线，所述聚合物组合物包含在侧链具有以波长365nm的光进行光二聚化或光异构化的光反应性部位的聚合物，所述光反应性部位由下述式（a3）表示： ;式（a3）中，A1表示单键、-O-、-CH2-、-COO-、-OCO-、-CONH-、或-NH-CO-，L表示碳原子数1～12的亚烷基，该亚烷基的氢原子各自独立地被或不被卤素原子替代，Y1表示2价苯环，Q1表示选自苯环和碳原子数5～8的脂环式烃环中的基团，在Y1和Q1中，与苯环键合的氢原子各自独立地被或不被氰基、卤素原子、碳原子数1～5的烷基、碳原子数1～5的烷基羰基、或碳原子数1～5的烷基氧基替代，X1表示单键、-O-、-COO-、或-OCO-，n1为0、1或2，当X1的数量为2时，X1彼此相同或不同，当Q1的数量为2时，Q1彼此相同或不同；虚线表示结合键，所述偏振光紫外线中波长313nm的光在波长365nm的光与波长313nm的光的合计量中所占的量为10%以下，所述单层相位差材料的厚度为0.5～10μm。

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