恭喜湖南普照信息材料有限公司李翼获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网恭喜湖南普照信息材料有限公司申请的专利一种光掩模坯料及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113488378B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110823958.0，技术领域涉及：H01L21/027；该发明授权一种光掩模坯料及其制备方法是由李翼;李伟;周志刚设计研发完成，并于2021-07-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光掩模坯料及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种光掩模胚料，包括：基底；设置在所述基底上的相移层；设置在所述相移层上的遮光膜层；所述遮光膜层包括铬元素、氧元素与碳元素；设置在所述遮光膜层上的低反射膜层；所述低反射膜层包括铬元素、碳元素、氮元素与氧元素。与现有技术相比，本发明通过在遮光膜层及低反射膜层中引入铬碳化合物，可更好地稳定刻蚀均匀性从而得到更好地刻蚀剖面，同时还可在降低薄膜厚度的同时保持其光密度，提高曝光效果；并且薄膜均匀，方阻较小，可有效防止出现静电击穿和静电累积现象。进一步，本发明通过溅射沉积工艺连续堆叠相移膜、遮光膜与低反射膜，使薄膜降低厚度的同时保持光密度不变。
本发明授权一种光掩模坯料及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种光掩模胚料，其特征在于，包括：基底；设置在所述基底上的相移层；所述相移层为氮钼化硅薄膜、硅氧化物薄膜、硅氮化物薄膜或硅氮氧化物薄膜中的任意一种，所述相移层的相移角为179～181度；设置在所述相移层上的遮光膜层；所述遮光膜层包括铬元素、氧元素与碳元素；设置在所述遮光膜层上的低反射膜层；所述低反射膜层包括铬元素、碳元素、氮元素与氧元素；所述遮光膜层中铬元素、氧元素与碳元素的摩尔比为50～70：25～45：1～5；所述低反射膜层中铬元素、碳元素、氮元素与氧元素的摩尔比35～45：2～10：15～20：30～50；所述遮光膜层的厚度为遮光膜层与低反射膜层总厚度的75～85％；所述遮光膜层与低反射膜层的总厚度为70～76nm。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人湖南普照信息材料有限公司，其通讯地址为：410205 湖南省长沙市岳麓区麓枫路40号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号