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龙图腾网获悉武创智达科技(杭州)有限公司申请的专利一种六维力传感器的密封防护结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222719083U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-04发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421593664.9，技术领域涉及：G01L5/16；该实用新型一种六维力传感器的密封防护结构是由孔晓武;苏岚;邹威设计研发完成，并于2024-07-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种六维力传感器的密封防护结构在说明书摘要公布了：本实用新型涉及六维力传感器领域，尤其是一种六维力传感器的密封防护结构。一种六维力传感器的密封防护结构，包括：形变体、下密封圈、上密封圈、底盖、压紧环、加载体和防尘密封圈；形变体的底部形成有下安装槽；形变体的顶部形成有上安装槽；下密封圈位于下安装槽内；上密封圈位于上安装槽内；底盖固定至形变体的底部，挤压下密封圈；压紧环固定至形变体的上部，挤压上密封圈；防尘密封圈位于加载体和压紧环之间；形变体包括：中心体部、外环体部和多个连接部。外环体部设置在中心体部的外周。连接部连接中心体部和外环体部。本实用新型的有益效果是：具有较好的密封效果，提升使用寿命。

本实用新型一种六维力传感器的密封防护结构在权利要求书中公布了：1.一种六维力传感器的密封防护结构，其特征在于，包括：形变体（10）、下密封圈（20）、上密封圈（30）、底盖（40）、压紧环（50）、加载体（60）和防尘密封圈（70）；所述形变体（10）的底部形成有下安装槽；所述形变体（10）的顶部形成有上安装槽；所述下密封圈（20）位于所述下安装槽内；所述上密封圈（30）位于所述上安装槽内；所述底盖（40）固定至所述形变体（10）的底部，挤压所述下密封圈（20）；所述压紧环（50）固定至所述形变体（10）的上部；所述防尘密封圈（70）位于所述加载体（60）和所述压紧环（50）之间；所述加载体（60）固定至所述形变体（10）的上部；所述形变体（10）包括：中心体部（11）、外环体部（12）和多个连接部（13）；所述外环体部（12）设置在所述中心体部（11）的外周；所述连接部（13）连接所述中心体部（11）和所述外环体部（12）；所述加载体（60）的底部和所述中心体部（11）的上表面接触并且所述加载体（60）和所述中心体部（11）从两侧挤压所述上密封圈（30）的内圈；所述压紧环（50）和所述外环体部（12）从两侧挤压所述上密封圈（30）的外圈。

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