恭喜合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司潘晟恺获国家专利权
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龙图腾网恭喜合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利复合涂层、掩膜版及其制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115961239B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310101975.2，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权复合涂层、掩膜版及其制作方法是由潘晟恺;乔永康设计研发完成，并于2023-01-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本复合涂层、掩膜版及其制作方法在说明书摘要公布了：本发明提出了复合涂层、掩膜版及其制作方法。所述复合涂层包括：氧化铝涂层，所述氧化铝涂层具有孔隙；特氟龙膜层，所述特氟龙膜层填充在所述氧化铝涂层的孔隙中。由此，该复合涂层具有良好的耐磨性、耐酸碱腐蚀性，在真空成膜条件下，该复合涂层具有较好的耐刮伤、压伤和静电击伤的性能，并且，将该复合涂层应用于掩膜版，可以延长掩膜版的使用寿命。
本发明授权复合涂层、掩膜版及其制作方法在权利要求书中公布了：1.一种复合涂层，其特征在于，包括：氧化铝涂层，所述氧化铝涂层具有孔隙；特氟龙膜层，所述特氟龙膜层填充在所述氧化铝涂层的孔隙中，所述氧化铝涂层包括环氧树脂和氧化铝，基于所述氧化铝涂层的总质量，所述氧化铝的质量含量为60wt%~65wt%，所述复合涂层的厚度为30μm~100μm。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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