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龙图腾网恭喜常州大学申请的专利一种提高非晶WO₃薄膜光学透过率的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116083865B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211724267.6，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种提高非晶WO₃薄膜光学透过率的方法是由丁媛媛;张世豪;韩福东;王将;苏江滨;陈天琪;戴凌;黄子为设计研发完成，并于2022-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种提高非晶WO₃薄膜光学透过率的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种提高非晶WO3薄膜光学透过率的方法，利用可见光或紫外光充分辐照处理非晶WO3薄膜，能够有效提高WO3薄膜光学透过率，且在提高WO3薄膜的光学透过率、大幅提升样品的透明度的同时其电致变色效率或光学调制也得到提升，方法简单有效，制备成本低廉，具有广阔的应用前景。

本发明授权一种提高非晶WO₃薄膜光学透过率的方法在权利要求书中公布了：1.一种提高非晶WO3薄膜光学透过率的方法，其特征在于：包括，以高纯W靶为靶材，ITO导电玻璃为衬底，通过磁控溅射法制备非晶WO3薄膜；其中，所述磁控溅射法制备非晶WO3薄膜利用磁控溅射镀膜系统实现，对磁控溅射镀膜系统的腔室抽真空至5.0×10-3Pa后通入高纯氩气，通过高阀调节腔室气压后打开射频电源并调节功率，在室温下进行溅射沉积，所述通过高阀调节腔室气压为调节至0.3Pa，所述功率为100W，所述沉积时间为1.5h，制备得到的非晶WO3薄膜为非晶态结构，厚度为100nm；利用可见光或紫外光对非晶WO3薄膜进行充分辐照处理，实现提高非晶WO3薄膜的光学透过率，其中，所述可见光由LED灯珠光源提供，光源功率为50W，工作电压为30V,所述可见光光谱能量分布在400~840nm;所述紫外光由高压汞灯光源提供，光源功率为250W，工作电压为135V,紫外光光谱能量分布在315~450nm，主波长为365nm;所述充分辐照处理在暗室进行，处理时间为24h;所述方法可提高非晶WO3薄膜产品的光学透过率达27%，同时提高光学调制9%，其中，所述光学透过率为非晶WO3薄膜产品在676.2nm波长处的数值。

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